利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

248 条记录 (耗时 0.04 秒)

    POSITIVE RESIST COMPOSITIONS AND PATTERNING PROCESS
    81.
    发明申请
    POSITIVE RESIST COMPOSITIONS AND PATTERNING PROCESS 有权
    积极的组合物和绘图过程

    公开(公告)号：US20090186296A1

    公开(公告)日：2009-07-23

    申请号：US12355072

    申请日：2009-01-16

    申请人： Youichi OHSAWA ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

    发明人： Youichi OHSAWA ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122

    摘要： A positive resist composition comprises (A) a resin component which becomes soluble in an alkaline developer under the action of an acid and (B) an acid generator. The resin (A) is a polymer comprising specific recurring units, represented by formula (1). The acid generator (B) is a specific sulfonium salt compound. When processed by lithography, the composition is improved in resolution and forms a pattern with a satisfactory mask fidelity and a minimal LER. Herein R1 is H or methyl, m is 1 or 2, and n is 1 or 2.

    摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包含（A）在酸的作用下变得可溶于碱性显影剂的树脂组分和（B）酸产生剂。 树脂（A）是包含由式（1）表示的特定重复单元的聚合物。 酸产生剂（B）是特定的锍盐化合物。 当通过光刻处理时，组合物的分辨率提高，并形成具有令人满意的掩模保真度和最小LER的图案。 其中R1为H或甲基，m为1或2，n为1或2。

    NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
    83.
    发明申请
    NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS 有权
    新型光电发生器，电阻组合和图案处理

    公开(公告)号：US20090061358A1

    公开(公告)日：2009-03-05

    申请号：US12204685

    申请日：2008-09-04

    申请人： Masaki OHASHI ,  Youichi Ohsawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho

    发明人： Masaki OHASHI ,  Youichi Ohsawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C07J5/00 ,  C07J43/00

    CPC分类号： C07J31/006 ,  C07J41/0055 ,  C07J43/003 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/114

    摘要： Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) or (1c) upon exposure to high-energy radiation. R1—COOCH(CF3)CF2SO3+H+  (1a) R1—O—COOCH(CF3)CF2SO3−H+  (1c) R1 is a C20-C50 hydrocarbon group having a steroid structure. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

    摘要翻译： 光生酸发生剂在暴露于高能量辐射时产生式（1a）或（1c）的磺酸。 <？in-line-formula description =“In-line formula”end =“lead”？> R1-COOCH（CF3）CF2SO3 + H +（1a）<？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“tail”？> <？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> R1-O-COOCH（CF3）CF2SO3-H +（1c） =“内联式”末端=“尾”→R1是具有类固醇结构的C20-C50烃基。 光致酸产生剂与树脂相容并且可以控制酸扩散，因此适用于化学增幅抗蚀剂组合物。

    POLYMERIZABLE FLUORINATED ESTER COMPOUNDS AND THEIR PREPARING PROCESSES
    85.
    发明申请
    POLYMERIZABLE FLUORINATED ESTER COMPOUNDS AND THEIR PREPARING PROCESSES 有权
    可聚合氟化酯化合物及其制备方法

    公开(公告)号：US20070249858A1

    公开(公告)日：2007-10-25

    申请号：US10958373

    申请日：2004-10-06

    申请人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

    发明人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

    IPC分类号： C07C69/52

    CPC分类号： C07C67/29 ,  C07C29/40 ,  C07C45/512 ,  C07C49/172 ,  C07C49/173 ,  C07C49/245 ,  C07C67/14 ,  C07C69/653 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07F7/1804 ,  C07C35/52 ,  C07C35/48 ,  C07C33/46 ,  C07C31/42

    摘要： Polymerizable fluorinated ester compounds having formulae (1) and (2) are novel wherein R1 is H, methyl or trifluoromethyl, R2 and R3 are H or a monovalent hydrocarbon group, R2 and R3 may form a ring, R4 is H, OH or a monovalent hydrocarbon group, and R5 is an acid labile group. They are useful as monomers to produce polymers for the manufacture of radiation-sensitive resist compositions which have high transparency to radiation having a wavelength of up to 500 nm and exhibit good development properties due to the presence of phenol-like acidic hydroxyl groups.

    摘要翻译： 具有式（1）和（2）的可聚合的氟化酯化合物是新的，其中R 1是H，甲基或三氟甲基，R 2和R 3 >为H或一价烃基，R 2和R 3可以形成环，R 4是H，OH或单价烃 基团，R 5是酸不稳定基团。 它们可用作制备用于制造辐射敏感性抗蚀剂组合物的聚合物，其对波长高达500nm的辐射具有高透明度，并且由于存在酚样酸性羟基而表现出良好的显影性能。

    Positive resist compositions and patterning process
    88.
    发明授权
    Positive resist compositions and patterning process 有权
    正极抗蚀剂组成和图案化工艺

    公开(公告)号：US08541158B2

    公开(公告)日：2013-09-24

    申请号：US13013143

    申请日：2011-01-25

    申请人： Wataru Kusaki ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

    发明人： Wataru Kusaki ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： A positive resist composition is provided comprising an acid generator, a resin component which generates resin-solubilizing groups under the action of acid so that the resin component becomes soluble in an alkaline developer, at least some resin-solubilizing groups being carboxyl groups, and a compound for activating or condensing a carboxyl group. When processed by the lithography, the resist composition forms a resist pattern having a very high resolution and good mask fidelity.

    摘要翻译： 提供了一种正性抗蚀剂组合物，其包含酸产生剂，在酸的作用下产生树脂增溶基团的树脂组分，使得树脂组分变得可溶于碱性显影剂，至少一些树脂增溶基团为羧基， 用于活化或缩合羧基的化合物。 当通过光刻处理时，抗蚀剂组合物形成具有非常高的分辨率和良好的掩模保真度的抗蚀剂图案。

    Resist-modifying composition and pattern forming process
    90.
    发明授权
    Resist-modifying composition and pattern forming process 有权
    抗蚀剂改性组合物和图案形成工艺

    公开(公告)号：US08329384B2

    公开(公告)日：2012-12-11

    申请号：US12785930

    申请日：2010-05-24

    申请人： Takeru Watanabe ,  Kazuhiro Katayama ,  Masashi Iio ,  Jun Hatakeyama ,  Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho

    发明人： Takeru Watanabe ,  Kazuhiro Katayama ,  Masashi Iio ,  Jun Hatakeyama ,  Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40

    CPC分类号： G03F7/0035 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0273

    摘要： A patterning process includes (1) coating a first positive resist composition onto a substrate, baking, exposing, post-exposure baking, and alkali developing to form a first resist pattern, (2) coating a resist-modifying composition onto the first resist pattern and heating to effect modifying treatment, and (3) coating a second positive resist composition, baking, exposing, post-exposure baking, and alkali developing to form a second resist pattern. The resist modifying composition comprises a base resin comprising recurring units having formula (1) wherein A1 is alkylene, R1 is H or methyl, R2 is alkyl or bond together to form a nitrogen-containing heterocycle, and an alcohol-based solvent.

    摘要翻译： 图案化工艺包括（1）将第一正性抗蚀剂组合物涂覆在基材上，烘烤，曝光，曝光后烘烤和碱显影以形成第一抗蚀剂图案，（2）将抗蚀剂改性组合物涂覆到第一抗蚀剂图案上 加热进行改性处理，（3）涂布第二正性抗蚀剂组合物，烘烤，曝光，曝光后烘烤和碱显影以形成第二抗蚀剂图案。 抗蚀剂改性组合物包括含有式（1）的重复单元的基础树脂，其中A1是亚烷基，R1是H或甲基，R2是烷基或键合在一起形成含氮杂环和醇类溶剂。