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    Pyrolyzed thin film carbon
    43.
    发明申请
    Pyrolyzed thin film carbon 有权
    热解薄膜碳

    公开(公告)号：US20060007983A1

    公开(公告)日：2006-01-12

    申请号：US11040116

    申请日：2005-01-24

    申请人： Yu-Chong Tai ,  Matthieu Liger ,  Theodore Harder ,  Satoshi Konishi ,  Scott Miserendino

    发明人： Yu-Chong Tai ,  Matthieu Liger ,  Theodore Harder ,  Satoshi Konishi ,  Scott Miserendino

    IPC分类号： G01J5/00

    CPC分类号： C23C18/02

    摘要： A method of making carbon thin films comprises depositing a catalyst on a substrate, depositing a hydrocarbon in contact with the catalyst and pyrolyzing the hydrocarbon. A method of controlling a carbon thin film density comprises etching a cavity into a substrate, depositing a hydrocarbon into the cavity, and pyrolyzing the hydrocarbon while in the cavity to form a carbon thin film. Controlling a carbon thin film density is achieved by changing the volume of the cavity. Methods of making carbon containing patterned structures are also provided. Carbon thin films and carbon containing patterned structures can be used in NEMS, MEMS, liquid chromatography, and sensor devices.

    摘要翻译： 制造碳薄膜的方法包括在基材上沉积催化剂，沉积与催化剂接触的烃并热解烃。 控制碳薄膜密度的方法包括将空腔蚀刻到基底中，将烃沉积到空腔中，并在空腔中热解烃以形成碳薄膜。 通过改变空腔的体积来实现碳薄膜密度的控制。 还提供了制备含碳图案结构的方法。 碳薄膜和含碳图案结构可用于NEMS，MEMS，液相色谱和传感器装置。

    Gas phase silicon etching with bromine trifluoride
    46.
    发明授权
    Gas phase silicon etching with bromine trifluoride 有权
    用三氟化硼气相硅蚀刻

    公开(公告)号：US06436229B2

    公开(公告)日：2002-08-20

    申请号：US09741403

    申请日：2000-12-19

    申请人： Yu-Chong Tai ,  Xuan-Oi Wang

    发明人： Yu-Chong Tai ,  Xuan-Oi Wang

    IPC分类号： B44C122

    CPC分类号： B81C1/00531 ,  B81C99/0025 ,  B81C2201/0132 ,  B81C2201/0138 ,  H01J2237/3344 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/32135 ,  H01L21/67069

    摘要： An apparatus and method for gas-phase bromine trifluoride (BrF3) silicon isotropic room temperature etching system for both bulk and surface micromachining. The gas-phase BrF3 can be applied in a pulse mode and in a continuous flow mode. The etching rate in pulse mode is dependent on gas concentration, reaction pressure, pulse duration, pattern opening area and effective surface area.

    摘要翻译： 用于体相和表面微加工的气相溴化三氟化硼（BrF 3）硅各向同性室温蚀刻系统的装置和方法。 气相BrF3可以以脉冲模式和连续流动模式施加。 脉冲模式下的蚀刻速率取决于气体浓度，反应压力，脉冲持续时间，图案开口面积和有效表面积。

    Microbellows actuator
    49.
    发明授权
    Microbellows actuator 有权
    微型致动器

    公开(公告)号：US6146543A

    公开(公告)日：2000-11-14

    申请号：US427513

    申请日：1999-10-26

    申请人： Yu-Chong Tai ,  Xing Yang

    发明人： Yu-Chong Tai ,  Xing Yang

    IPC分类号： B81B3/00 ,  B82B3/00 ,  H01L21/00 ,  H01L29/82

    CPC分类号： B81B3/007 ,  B81B2201/031

    摘要： A micromachined multi-layered microbellows-style actuator capable of delivering larger deflections compared to a single layered flat membrane of comparable size. Anchor structures are disclosed that improve the strength of the microbellows membrane. A characterization apparatus is used to measure microbellows membrane performance. Thermopneumatic actuators having a resistive heater chip are also disclosed. The microbellows membrane is manufactured by alternating deposition of structural layers and sacrificial layers on a substrate. The structural layers can be made of silicon nitride and the sacrificial layers can be made of polysilicon. The substrate is etched from the back to form an opening exposing the sacrificial layers, and then the membrane is released by etching away the sacrificial layers.

    摘要翻译： 与具有相似尺寸的单层平膜相比，微加工的多层微波导式致动器能够提供更大的偏转。 公开了提高微量膜的强度的锚结构。 使用表征装置来测量微波膜的性能。 还公开了具有电阻加热器芯片的热气动执行器。 微波膜是通过在衬底上交替沉积结构层和牺牲层来制造的。 结构层可以由氮化硅制成，并且牺牲层可以由多晶硅制成。 从背面蚀刻衬底以形成暴露牺牲层的开口，然后通过蚀刻去除牺牲层来释放膜。