公开(公告)号：US07282711B2

公开(公告)日：2007-10-16

申请号：US10491939

申请日：2002-10-04

申请人： Dieter Winkler ,  Pavel Adamec ,  Achim Göhl ,  Helmut Banzhof

发明人： Dieter Winkler ,  Pavel Adamec ,  Achim Göhl ,  Helmut Banzhof

IPC分类号： H01J37/21

CPC分类号： H01J37/28 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/21 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/216 ,  H01J2237/2446 ,  H01J2237/2826 ,  H01J2237/30433 ,  H01J2237/3045

摘要： The invention provides electron multiple beam devices (1) for probing or structuring a non-transparent specimen (20) with primary electron beams (14) with an array of electron beam sources (3) to generate multiple primary electron beams (14), an electron sensor (12) with electron sensor segments (12a) to detect electrons of the primary electron beams (14) and at least one anode (7) to direct the primary electron beams (14) towards the electron sensor (12). The electron sensor (12) serves to inspect the primary electron beams (14), calibrate the positions of the primary electron beams (14) and possibly adjust final focus length (13) and currents of the primary electron beams before or after a probing or structuring the upper surface (20a) of a non-transparent specimens (20). Further, methods to inspect primary electron beams (14), to adjust final focus lengths (13) and to calibrate the multiple electron beam device (1) are provided.

摘要翻译： 本发明提供了用于用具有电子束源阵列（3）的一次电子束（14）探测或构造非透明样品（20）以产生多个一次电子束（14）的电子多光束装置（1）， 电子传感器（12），其具有用于检测一次电子束（14）的电子和至少一个阳极（7）的电子传感器段（12a），以将一次电子束（14）引向电子传感器（12）。 电子传感器（12）用于检查一次电子束（14），校准一次电子束（14）的位置，并可能在探测之前或之后校准一次电子束的最终聚焦长度（13）和电流 构造不透明样品（20）的上表面（20a）。 此外，提供了检查一次电子束（14），调整最终聚焦长度（13）和校准多个电子束装置（1）的方法。

公开(公告)号：US09153413B2

公开(公告)日：2015-10-06

申请号：US12528307

申请日：2008-02-22

申请人： Gilad Almogy ,  Avishai Bartov ,  Juergen Frosien ,  Pavel Adamec ,  Helmut Banzhof

发明人： Gilad Almogy ,  Avishai Bartov ,  Juergen Frosien ,  Pavel Adamec ,  Helmut Banzhof

IPC分类号： G21K7/00 ,  H01J37/05 ,  H01J37/10 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28

CPC分类号： H01J37/05 ,  H01J37/10 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/0635 ,  H01J2237/1508 ,  H01J2237/2449 ,  H01J2237/2817

摘要： A multi-beam scanning electron beam device (100) is described. The multi-bea scanning electron beam device having a column, includes a multi-beam emitter (110) for emitting a plurality of electron beams (12,13,14), at least one common electron beam optical element (130) having a common opening for at least two of the plurality of electron beams and being adapted for commonly influencing at least two of the plurality of electron beams, at least one individual electron beam optical element (140) for individually influencing the plurality of electron beams, a common objective lens assembly (150) for focusing the plurality of electrons beams having a common excitation for focusing at least two of the plurality of electron beams, and adapted for focusing the plurality of electron beams onto a specimen (20) for generation of a plurality of signal beams (121, 131,141), and a detection assembly (170) for individually detecting each signal beam on a corresponding detection element.

摘要翻译： 描述了多光束扫描电子束装置（100）。 具有列的多头扫描电子束装置包括用于发射多个电子束（12,13,14）的多光束发射器（110），至少一个共同的电子束光学元件（130） 用于多个电子束中的至少两个的开口，并适用于共同影响多个电子束中的至少两个，用于单独影响多个电子束的至少一个单独的电子束光学元件（140），共同的目标 透镜组件（150），用于聚焦具有用于聚焦多个电子束中的至少两个的共同激发的多个电子束，并且适于将多个电子束聚焦到样本（20）上以产生多个信号 光束（121,131,141）和检测组件（170），用于分别检测相应检测元件上的每个信号光束。

公开(公告)号：US20110163229A1

公开(公告)日：2011-07-07

申请号：US12528306

申请日：2008-02-22

申请人： Juergen Frosien ,  Helmut Banzhof ,  Pavel Adamec

发明人： Juergen Frosien ,  Helmut Banzhof ,  Pavel Adamec

IPC分类号： G01N23/225 ,  G01N23/227 ,  G01N23/22 ,  G01N23/203 ,  H01J1/50

CPC分类号： H01J37/05 ,  H01J37/10 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/0635 ,  H01J2237/1508 ,  H01J2237/2449 ,  H01J2237/2817

摘要： A scanning charged particle beam device (100) is described. The scanning charged particle beam device includes a beam emitter (102) for emitting a primary electron beam, a first scan stage for scanning the beam over a specimen, an achromatic beam separator (130) adapted for separating a signal electron beam from the primary electron beam, and a detection unit (172,174,178) for detecting signal electrons.

摘要翻译： 描述扫描带电粒子束装置（100）。 扫描带电粒子束装置包括用于发射一次电子束的射束发射器（102），用于扫描试样上的束的第一扫描级，适于从一次电子分离信号电子束的消色束分离器（130） 以及用于检测信号电子的检测单元（172,174,178）。

公开(公告)号：US20100320382A1

公开(公告)日：2010-12-23

申请号：US12528307

申请日：2008-02-22

申请人： Gilad Almogy ,  Avishai Bartov ,  Jürgen Frosien ,  Pavel Adamec ,  Helmut Banzhof

发明人： Gilad Almogy ,  Avishai Bartov ,  Jürgen Frosien ,  Pavel Adamec ,  Helmut Banzhof

IPC分类号： G01N23/00 ,  H01J37/147

CPC分类号： H01J37/05 ,  H01J37/10 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/0635 ,  H01J2237/1508 ,  H01J2237/2449 ,  H01J2237/2817

摘要： A multi-beam scanning electron beam device (100) is described. The multi-bea scanning electron beam device having a column, includes a multi-beam emitter (110) for emitting a plurality of electron beams (12,13,14), at least one common electron beam optical element (130) having a common opening for at least two of the plurality of electron beams and being adapted for commonly influencing at least two of the plurality of electron beams, at least one individual electron beam optical element (140) for individually influencing the plurality of electron beams, a common objective lens assembly (150) for focusing the plurality of electrons beams having a common excitation for focusing at least two of the plurality of electron beams, and adapted for focusing the plurality of electron beams onto a specimen (20) for generation of a plurality of signal beams (121, 131,141), and a detection assembly (170) for individually detecting each signal beam on a corresponding detection element.

摘要翻译： 描述了多光束扫描电子束装置（100）。 具有列的多头扫描电子束装置包括用于发射多个电子束（12,13,14）的多光束发射器（110），至少一个共同的电子束光学元件（130） 用于多个电子束中的至少两个的开口，并适用于共同影响多个电子束中的至少两个，用于单独影响多个电子束的至少一个单独的电子束光学元件（140），共同的目标 透镜组件（150），用于聚焦具有用于聚焦多个电子束中的至少两个的共同激发的多个电子束，并且适于将多个电子束聚焦到样本（20）上以产生多个信号 光束（121,131,141）和检测组件（170），用于分别检测相应检测元件上的每个信号光束。

公开(公告)号：US08164067B2

公开(公告)日：2012-04-24

申请号：US12701463

申请日：2010-02-05

申请人： Pavel Adamec ,  Helmut Banzhof ,  Ivo Liska

发明人： Pavel Adamec ,  Helmut Banzhof ,  Ivo Liska

IPC分类号： G01N23/22 ,  G01N23/00

CPC分类号： H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2446

摘要： It is provided a charged particle beam device for inspecting a specimen, comprising a charged particle beam source adapted to generate a primary charged particle beam; an objective lens device adapted to direct the primary charged particle beam onto the specimen; and a detector device comprising one or more charged particle detectors adapted to detect a secondary charged particle beam generated by the primary charged particle beam at the specimen and passing through the objective lens device, the secondary charged particle beam comprising a first group of secondary charged particles starting from the specimen with high starting angles and a second group of secondary charged particles starting from the specimen with low starting angles; wherein at least one of the charged particle detectors is adapted to detect depending on the starting angles one group of the first and the second groups of secondary charged particles.

摘要翻译： 提供了一种用于检查样本的带电粒子束装置，包括适于产生初级带电粒子束的带电粒子束源; 适于将初级带电粒子束引导到样本上的物镜装置; 以及检测器装置，其包括一个或多个带电粒子检测器，其适于检测在所述样本处由所述初级带电粒子束产生的并通过所述物镜装置的次级带电粒子束，所述次级带电粒子束包括第一组次级带电粒子 从具有较高起始角度的样品开始，第二组二次带电粒子从起始角低的样品开始; 其中所述带电粒子检测器中的至少一个适于根据起始角度检测一组第一和第二组次级带电粒子。

公开(公告)号：US08735847B2

公开(公告)日：2014-05-27

申请号：US12277818

申请日：2008-11-25

申请人： Helmut Banzhof ,  Juergen Frosien ,  Dieter Winkler

发明人： Helmut Banzhof ,  Juergen Frosien ,  Dieter Winkler

IPC分类号： G21K1/08

CPC分类号： H01J37/04 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/0473 ,  H01J2237/0475 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/0807

摘要： A method of operating a focused ion beam device having a gas field ion source is described. According to some embodiments, the method includes emitting an ion beam from a gas field ion source, providing an ion beam column ion beam energy in the ion beam column which is higher than the final beam energy, decelerating the ion beam for providing a final beam energy on impingement of the ion beam on the specimen of 1 keV to 4 keV, and imaging the specimen.

摘要翻译： 描述了具有气体场离子源的聚焦离子束装置的操作方法。 根据一些实施例，该方法包括从气体场离子源发射离子束，在离子束列中提供高于最终光束能量的离子束柱离子束能量，使离子束减速以提供最终光束 将离子束撞击在1keV至4keV的样品上的能量，并对样品进行成像。

公开(公告)号：US07800075B2

公开(公告)日：2010-09-21

申请号：US12194220

申请日：2008-08-19

申请人： Benyamin Buller ,  William J. DeVore ,  Juergen Frosien ,  Xinrong Jiang ,  Richard L. Lozes ,  Henry Thomas Pearce-Percy ,  Dieter Winkler ,  Steven T. Coyle ,  Helmut Banzhof

发明人： Benyamin Buller ,  William J. DeVore ,  Juergen Frosien ,  Xinrong Jiang ,  Richard L. Lozes ,  Henry Thomas Pearce-Percy ,  Dieter Winkler ,  Steven T. Coyle ,  Helmut Banzhof

IPC分类号： G21K1/08 ,  H01J3/14 ,  H01J3/26 ,  H01J49/42

CPC分类号： H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/31754

摘要： A multifunction module for an electron beam column comprises upper and lower electrodes, and a central ring electrode. The upper and lower electrodes have multipoles and are capable of deflecting, or correcting an aberration of, an electron beam passing through the electrodes. A voltage can be applied to the central ring electrode independently of the voltages applied to the upper and lower electrodes to focus the electron beam on a substrate.

摘要翻译： 用于电子束柱的多功能模块包括上电极和下电极以及中心环电极。 上电极和下电极具有多极并且能够偏转或校正通过电极的电子束的像差。 可以独立于施加到上电极和下电极的电压而将电压施加到中心环电极，以将电子束聚焦在衬底上。

公开(公告)号：US20080308751A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：US12194220

申请日：2008-08-19

申请人： Benyamin Buller ,  William J. DeVore ,  Juergen Frosien ,  Xinrong Jiang ,  Richard L. Lozes ,  Henry Thomas Pearce-Percy ,  Dieter Winkler ,  Steven T. Coyle ,  Helmut Banzhof

发明人： Benyamin Buller ,  William J. DeVore ,  Juergen Frosien ,  Xinrong Jiang ,  Richard L. Lozes ,  Henry Thomas Pearce-Percy ,  Dieter Winkler ,  Steven T. Coyle ,  Helmut Banzhof

IPC分类号： A61N5/00

CPC分类号： H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/31754

摘要： A multifunction module for an electron beam column comprises upper and lower electrodes, and a central ring electrode. The upper and lower electrodes have multipoles and are capable of deflecting, or correcting an aberration of, an electron beam passing through the electrodes. A voltage can be applied to the central ring electrode independently of the voltages applied to the upper and lower electrodes to focus the electron beam on a substrate.

摘要翻译： 用于电子束柱的多功能模块包括上电极和下电极以及中心环电极。 上电极和下电极具有多极并且能够偏转或校正通过电极的电子束的像差。 可以独立于施加到上电极和下电极的电压而将电压施加到中心环电极，以将电子束聚焦在衬底上。

公开(公告)号：US07427765B2

公开(公告)日：2008-09-23

申请号：US11243363

申请日：2005-10-03

申请人： Benyamin Buller ,  William J. DeVore ,  Juergen Frosien ,  Xinrong Jiang ,  Richard L. Lozes ,  Henry Thomas Pearce-Percy ,  Dieter Winkler ,  Steven T. Coyle ,  Helmut Banzhof

发明人： Benyamin Buller ,  William J. DeVore ,  Juergen Frosien ,  Xinrong Jiang ,  Richard L. Lozes ,  Henry Thomas Pearce-Percy ,  Dieter Winkler ,  Steven T. Coyle ,  Helmut Banzhof

IPC分类号： A61N5/00 ,  G21G5/00

CPC分类号： H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/31754

摘要： An electron beam column comprises a thermal field emission electron source to generate an electron beam, an electron beam blanker, a beam shaping module, and electron beam optics comprising a plurality of electron beam lenses. In one version, the optical parameters of the electron beam blanker, beam shaping module, and electron beam optics are set to achieve an acceptance semi-angle β of from about ¼ to about 3 mrads, where the acceptance semi-angle β is half the angle subtended by the electron beam at the writing plane. The beam-shaping module can also operate as a single lens using upper and lower projection lenses. A multifunction module for an electron beam column is also described.

摘要翻译： 电子束柱包括产生电子束的热场发射电子源，电子束消除器，光束整形模块和包括多个电子束透镜的电子束光学器件。 在一个版本中，电子束消隐器，光束整形模块和电子束光学器件的光学参数被设置为实现约¼至约3mrads的接受半角β，其中接受半角β是一半 在写平面处电子束对着的角度。 光束成形模块也可以使用上下投影透镜作为单个透镜进行操作。 还描述了用于电子束柱的多功能模块。

公开(公告)号：US20070085033A1

公开(公告)日：2007-04-19

申请号：US11243363

申请日：2005-10-03

申请人： Benyamin Buller ,  William DeVore ,  Juergen Frosien ,  Xinrong Jiang ,  Richard Lozes ,  Henry Pearce-Percy ,  Dieter Winkler ,  Steven Coyle ,  Helmut Banzhof

发明人： Benyamin Buller ,  William DeVore ,  Juergen Frosien ,  Xinrong Jiang ,  Richard Lozes ,  Henry Pearce-Percy ,  Dieter Winkler ,  Steven Coyle ,  Helmut Banzhof

IPC分类号： G21G5/00

CPC分类号： H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/31754

摘要： An electron beam column comprises a thermal field emission electron source to generate an electron beam, an electron beam blanker, a beam shaping module, and electron beam optics comprising a plurality of electron beam lenses. In one version, the optical parameters of the electron beam blanker, beam shaping module, and electron beam optics are set to achieve an acceptance semi-angle β of from about ¼ to about 3 mrads, where the acceptance semi-angle β is the half the angle subtended by the electron beam at the writing plane. The beam-shaping module can also operate as a single lens using upper and lower projection lenses. A multifunction module for an electron beam column is also described.

摘要翻译： 电子束柱包括产生电子束的热场发射电子源，电子束消除器，光束整形模块和包括多个电子束透镜的电子束光学器件。 在一个版本中，电子束消隐器，光束整形模块和电子束光学器件的光学参数被设置为实现约¼至约3mrads的接受半角β，其中接受半角β是半 在写平面处电子束对着的角度。 光束成形模块也可以使用上下投影透镜作为单个透镜进行操作。 还描述了用于电子束柱的多功能模块。