公开(公告)号：US6077720A

公开(公告)日：2000-06-20

申请号：US213124

申请日：1998-12-15

申请人： Yoshifumi Yamaoka ,  Satoshi Watanabe ,  Norihide Yamada ,  Eric Marenger

发明人： Yoshifumi Yamaoka ,  Satoshi Watanabe ,  Norihide Yamada ,  Eric Marenger

IPC分类号： H01L21/301 ,  H01L21/304 ,  H01L33/02 ,  H01S5/00 ,  H01S5/02 ,  H01S5/028 ,  H01S5/323 ,  H01L21/00 ,  H01L21/46

CPC分类号： H01S5/0201 ,  H01S5/0202 ,  H01S5/0213 ,  H01S5/028 ,  H01S5/32341 ,  Y10S438/959

摘要： A method for fabricating opto-electronic devices having a surface that includes a first mirror facet in a first semiconductor layer deposited on a wafer. The mirror facet is located in a first facet plane. In the method of the present invention, the wafer is divided along a first line to create a segment having the mirror facet located therein. The segment is fixed to a fixture that moves in relation to a dicing disk that has a first planar surface in which polishing grit is embedded. The segment is fixed to a mounting surface such that the first plane is aligned parallel to the first planar surface of the dicing disk. The dicing disk is caused to rotate while the first planar surface is in contact with the segment, but not in contact with the mounting surface, thereby polishing a surface of the segment. For opto-electronic devices that include a second mirror facet in a second facet plane, the second facet plane being parallel to the first facet plane and displaced therefrom, the wafer is also divided along the second line such that the segment also includes the second facet plane. The second mirror surface is polished by causing the dicing disk to rotate while the second planar surface is in contact with the segment along the second line. The present invention can be practiced with a conventional dicing saw.

摘要翻译： 一种用于制造具有在沉积在晶片上的第一半导体层中包括第一镜面的表面的光电器件的方法。 镜面位于第一小平面。 在本发明的方法中，沿着第一条线分割晶片以形成具有位于其中的镜面的部分。 该段被固定到相对于具有嵌入抛光砂粒的第一平坦表面的切割盘移动的夹具。 该段固定到安装表面，使得第一平面平行于切割盘的第一平面表面对准。 当第一平面与片段接触而不与安装表面接触时，切割盘旋转，从而抛光片段的表面。 对于在第二面平面中包括第二镜面的光电子器件，第二刻面平行于第一刻面并从其移位，晶片也沿第二线分割，使得该片段还包括第二刻面 飞机 第二镜面通过使切割盘旋转而第二平面与沿着第二线的片段接触而被抛光。 本发明可以用传统的切割锯来实现。

公开(公告)号：US6030746A

公开(公告)日：2000-02-29

申请号：US831749

申请日：1997-04-01

申请人： Takeshi Nagata ,  Satoshi Watanabe ,  Tsunehiro Nishi ,  Jun Hatakeyama ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara

发明人： Takeshi Nagata ,  Satoshi Watanabe ,  Tsunehiro Nishi ,  Jun Hatakeyama ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara

IPC分类号： C07C43/205 ,  C07C43/30 ,  C07C43/303 ,  C07C43/315 ,  C07C43/32 ,  C07C69/28 ,  C07C69/30 ,  C07C69/712 ,  C07C69/96 ,  C07F7/06 ,  C07F7/08 ,  C07F7/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07C43/303 ,  C07C69/96 ,  G03F7/0045 ,  C07C2101/14 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/118

摘要： Di- or triphenyl monoterpene hydrocarbon derivatives of formula (1) are novel. ##STR1## X is a di- or trivalent monoterpene hydrocarbon group, R.sup.1 to R.sup.3 are hydrogen or an alkyl, alkoxy, alkoxyalkyl, alkenyl or aryl group, R.sup.4 is hydrogen or an acid labile group, at least one R.sup.4 being an acid labile group, letter n is an integer of 1-5, j, k and m are integers of 0-4, n+j+k+m=5, and p is 2 or 3. When used as a dissolution rate regulator, the compound of formula (1) exerts remarkably enhanced dissolution inhibitory effect and minimized light absorption in the deep-UV region. A chemically amplified positive resist composition having the compound of formula (1) blended therein is highly sensitive to actinic radiation such as deep-UV radiation, electron beam and X-ray, especially KrF excimer laser light, and has improved sensitivity, resolution and plasma etching resistance.

摘要翻译： 式（1）的二 - 或三苯基单萜烃衍生物是新颖的。 X是二价或三价单萜烃基，R 1至R 3是氢或烷基，烷氧基，烷氧基烷基，烯基或芳基，R 4是氢或酸不稳定基团，至少一个R 4是酸不稳定基团，字母n 是1-5的整数，j，k和m是0-4，n + j + k + m = 5的整数，p是2或3.当用作溶出速率调节剂时，式 1）在深紫外区域发挥显着增强的溶解抑制作用和最小化的光吸收。 具有其中混合的式（1）化合物的化学放大正性抗蚀剂组合物对光化辐射如深UV辐射，电子束和X射线，特别是KrF准分子激光具有高度敏感性，并且具有改善的灵敏度，分辨率和等离子体 耐腐蚀性。

公开(公告)号：US5880169A

公开(公告)日：1999-03-09

申请号：US742324

申请日：1996-11-01

申请人： Yoichi Osawa ,  Satoshi Watanabe ,  Katsuya Takemura ,  Shigehiro Nagura ,  Akinobu Tanaka ,  Yoshio Kawai

发明人： Yoichi Osawa ,  Satoshi Watanabe ,  Katsuya Takemura ,  Shigehiro Nagura ,  Akinobu Tanaka ,  Yoshio Kawai

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0045

摘要： The invention provides a novel sulfonium salt having at least one acid labile group attached to a phenyl group in a molecule and a normal, branched or cyclic C.sub.1 -C.sub.20 alkylsulfonate anion. The novel sulfonium salt is effective for increasing the dissolution contrast between exposed and unexposed areas. Upon exposure, it generates an alkylsulfonic acid which is a weak acid, minimizing the influence of side reaction and deactivation during PEB step. The sulfonium salt is useful in a chemically amplified positive resist composition which lends itself to fine patterning and features high resolution.

摘要翻译： 本发明提供了一种新的锍盐，其具有至少一个与分子中的苯基连接的酸不稳定基团以及正，支链或环状的C 1 -C 20烷基磺酸根阴离子。 新型锍盐对于增加曝光和未曝光区域之间的溶解度对比是有效的。 暴露后，产生弱酸的烷基磺酸，使PEB步骤中副反应和失活的影响最小化。 锍盐可用于化学放大的正性抗蚀剂组合物，其具有精细的图案化并具有高分辨率。

公开(公告)号：US5728508A

公开(公告)日：1998-03-17

申请号：US672961

申请日：1996-07-01

申请人： Katsuya Takemura ,  Toshinobu Ishihara ,  Satoshi Watanabe ,  Kazumasa Maruyama ,  Hirofumi Kishita ,  Kouichi Yamaguchi

发明人： Katsuya Takemura ,  Toshinobu Ishihara ,  Satoshi Watanabe ,  Kazumasa Maruyama ,  Hirofumi Kishita ,  Kouichi Yamaguchi

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03C1/835

CPC分类号： G03F7/091

摘要： A method of forming a resist pattern comprising forming a photoresist layer on a substrate, forming a transparent anti-reflective film on said photoresist layer by applying an anti-reflective material onto said photoresist layer, said anti-reflective material comprising a fluorinated resin which is soluble in an organic hydrocarbon solvent, exposing a light to said resist layer through said transparent anti-reflective film, removing said anti-reflective film using an organic hydrocarbon solvent, and developing said photoresist layer.

摘要翻译： 一种形成抗蚀剂图案的方法，包括在基材上形成光致抗蚀剂层，在所述光致抗蚀剂层上形成透明的抗反射膜，通过在所述光致抗蚀剂层上施加抗反射材料，所述抗反射材料包括氟化树脂， 可溶于有机烃溶剂中，通过所述透明抗反射膜将光暴露于所述抗蚀剂层，使用有机烃溶剂除去所述抗反射膜，并显影所述光致抗蚀剂层。

公开(公告)号：US5726397A

公开(公告)日：1998-03-10

申请号：US544366

申请日：1995-10-17

申请人： Teruaki Mukai ,  Satoshi Watanabe

发明人： Teruaki Mukai ,  Satoshi Watanabe

IPC分类号： F01N1/00 ,  F01N1/02 ,  F01N1/08 ,  F01N1/24 ,  F01N13/02 ,  F01N7/02

CPC分类号： F01N13/02 ,  F01N1/003 ,  F01N1/02 ,  F01N1/084 ,  F01N1/24 ,  F01N2490/155

摘要： A vehicle exhaust device including a rear silencer disposed at the rear portion of a vehicle, a large-capacity silencer having a capacity larger than that of the rear silencer and disposed below a passenger compartment of the vehicle, and an intermediate silencer disposed substantially at the middle of an exhaust tube interconnecting the rear silencer and the large-capacity silencer. With the vehicle exhaust device thus arranged, exhaust noises can be attenuated at a position near an engine forming a noise source, i.e., at the early stage of transmission and with substantially reduced length-dependent resonance of the exhaust tube.

摘要翻译： 一种车辆排气装置，包括设置在车辆后部的后消声器，具有大于后消音器的容量的大容量消声器并且设置在车辆的乘客室下方，以及大致位于车辆的后方的中间消声器 连接后消音器和大容量消音器的排气管的中间。 通过这样布置的排气装置，排气噪声可以在形成噪声源的发动机附近，即在传动的早期阶段和排气管的依赖于长度的共振基本上减小的位置被衰减。

公开(公告)号：US5679496A

公开(公告)日：1997-10-21

申请号：US566703

申请日：1995-12-04

申请人： Youichi Ohsawa ,  Satoshi Watanabe ,  Katsuyuki Oikawa ,  Akinobu Tanaka ,  Yoshio Kawai ,  Jiro Nakamura

发明人： Youichi Ohsawa ,  Satoshi Watanabe ,  Katsuyuki Oikawa ,  Akinobu Tanaka ,  Yoshio Kawai ,  Jiro Nakamura

IPC分类号： C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C381/12 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A chemically amplified positive resist composition contains a novel trifluoromethanesulfonic or p-toluenesulfonic acid sulfonium salt having at least one tert-butoxycarbonylmethoxy group as an acid labile group. The composition is highly sensitive to high energy radiation, especially KrF excimer laser and has high sensitivity, resolution and plasma etching resistance while the resulting resist pattern is heat resistant.

摘要翻译： 化学放大正型抗蚀剂组合物含有具有至少一个叔丁氧基羰基甲氧基作为酸不稳定基团的新型三氟甲磺酸或对甲苯磺酸锍盐。 该组合物对高能辐射高度敏感，特别是KrF准分子激光器，并且具有高灵敏度，分辨率和等离子体耐蚀刻性，同时产生的抗蚀剂图案是耐热的。

公开(公告)号：US5624787A

公开(公告)日：1997-04-29

申请号：US466690

申请日：1995-06-06

申请人： Satoshi Watanabe ,  Katsuyuki Oikawa ,  Toshinobu Ishihara ,  Akinobu Tanaka ,  Tadahito Matsuda ,  Yoshio Kawai

发明人： Satoshi Watanabe ,  Katsuyuki Oikawa ,  Toshinobu Ishihara ,  Akinobu Tanaka ,  Tadahito Matsuda ,  Yoshio Kawai

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

摘要： A chemically amplified, positive resist composition contains a trifluoromethanesulfonic or p-toluenesulfonic acid bis- or tris(p-tert-butoxyphenyl)sulfonium salt and a nitrogenous compound. The composition is highly sensitive to high energy radiation, especially KrF excimer laser and has high sensitivity, resolution and plasma etching resistance while the resulting resist pattern is heat resistant.

摘要翻译： 化学增幅阳性抗蚀剂组合物含有三氟甲磺酸或对甲苯磺酸双或三（对叔丁氧基苯基）锍盐和含氮化合物。 该组合物对高能辐射高度敏感，特别是KrF准分子激光器，并且具有高灵敏度，分辨率和等离子体耐蚀刻性，同时产生的抗蚀剂图案是耐热的。

公开(公告)号：US5096936A

公开(公告)日：1992-03-17

申请号：US476923

申请日：1990-02-08

申请人： Kenji Seko ,  Satoshi Watanabe ,  Naozumi Iwasawa

发明人： Kenji Seko ,  Satoshi Watanabe ,  Naozumi Iwasawa

IPC分类号： C08G59/20 ,  C07D303/16 ,  C08F4/12 ,  C08F20/32 ,  C08G59/00 ,  C08G59/32 ,  C08G59/68 ,  G03F7/029 ,  G03F7/038

CPC分类号： C08G59/68 ,  C08G59/3209 ,  G03F7/029 ,  G03F7/038

摘要： The invention provides a photo-crosslinkable resin composition consisting essentially of an acrylic resin having alicyclic epoxy groups and a photo cationic polymerization initiator.

摘要翻译： 本发明提供一种基本上由具有脂环族环氧基的丙烯酸树脂和光阳离子聚合引发剂组成的光交联性树脂组合物。

公开(公告)号：USD284467S

公开(公告)日：1986-07-01

申请号：US492758

申请日：1983-05-09

申请人： Haruo Baba ,  Teisuke Kurosu ,  Fumiharu Ohta ,  Kazumasa Takenaka ,  Satoshi Watanabe

设计人： Haruo Baba ,  Teisuke Kurosu ,  Fumiharu Ohta ,  Kazumasa Takenaka ,  Satoshi Watanabe

公开(公告)号：US4554482A

公开(公告)日：1985-11-19

申请号：US321965

申请日：1981-11-16

申请人： Takeo Kamegaya ,  Satoshi Watanabe

发明人： Takeo Kamegaya ,  Satoshi Watanabe

IPC分类号： H01J9/02 ,  H01J17/06 ,  H01J17/49 ,  H01J61/06

CPC分类号： H01J17/04 ,  H01J17/06 ,  H01J17/49

摘要： A DC gas discharge display panel is described, having a cathode which is formed by depositing a metal and/or a metal compound on a substrate of the DC gas discharge display panel or a cathode substrate by the application of plasma spray utilizing plasma generated by the discharge of a rare gas, or a mixed gas of a rare gas and hydrogen and/or nitrogen.

摘要翻译： 描述了一种直流气体放电显示面板，其具有阴极，该阴极通过使用等离子体喷射，其中所述阴极通过使用等离子体喷涂而形成，所述阴极通过在所述DC气体放电显示面板或阴极基板的基板上沉积金属和/ 稀释气体的排出，或稀有气体与氢气和/或氮气的混合气体的排出。