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    Overlay metrology by pupil phase analysis
    1.
    发明授权
    Overlay metrology by pupil phase analysis 有权
    通过瞳孔相位分析覆盖度量

    公开(公告)号：US08582114B2

    公开(公告)日：2013-11-12

    申请号：US13209778

    申请日：2011-08-15

    申请人： Amnon Manassen ,  Daniel Kandel ,  Moshe Baruch ,  Vladimir Levinski ,  Noam Sapiens ,  Joel Seligson ,  Andy Hill ,  Ohad Bachar ,  Daria Negri ,  Ofer Zaharan

    发明人： Amnon Manassen ,  Daniel Kandel ,  Moshe Baruch ,  Vladimir Levinski ,  Noam Sapiens ,  Joel Seligson ,  Andy Hill ,  Ohad Bachar ,  Daria Negri ,  Ofer Zaharan

    IPC分类号： G01B11/02

    CPC分类号： G03F7/70633

    摘要： The present invention may include measuring a first phase distribution across a pupil plane of a portion of illumination reflected from a first overlay target of a semiconductor wafer, wherein the first overlay target is fabricated to have a first intentional overlay, measuring a second phase distribution across the pupil plane of a portion of illumination reflected from a second overlay target, wherein the second overlay target is fabricated to have a second intentional overlay in a direction opposite to and having the same magnitude as the first intentional overlay, determining a first phase tilt associated with a sum of the first and second phase distributions, determining a second phase tilt associated with a difference between the first and second phase distributions, calibrating a set of phase tilt data, and determining a test overlay value associated with the first and second overlay target.

    摘要翻译： 本发明可以包括测量跨越从半导体晶片的第一覆盖目标反射的照明部分的光瞳平面的第一相分布，其中第一覆盖目标被制造为具有第一有意覆盖，测量第二相位分布 从第二覆盖目标反射的照明部分的光瞳平面，其中第二覆盖目标被制造为具有与第一有意重叠相反并具有相同幅度的方向的第二有意覆盖，确定相关联的第一相位倾斜 具有第一和第二相位分布的总和，确定与第一和第二相位分布之间的差相关联的第二相位倾斜，校准一组相位倾斜数据，以及确定与第一和第二覆盖目标相关联的测试覆盖值 。

    OVERLAY METROLOGY BY PUPIL PHASE ANALYSIS
    2.
    发明申请
    OVERLAY METROLOGY BY PUPIL PHASE ANALYSIS 有权
    通过相位分析的覆盖度量

    公开(公告)号：US20130044331A1

    公开(公告)日：2013-02-21

    申请号：US13209778

    申请日：2011-08-15

    申请人： Amnon Manassen ,  Daniel Kandel ,  Moshe Baruch ,  Vladimir Levinski ,  Noam Sapiens ,  Joel Seligson ,  Andy Hill ,  Ohad Bachar ,  Daria Negri ,  Ofer Zaharan

    发明人： Amnon Manassen ,  Daniel Kandel ,  Moshe Baruch ,  Vladimir Levinski ,  Noam Sapiens ,  Joel Seligson ,  Andy Hill ,  Ohad Bachar ,  Daria Negri ,  Ofer Zaharan

    IPC分类号： G01B11/14 ,  G01B11/26

    CPC分类号： G03F7/70633

    摘要： The present invention may include measuring a first phase distribution across a pupil plane of a portion of illumination reflected from a first overlay target of a semiconductor wafer, wherein the first overlay target is fabricated to have a first intentional overlay, measuring a second phase distribution across the pupil plane of a portion of illumination reflected from a second overlay target, wherein the second overlay target is fabricated to have a second intentional overlay in a direction opposite to and having the same magnitude as the first intentional overlay, determining a first phase tilt associated with a sum of the first and second phase distributions, determining a second phase tilt associated with a difference between the first and second phase distributions, calibrating a set of phase tilt data, and determining a test overlay value associated with the first and second overlay target.

    摘要翻译： 本发明可以包括测量跨越从半导体晶片的第一覆盖目标反射的照明部分的光瞳平面的第一相分布，其中第一覆盖目标被制造为具有第一有意覆盖，测量第二相位分布 从第二覆盖目标反射的照明部分的光瞳平面，其中第二覆盖目标被制造为具有与第一有意重叠相反并具有相同幅度的方向的第二有意覆盖，确定相关联的第一相位倾斜 具有第一和第二相位分布的总和，确定与第一和第二相位分布之间的差相关联的第二相位倾斜，校准一组相位倾斜数据，以及确定与第一和第二覆盖目标相关联的测试覆盖值 。

    ILLUMINATION CONTROL
    9.
    发明申请
    ILLUMINATION CONTROL 有权
    照明控制

    公开(公告)号：US20120327503A1

    公开(公告)日：2012-12-27

    申请号：US13170025

    申请日：2011-06-27

    申请人： Amnon Manassen ,  Joel Seligson ,  Noam Sapiens

    发明人： Amnon Manassen ,  Joel Seligson ,  Noam Sapiens

    IPC分类号： G02B26/00 ,  G02F1/01 ,  G02F1/29 ,  G02F1/00

    CPC分类号： G01J1/4257 ,  G02B21/0016 ,  G02B21/082 ,  G02B21/365 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70633

    摘要： An optical system may include an objective, a source of illumination, an illumination system having illumination optics configured to direct the illumination onto the objective, and at least two dynamic optical array devices located at a pupil conjugate plane and a field conjugate plane, respectively in the illumination optics. The dynamic optical array devices are configured to control one or more properties of illumination coupled from the illumination system to the objective.

    摘要翻译： 光学系统可以包括目标，照明源，具有被配置为将照明引导到物镜上的照明光学器件的照明系统，以及分别位于瞳孔共轭平面和场共轭平面处的至少两个动态光学阵列器件 照明光学。 动态光学阵列器件被配置为控制从照明系统耦合到目标的照明的一个或多个特性。

    Illumination control
    10.
    发明授权
    Illumination control 有权
    照明控制

    公开(公告)号：US08681413B2

    公开(公告)日：2014-03-25

    申请号：US13170025

    申请日：2011-06-27

    申请人： Amnon Manassen ,  Joel Seligson ,  Noam Sapiens

    发明人： Amnon Manassen ,  Joel Seligson ,  Noam Sapiens

    IPC分类号： G02B26/00 ,  G02B26/08

    CPC分类号： G01J1/4257 ,  G02B21/0016 ,  G02B21/082 ,  G02B21/365 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70633

    摘要： An optical system may include an objective, a source of illumination, an illumination system having illumination optics configured to direct the illumination onto the objective, and at least two dynamic optical array devices located at a pupil conjugate plane and a field conjugate plane, respectively in the illumination optics. The dynamic optical array devices are configured to control one or more properties of illumination coupled from the illumination system to the objective.

    摘要翻译： 光学系统可以包括目标，照明源，具有被配置为将照明引导到物镜上的照明光学器件的照明系统，以及分别位于瞳孔共轭平面和场共轭平面处的至少两个动态光学阵列器件 照明光学。 动态光学阵列器件被配置为控制从照明系统耦合到目标的照明的一个或多个特性。