公开(公告)号：US08524638B2

公开(公告)日：2013-09-03

申请号：US13591486

申请日：2012-08-22

申请人： Sandeep D. Kulkarni ,  Sharath Savari ,  Arunesh Kumar ,  Matthew L. Miller ,  Robert Murphy ,  Dale E. Jamison

发明人： Sandeep D. Kulkarni ,  Sharath Savari ,  Arunesh Kumar ,  Matthew L. Miller ,  Robert Murphy ,  Dale E. Jamison

IPC分类号： E21B21/00 ,  E21B33/00 ,  E21B33/13 ,  C09K8/32

CPC分类号： C09K8/04 ,  C09K8/32 ,  C09K2208/08 ,  C09K2208/18

摘要： A method for determining a Plug Normal Stress Difference (ΔN1(P)) may include providing a test base drilling fluid that is characterized by N1(TB); adding a first concentration of a test particulate to the test base drilling fluid; adjusting the concentration of the test particulate in the test base drilling fluid to achieve a minimum concentration of the test particulate in the test base drilling fluid that will substantially plug a tapered slot, wherein the test base drilling fluid with the minimum concentration of the test particulate is characterized by N1(TA); and calculating ΔN1(P)=|N1(TA)|−|N1(TB)| wherein each First Normal Stress Difference is measured by the same procedure.

摘要翻译： 用于确定插塞正常应力差（DeltaN1（P））的方法可以包括提供以N1（TB）为特征的测试基础钻井液; 将第一浓度的测试颗粒添加到测试基础钻井液中; 调整测试基础钻井液中的测试颗粒的浓度，以实现基本上堵塞锥形槽的测试基础钻井液中的测试颗粒的最小浓度，其中具有最小浓度的测试颗粒的测试基础钻探流体 特征为N1（TA）; 并计算ΔN1（P）= | N1（TA）| - | N1（TB）| 其中通过相同的程序测量每个第一正常应力差。

公开(公告)号：US20130218545A1

公开(公告)日：2013-08-22

申请号：US13401651

申请日：2012-02-21

申请人： Robert J. Murphy ,  Dale E. Jamison ,  Matthew L. Miller

发明人： Robert J. Murphy ,  Dale E. Jamison ,  Matthew L. Miller

IPC分类号： G06G7/48

CPC分类号： G01N33/2823 ,  E21B43/26 ,  G01N33/24

摘要： Apparatus and methods for simulation of bore hole fractures are disclosed. A device for simulating a fracture in a subterranean formation comprises a housing, an inlet for directing a sample fluid to the housing, and a first disk and a second disk positioned within the housing. The second disk is movable relative to the first disk to form an adjustable gap between the first disk and the second disk and the sample fluid flows through the adjustable gap. A common collector receives at least a portion of the sample fluid that flows through at least one of the first disk and the second disk.

摘要翻译： 公开了用于模拟钻孔裂缝的装置和方法。 用于模拟地下地层中的断裂的装置包括壳体，用于将样品流体引导到壳体的入口，以及定位在壳体内的第一盘和第二盘。 第二盘相对于第一盘可移动，以在第一盘和第二盘之间形成可调节的间隙，并且样品流体流过可调节间隙。 公共收集器接收流过第一盘和第二盘中的至少一个的样品流体的至少一部分。

公开(公告)号：US08341100B2

公开(公告)日：2012-12-25

申请号：US12496802

申请日：2009-07-02

申请人： Matthew L. Miller ,  Christopher Malon

发明人： Matthew L. Miller ,  Christopher Malon

IPC分类号： G06E1/00 ,  G06E3/00 ,  G06F15/18 ,  G06G7/00 ,  G06N3/02

CPC分类号： G06K9/4628 ,  G06K9/0014 ,  G06K9/00147 ,  G06K9/2018 ,  G06N3/0454

摘要： An epithelial detector and method for automatically identifying epithelial portions of a tissue sample, includes: staining the tissue sample with at least two dyes; applying a color transformation to a color image of the tissue sample to obtain one or more color channels; and applying a trained convolutional neural network to the color channels to obtain a decision for position in the tissue as to whether it is inside or outside an epithelial layer. Also, a method for training the convolutional neural network.

摘要翻译： 用于自动识别组织样品的上皮部分的上皮检测器和方法包括：用至少两种染料染色组织样品; 对组织样本的彩色图像应用颜色变换以获得一个或多个颜色通道; 以及将经过训练的卷积神经网络应用于所述颜色通道以获得组织中位于所述上皮层内部或外部的位置的决定。 另外，一种训练卷积神经网络的方法。

公开(公告)号：US20120264658A1

公开(公告)日：2012-10-18

申请号：US13150942

申请日：2011-06-01

申请人： Sandeep D. Kulkarni ,  Sharath Savari ,  Arunesh Kumar ,  Matthew L. Miller ,  Robert Murphy ,  Dale E. Jamison

发明人： Sandeep D. Kulkarni ,  Sharath Savari ,  Arunesh Kumar ,  Matthew L. Miller ,  Robert Murphy ,  Dale E. Jamison

IPC分类号： C09K8/32 ,  G06F19/00

CPC分类号： C09K8/04 ,  C09K8/32 ,  C09K2208/08 ,  C09K2208/18

摘要： Of the many compositions and methods provided herein, one method includes providing a drilling fluid comprising a base drilling fluid and a plurality of particulates, wherein the base drilling fluid without the particulates is characterized by N1(B) and wherein the base drilling fluid with the particulates is characterized by N1(A); and adjusting a concentration of the particulates in the drilling fluid by comparing the value of ΔN1(F) to ΔN1(P) so that ΔN1(F)≧ΔN1(P), wherein ΔN1(F)=|N1(A)|−|N1(B)|.

摘要翻译： 在本文提供的许多组合物和方法中，一种方法包括提供包括基础钻井流体和多个颗粒的钻井流体，其中不具有颗粒的基础钻井流体的特征在于N1（B），并且其中基础钻井流体具有 颗粒物的特征为N1（A）; 通过比较Dgr; N1（F）与＆Dgr; N1（P）的值，使得Dgr; N1（F）≥＆Dgr; N1（P），其中＆Dgr; N1（P），调整钻井液中的微粒浓度; F）= | N1（A）| - | N1（B）|。

公开(公告)号：US20120180954A1

公开(公告)日：2012-07-19

申请号：US13251663

申请日：2011-10-03

申请人： Jang-Gyoo Yang ,  Matthew L. Miller ,  Xinglong Chen ,  Kien N. Chuc ,  Qiwei Liang ,  Shankar Venkataraman ,  Dmitry Lubomirsky

发明人： Jang-Gyoo Yang ,  Matthew L. Miller ,  Xinglong Chen ,  Kien N. Chuc ,  Qiwei Liang ,  Shankar Venkataraman ,  Dmitry Lubomirsky

IPC分类号： C23F1/02 ,  C23C16/458 ,  C23C16/455 ,  C23C16/50

CPC分类号： H05H1/24 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45585 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32532 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32724 ,  H01L21/02274

摘要： Substrate processing systems are described that have a capacitively coupled plasma (CCP) unit positioned inside a process chamber. The CCP unit may include a plasma excitation region formed between a first electrode and a second electrode. The first electrode may include a first plurality of openings to permit a first gas to enter the plasma excitation region, and the second electrode may include a second plurality of openings to permit an activated gas to exit the plasma excitation region. The system may further include a gas inlet for supplying the first gas to the first electrode of the CCP unit, and a pedestal that is operable to support a substrate. The pedestal is positioned below a gas reaction region into which the activated gas travels from the CCP unit.

摘要翻译： 描述了具有位于处理室内的电容耦合等离子体（CCP）单元的衬底处理系统。 CCP单元可以包括形成在第一电极和第二电极之间的等离子体激发区域。 第一电极可以包括允许第一气体进入等离子体激发区域的第一多个开口，并且第二电极可以包括允许活化气体离开等离子体激发区域的第二多个开口。 该系统还可以包括用于将第一气体供应到CCP单元的第一电极的气体入口和可操作以支撑衬底的基座。 基座位于气体反应区域的下方，活性气体从CCP单元行进。

公开(公告)号：US20110062085A1

公开(公告)日：2011-03-17

申请号：US12559713

申请日：2009-09-15

申请人： Jay P. Deville ,  Matthew L. Miller ,  Stephen W. Almond ,  Douglas J. Harrison

发明人： Jay P. Deville ,  Matthew L. Miller ,  Stephen W. Almond ,  Douglas J. Harrison

IPC分类号： C02F1/52

CPC分类号： C02F1/705 ,  C02F1/001 ,  C02F2101/20 ,  C02F2103/10

摘要： A method for the removal of soluble metal ion contamination from fluids is disclosed. The method includes passing the contaminated fluid through a filter medium comprising a reducing metal and a filter aid, such as diatomaceous earth, and collecting a filtrate with lower concentration of soluble metal ion contamination. The reducing metal can have a reduction potential of from −0.50 volt to −3.10 volt and can be capable of reducing the soluble metal ions to insoluble metal, which can then be entrapped in the filter medium or otherwise separated.

摘要翻译： 公开了一种从流体中除去可溶性金属离子污染物的方法。 该方法包括使污染的流体通过包含还原性金属和助滤剂如硅藻土的过滤介质，并收集较低浓度的可溶性金属离子污染物的滤液。 还原金属可以具有-0.50伏特到-3.10伏特的还原电位，并且能够将可溶性金属离子还原成不溶性金属，然后可以将其截留在过滤介质中或以其他方式分离。

公开(公告)号：US20100098882A1

公开(公告)日：2010-04-22

申请号：US12581600

申请日：2009-10-19

申请人： Dmitry Lubomirsky ,  Jang Gyoo Yang ,  Qiwei Liang ,  Matthew L. Miller ,  James Santosa ,  Xinglong Chen ,  Paul F. Smith

发明人： Dmitry Lubomirsky ,  Jang Gyoo Yang ,  Qiwei Liang ,  Matthew L. Miller ,  James Santosa ,  Xinglong Chen ,  Paul F. Smith

IPC分类号： C23C16/50 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C16/4405 ,  H01J37/32036 ,  H01J37/32045 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32183 ,  H01J37/32357

摘要： Apparatus and methods for processing a substrate and processing a process chamber are provided. In one embodiment, an apparatus is provided for processing a substrate including a power source, a switch box coupled to the power source and the switch box having a switch interchangeable between a first position and a second position, a first match box coupled to the switch box, a plasma generator coupled to the first match box, a second match box coupled to the switch box, and a remote plasma source coupled to the second match box.

摘要翻译： 提供了用于处理基板和处理处理室的装置和方法。 在一个实施例中，提供一种用于处理包括电源，耦合到电源的开关盒和具有可在第一位置和第二位置之间互换的开关的开关盒的基板的设备，耦合到开关的第一匹配盒 耦合到第一匹配盒的等离子体发生器，耦合到开关盒的第二匹配盒以及耦合到第二匹配盒的远程等离子体源。

公开(公告)号：US20090294062A1

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：US12128963

申请日：2008-05-29

申请人： Steven C. Shannon ,  Kartik Ramaswamy ,  Daniel J. Hoffman ,  Matthew L. Miller ,  Kenneth S. Collins

发明人： Steven C. Shannon ,  Kartik Ramaswamy ,  Daniel J. Hoffman ,  Matthew L. Miller ,  Kenneth S. Collins

IPC分类号： C23C16/505 ,  C23F1/02

CPC分类号： H01J37/32935 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32183

摘要： In a plasma reactor employing source and bias RF power generators, plasma is stabilized against an engineered transient in the output of either the source or bias power generator by a compensating modulation in the other generator.

摘要翻译： 在采用源和偏压射频功率发生器的等离子体反应器中，等离子体通过在另一发生器中的补偿调制而在源极或偏置功率发生器的输出中的设计瞬态稳定。

公开(公告)号：US20080110567A1

公开(公告)日：2008-05-15

申请号：US11751575

申请日：2007-05-21

申请人： Matthew L. Miller ,  Daniel J. Hoffman ,  Steven C. Shannon ,  Michael Kutney ,  James Carducci ,  Andrew Nguyen

发明人： Matthew L. Miller ,  Daniel J. Hoffman ,  Steven C. Shannon ,  Michael Kutney ,  James Carducci ,  Andrew Nguyen

IPC分类号： H01L21/306

CPC分类号： H01J37/32633 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449

摘要： A plasma reactor with plasma confinement and plasma radial distribution capability. The reactor comprises a reactor chamber including a side wall and a workpiece support pedestal in the chamber and defining a pumping annulus between the pedestal and side wall and a pumping port at a bottom of the pumping annulus. The reactor further comprises a means for confining gas flow in an axial direction through the pumping annulus to prevent plasma from flowing to the pumping port. The reactor further comprises a means for compensating for asymmetry of gas flow pattern across the pedestal arising from placement of the pumping port. The reactor further comprises a means for controlling plasma distribution having an inherent tendency to promote edge-high plasma density distribution. The means for confining gas flow is depressed below the workpiece support sufficiently to compensate for the edge-high plasma distribution tendency of the means for controlling plasma distribution.

摘要翻译： 一种具有等离子体约束和等离子体径向分布能力的等离子体反应器。 该反应器包括反应室，该反应室包括室中的侧壁和工件支撑基座，并且在基座和侧壁之间限定了泵送环形空间以及在泵送环空的底部的泵送端口。 反应器还包括用于将气流沿轴向限制通过泵送环的装置，以防止等离子体流到泵送端口。 所述反应器还包括用于补偿穿过所述基座的由所述泵送端口的放置产生的气流图案的不对称性的装置。 反应器还包括用于控制具有促进边缘 - 高等离子体密度分布的固有倾向的等离子体分布的装置。 用于限制气流的装置在工件支撑下方被压下，足以补偿用于控制等离子体分布的装置的边缘 - 高等离子体分布趋势。

公开(公告)号：US06996249B2

公开(公告)日：2006-02-07

申请号：US10115999

申请日：2002-04-04

申请人： Matthew L. Miller ,  Ingemar J. Cox

发明人： Matthew L. Miller ,  Ingemar J. Cox

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G06T1/005 ,  G06T1/0028 ,  G06T2201/0051 ,  G06T2201/0052 ,  G06T2201/0061 ,  G06T2201/0065 ,  G06T2201/0202

摘要： A watermark message embedded in a cover work can be made robust to various types of post-embedding operations, while simultaneously minimizing perceptual impact on the cover work. This is accomplished by the informed coding of the watermark message to be embedded. This is also accomplished by the informed embedding of the watermark message code in the cover work. Finally, the watermark message code may be perceptually shaped to minimize impact on the fidelity of the watermarked work. Further, these techniques may be combined for maximum effect.