公开(公告)号：US08514365B2

公开(公告)日：2013-08-20

申请号：US11806662

申请日：2007-06-01

申请人： Frederik Eduard De Jong ,  Marcel Hendrikus Maria Beems ,  Marinus Aart Van Den Brink ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Leon Martin Levasier ,  Frits Van Der Meulen ,  Joost Jeroen Ottens ,  Koen Jacobus Johannes Maria Zaal ,  Richard Bernardus Johannes Droste ,  Johannes Wilhelmus De Klerk ,  Peter Franciscus Wanten ,  Jan Cornelis Van Der Hoeven ,  Edwin Cornelis Kadijk ,  Marteijn De Jong ,  David Lucien Anstotz

发明人： Frederik Eduard De Jong ,  Marcel Hendrikus Maria Beems ,  Marinus Aart Van Den Brink ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Leon Martin Levasier ,  Frits Van Der Meulen ,  Joost Jeroen Ottens ,  Koen Jacobus Johannes Maria Zaal ,  Richard Bernardus Johannes Droste ,  Johannes Wilhelmus De Klerk ,  Peter Franciscus Wanten ,  Jan Cornelis Van Der Hoeven ,  Edwin Cornelis Kadijk ,  Marteijn De Jong ,  David Lucien Anstotz

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/68 ,  G03B27/58 ,  G03B27/60 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716

摘要： An immersion lithographic apparatus is described with a drain configured to remove liquid from a gap between an edge of the substrate and the substrate table on which the substrate is supported. The drain is provided with a means to provide liquid to the drain irrespective of the position of the substrate table and/or a means to saturate gas within the drain. Those measures reduce the variations in heat load due to evaporation of liquid in the drain.

摘要翻译： 浸没式光刻设备被描述为具有排出构造以从衬底的边缘和其上支撑衬底的衬底台之间的间隙去除液体的漏液。 排水管设置有向衬底提供液体的装置，而与衬底台的位置无关，和/或使排水管内的气体饱和的装置。 这些措施减少了由于排水管中的液体蒸发导致的热负荷变化。

公开(公告)号：US08462313B2

公开(公告)日：2013-06-11

申请号：US12818724

申请日：2010-06-18

申请人： Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Hans Jansen ,  Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Gerardus Adrianus Antonius Maria Kusters ,  Marcio Alexandre Cano Miranda ,  Gheorghe Tanasa

发明人： Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Hans Jansen ,  Jeroen Peter Johannes Bruijstens ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Gerardus Adrianus Antonius Maria Kusters ,  Marcio Alexandre Cano Miranda ,  Gheorghe Tanasa

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： An immersion lithographic apparatus comprising a surface which is curved such that a surface-tension drainage force acts in a direction on a film of immersion liquid on the surface.

摘要翻译： 一种浸没式光刻设备，其包括弯曲的表面，使得表面张力引流力沿表面上的浸没液体的膜上的方向作用。

公开(公告)号：US20130045447A1

公开(公告)日：2013-02-21

申请号：US13586728

申请日：2012-08-15

申请人： Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Coen Cornelis Wilhelmus Verspaget ,  Ronald Van Der Ham ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Martijn Houben ,  Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Gregory Martin Mason Corcoran ,  Ruud Hendrikus Martinus Johannes Bloks ,  Gerben Pieterse ,  Pieter Lein Joseph Gunter ,  Marinus Jan Remie ,  Sander Catharina Reinier Derks

发明人： Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Coen Cornelis Wilhelmus Verspaget ,  Ronald Van Der Ham ,  Ivo Adam Johannes Thomas ,  Martijn Houben ,  Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Gregory Martin Mason Corcoran ,  Ruud Hendrikus Martinus Johannes Bloks ,  Gerben Pieterse ,  Pieter Lein Joseph Gunter ,  Marinus Jan Remie ,  Sander Catharina Reinier Derks

IPC分类号： B23Q3/00 ,  G03F7/20 ,  H05B3/68

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/70341

摘要： A support table configured to support a substrate, the support table having a support section to support a substrate and a conditioning system to supply heat energy to and/or remove heat energy from the support section, wherein the conditioning system comprises a plurality of conditioning units that are independently controllable.

摘要翻译： 支撑台，其被配置为支撑基板，所述支撑台具有支撑部分以支撑基板和调节系统以向所述支撑部分提供热能和/或从所述支撑部分移除热能，其中所述调节系统包括多个调节单元 这是独立可控的。

公开(公告)号：US20130038854A1

公开(公告)日：2013-02-14

申请号：US13569926

申请日：2012-08-08

申请人： Johan Gertrudis Cornelis KUNNEN ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Martijn Houben ,  Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Frank Johannes Jacobus Van Boxtel ,  Sander Catharina Reinier Derks

发明人： Johan Gertrudis Cornelis KUNNEN ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Martijn Houben ,  Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Frank Johannes Jacobus Van Boxtel ,  Sander Catharina Reinier Derks

IPC分类号： G03B27/60

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70875 ,  H01L21/683

摘要： A substrate table assembly, an immersion lithographic apparatus and a device manufacturing method are disclosed. The substrate table assembly includes a substrate table to support a substrate; and a gas handling system to provide a gas to a region between the substrate table and a substrate mounted on the substrate table, wherein the gas provided by the gas handling system has a thermal conductivity greater than or equal to 100 mW/(m.K) at 298 K.

摘要翻译： 公开了一种衬底台组件，浸没式光刻设备和器件制造方法。 衬底台组件包括用于支撑衬底的衬底台; 以及气体处理系统，用于向衬底台和安装在衬底台上的衬底之间的区域提供气体，其中由气体处理系统提供的气体具有大于或等于100mW /（mK）的热导率， 298 K.

公开(公告)号：US20110287371A1

公开(公告)日：2011-11-24

申请号：US13094243

申请日：2011-04-26

申请人： Nina Vladimirovna DZIOMKINA ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Michel Riepen ,  Fabrizio Evangelista

发明人： Nina Vladimirovna DZIOMKINA ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Michel Riepen ,  Fabrizio Evangelista

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/52 ,  B05D3/06

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7095

摘要： A component of an immersion system of a lithographic apparatus is disclosed having a superhydrophobic surface which in use is not exposed to DUV radiation. Also, there is disclosed a surface of a lithographic apparatus which may come into contact with immersion liquid and is a threshold distance from a surface exposed in use to the projection beam has a superhydrophobic property.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备的浸没系统的组件，其具有超疏水表面，其在使用中不暴露于DUV辐射。 此外，公开了可以与浸没液接触的光刻设备的表面，并且与使用中暴露于投影光束的表面的阈值距离具有超疏水性。

公开(公告)号：US08003968B2

公开(公告)日：2011-08-23

申请号：US12219606

申请日：2008-07-24

申请人： Joost Jeroen Ottens ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

发明人： Joost Jeroen Ottens ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A method of helping to prevent liquid reaching under a substrate is disclosed that includes introducing a gas at a bottom edge of the substrate so that a buffer is created at the edge of the substrate, helping to keep immersion liquid that is present at the top and edge of the substrate away from the bottom surface of the substrate.

摘要翻译： 公开了一种有助于防止液体到达衬底的方法，其包括在衬底的底部边缘处引入气体，使得在衬底的边缘产生缓冲液，有助于保持存在于顶部的浸没液体，以及 衬底的边缘远离衬底的底表面。

公开(公告)号：US20110181849A1

公开(公告)日：2011-07-28

申请号：US13010002

申请日：2011-01-20

申请人： Hrishikesh PATEL ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Gerardus Adrianus Antonius Maria Kusters ,  Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Marcio Alexandre Cano Miranda ,  Ruud Hendricus Martinus Johannes Bloks ,  Peng Feng ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen

发明人： Hrishikesh PATEL ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Gerardus Adrianus Antonius Maria Kusters ,  Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Marcio Alexandre Cano Miranda ,  Ruud Hendricus Martinus Johannes Bloks ,  Peng Feng ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen

IPC分类号： G03B27/52 ,  B23P17/04

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/3085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/67098 ,  Y10T29/49

摘要： An immersion lithographic apparatus is provided having a substrate table including a drain configured to receive immersion fluid which leaks into a gap between an edge of a substrate on the substrate table and an edge of a recess in which the substrate is located. A thermal conditioning system is provided to thermally condition at least the portion of the recess supporting the substrate by directing one or more jets of fluid onto a reverse side of the section supporting the substrate.

摘要翻译： 提供一种浸没式光刻设备，其具有衬底台，该衬底台包括被配置为接收泄漏到衬底台上的衬底的边缘与衬底所在的凹部的边缘之间的间隙中的浸没流体的漏极。 提供热调节系统以通过将一个或多个流体射流引导到支撑衬底的部分的相反侧来至少对支撑衬底的凹部的部分进行热调节。

公开(公告)号：US20110128517A1

公开(公告)日：2011-06-02

申请号：US12999512

申请日：2009-07-22

申请人： Joost Jeroen Ottens ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs

发明人： Joost Jeroen Ottens ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs

IPC分类号： G03B27/52 ,  F28D15/00

CPC分类号： G03F7/70875 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248

摘要： An article support is constructed to support an article. The article support includes a back fill structure constructed to supply and extract a thermal buffering fluid to and from the article support. The back fill structure is connected to an extraction duct that is constructed and arranged to extract at least a gas phase of the thermal buffering fluid from the back fill structure. The back fill structure is connected to a supply duct, constructed and arranged to supply a liquid phase of the thermal buffering fluid to the back fill structure. The back fill structure is arranged to have the thermal buffering fluid brought in a combined liquid and gas phase to thermally connect with the article.

摘要翻译： 文章支持被构造来支持文章。 物品支撑件包括构造成向物品支撑件提供热提取流体并从其提取热缓冲流体的后填充结构。 背部填充结构连接到提取管道，其被构造和布置成从后部填充结构提取至少一个热缓冲流体的气相。 后填充结构连接到供应管道，构造和布置成将热缓冲流体的液相供应到后填充结构。 背部填充结构被布置成使热缓冲流体进入组合的液体和气相以与制品热连接。

公开(公告)号：US07924403B2

公开(公告)日：2011-04-12

申请号：US11330401

申请日：2006-01-12

申请人： Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Tammo Uitterdijk

发明人： Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Tammo Uitterdijk

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B27/58 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A immersion lithographic apparatus is disclosed in which one or more liquid diverters are positioned in a space surrounded by a liquid confinement structure. A function of the liquid diverter(s) is to hinder the formation of one or more recirculation zones of immersion liquid which may lead to variations in refractive index of the immersion liquid in the space and thereby imaging errors.

摘要翻译： 公开了一种浸没式光刻设备，其中一个或多个液体转向器位于由液体限制结构包围的空间中。 液体转向器的功能是妨碍形成一个或多个浸没液体的再循环区域，这可能导致浸没液体在空间中的折射率变化，从而造成误差。

公开(公告)号：US20100302518A1

公开(公告)日：2010-12-02

申请号：US12768902

申请日：2010-04-28

申请人： Jan VAN EIJK ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus DONDERS ,  Johannes Henricus Wilhelmus JACOBS ,  Nicolaas TEN KATE ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Koen Jacobus Johannes Maria ZAAL ,  Marinus Jan REMIE

发明人： Jan VAN EIJK ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus DONDERS ,  Johannes Henricus Wilhelmus JACOBS ,  Nicolaas TEN KATE ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Koen Jacobus Johannes Maria ZAAL ,  Marinus Jan REMIE

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70858

摘要： The invention relates to a lithographic apparatus arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate, including a cooling system to cool a part of the lithographic apparatus, the cooling system including a droplet ejector to form droplets and fire the droplets towards a cooling surface of the part of the lithographic apparatus to cool the part by evaporation of the droplets.

摘要翻译： 本发明涉及一种布置成将图案从图案形成装置转移到基板上的光刻设备，包括用于冷却光刻设备的一部分的冷却系统，该冷却系统包括液滴喷射器以形成液滴并使液滴朝向冷却 光刻设备的一部分的表面，以通过蒸发液滴来冷却该部件。