公开(公告)号：US06313492B1

公开(公告)日：2001-11-06

申请号：US09110487

申请日：1998-07-06

申请人： Mark C. Hakey ,  Steven J. Holmes ,  David V. Horak ,  Ahmad D. Katnani ,  Niranjan M. Patel ,  Paul A. Rabidoux

发明人： Mark C. Hakey ,  Steven J. Holmes ,  David V. Horak ,  Ahmad D. Katnani ,  Niranjan M. Patel ,  Paul A. Rabidoux

IPC分类号： H01L27108

CPC分类号： H01L28/82 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/095 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3085

摘要： A photoresist composition is disclosed having both negative tone and positive tone responses, giving rise to spaces being formed in the areas of diffraction which are exposed to intermediate amounts of radiation energy. This resist material may be used to print doughnut shapes or may be subjected to a second masking step, to print lines. Additionally, larger and smaller features may be obtained using a gray-scale filter in the reticle, to create larger areas of intermediate exposure areas.

摘要翻译： 公开了具有负色调和正色调响应的光致抗蚀剂组合物，在曝光到中等辐射能量的衍射区域中形成空间。 该抗蚀剂材料可以用于印刷圆环形状或者可以进行第二掩蔽步骤以打印线。 另外，可以使用掩模版中的灰度滤光片获得更大和更小的特征，以产生更大面积的中间曝光区域。

公开(公告)号：US06372412B1

公开(公告)日：2002-04-16

申请号：US09021924

申请日：1998-02-10

申请人： Mark C. Hakey ,  Steven J. Holmes ,  David V. Horak ,  Ahmad D. Katnani ,  Niranjan M. Patel ,  Paul A. Rabidoux

发明人： Mark C. Hakey ,  Steven J. Holmes ,  David V. Horak ,  Ahmad D. Katnani ,  Niranjan M. Patel ,  Paul A. Rabidoux

IPC分类号： G03F730

CPC分类号： H01L28/82 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/095 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3085

摘要： A photoresist composition is disclosed having both negative tone and positive tone responses, giving rise to spaces being formed in the areas of diffraction which are exposed to intermediate amounts of radiation energy. This resist material may be used to print doughnut shapes or may be subjected to a second masking step, to print lines. Additionally, larger and smaller features may be obtained using a gray-scale filter in the reticle, to create larger areas of intermediate exposure areas.

摘要翻译： 公开了具有负色调和正色调响应的光致抗蚀剂组合物，在曝光到中等辐射能量的衍射区域中形成空间。 该抗蚀剂材料可以用于印刷圆环形状或者可以进行第二掩蔽步骤以打印线。 另外，可以使用掩模版中的灰度滤光片获得更大和更小的特征，以产生更大面积的中间曝光区域。

公开(公告)号：US6114082A

公开(公告)日：2000-09-05

申请号：US715287

申请日：1996-09-16

申请人： Mark C. Hakey ,  Steven J. Holmes ,  David V. Horak ,  Ahmad D. Katnani ,  Niranjan M. Patel ,  Paul A. Rabidoux

发明人： Mark C. Hakey ,  Steven J. Holmes ,  David V. Horak ,  Ahmad D. Katnani ,  Niranjan M. Patel ,  Paul A. Rabidoux

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/095 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/308 ,  G03C1/73

CPC分类号： H01L28/82 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/095 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3085 ,  G03F7/0045

摘要： A photoresist composition is disclosed having both negative tone and positive tone responses, giving rise to spaces being formed in the areas of diffraction which are exposed to intermediate amounts of radiation energy. This resist material may be used to print doughnut shapes or may be subjected to a second masking step, to print lines. Additionally, larger and smaller features may be obtained using a gray-scale filter in the reticle, to create larger areas of intermediate exposure areas.

摘要翻译： 公开了具有负色调和正色调响应的光致抗蚀剂组合物，在曝光到中等辐射能量的衍射区域中形成空间。 该抗蚀剂材料可以用于印刷圆环形状或者可以进行第二掩蔽步骤以打印线。 另外，可以使用掩模版中的灰度滤光片获得更大和更小的特征，以产生更大面积的中间曝光区域。

公开(公告)号：US06440635B1

公开(公告)日：2002-08-27

申请号：US09675608

申请日：2000-09-29

申请人： Steven J. Holmes ,  Ahmad D. Katnani ,  Niranjan M. Patel ,  Paul A. Rabidoux

发明人： Steven J. Holmes ,  Ahmad D. Katnani ,  Niranjan M. Patel ,  Paul A. Rabidoux

IPC分类号： G03F7039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/095 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/11 ,  Y10S430/111

摘要： A photoresist having both positive and negative tone components resulting in a lower “k” factor than the single tone photoresist is disclosed. The hybrid resist may either have the negative tone resist or the positive tone resist as the major portion, while the other tone is a relatively minor portion. For examples, a positive tone resist may include a minor portion of a negative tone cross-linker or a negative tone resist may include positively acting functional groups. The hybrid resist of the present invention allows for wider exposure dosage windows, therefore increasing the yield or performance and line density.

摘要翻译： 公开了具有比单色光致抗蚀剂低的“k”因子的具有正和负色调分量的光致抗蚀剂。 混合抗蚀剂可以具有负色调抗蚀剂或正色调抗蚀剂作为主要部分，而另一种色调是相对较小的部分。 例如，正色调抗蚀剂可以包括负色调交联剂的较小部分或负色调抗蚀剂可以包括正性官能团。 本发明的混合抗蚀剂允许更宽的曝光剂量窗口，从而提高产量或性能和线密度。

公开(公告)号：US06284439B1

公开(公告)日：2001-09-04

申请号：US09107956

申请日：1998-06-30

申请人： Steven J. Holmes ,  Ahmad D. Katnani ,  Niranjan M. Patel ,  Paul A. Rabidoux

发明人： Steven J. Holmes ,  Ahmad D. Katnani ,  Niranjan M. Patel ,  Paul A. Rabidoux

IPC分类号： G03F730

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/095 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/11 ,  Y10S430/111

摘要： A photoresist having both positive and negative tone components resulting in a lower “k” factor than the single tone photoresist is disclosed. The hybrid resist may either have the negative tone resist or the positive tone resist as the major portion, while the other tone is a relatively minor portion. For examples, a positive tone resist may include a minor portion of a negative tone cross-linker or a negative tone resist may include positively acting functional groups. The hybrid resist of the present invention allows for wider exposure dosage windows, therefore increasing the yield or performance and line is density.

摘要翻译： 公开了具有比单色光致抗蚀剂低的“k”因子的具有正和负色调分量的光致抗蚀剂。 混合抗蚀剂可以具有负色调抗蚀剂或正色调抗蚀剂作为主要部分，而另一种色调是相对较小的部分。 例如，正色调抗蚀剂可以包括负色调交联剂的较小部分或负色调抗蚀剂可以包括正性官能团。 本发明的混合抗蚀剂允许更宽的曝光剂量窗口，因此增加产量或性能，线是密度。

公开(公告)号：US06190829B1

公开(公告)日：2001-02-20

申请号：US08715288

申请日：1996-09-16

申请人： Steve J. Holmes ,  Ahmad D. Katnani ,  Niranjan M. Patel ,  Paul A. Rabidoux

发明人： Steve J. Holmes ,  Ahmad D. Katnani ,  Niranjan M. Patel ,  Paul A. Rabidoux

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/095 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/11 ,  Y10S430/111

摘要： A photoresist having both positive and negative tone components resulting in a lower “k” factor than the single tone photoresist is disclosed. The hybrid resist may either have the negative tone resist or the positive tone resist as the major portion, while the other tone is a relatively minor portion. For examples, a positive tone resist may include a minor portion of a negative tone cross-linker or a negative tone resist may include positively acting functional groups. The hybrid resist of the present invention allows for wider exposure dosage windows, therefore increasing the yield or performance and line density.

摘要翻译： 公开了具有比单色光致抗蚀剂低的“k”因子的具有正和负色调分量的光致抗蚀剂。 混合抗蚀剂可以具有负色调抗蚀剂或正色调抗蚀剂作为主要部分，而另一种色调是相对较小的部分。 例如，正色调抗蚀剂可以包括负色调交联剂的较小部分或负色调抗蚀剂可以包括正性官能团。 本发明的混合抗蚀剂允许更宽的曝光剂量窗口，从而提高产量或性能和线密度。

公开(公告)号：US5552107A

公开(公告)日：1996-09-03

申请号：US437494

申请日：1995-05-09

申请人： Jon A. Casey ,  Carla N. Cordero ,  Benjamin V. Fasano ,  David B. Goland ,  Robert Hannon ,  Jonathan H. Harris ,  Lester W. Herron ,  Gregory M. Johnson ,  Niranjan M. Patel ,  Andrew M. Reitter ,  Subhash L. Shinde ,  Rao V. Vallabhaneni ,  Robert A. Youngman

发明人： Jon A. Casey ,  Carla N. Cordero ,  Benjamin V. Fasano ,  David B. Goland ,  Robert Hannon ,  Jonathan H. Harris ,  Lester W. Herron ,  Gregory M. Johnson ,  Niranjan M. Patel ,  Andrew M. Reitter ,  Subhash L. Shinde ,  Rao V. Vallabhaneni ,  Robert A. Youngman

IPC分类号： B32B18/00 ,  B22F7/02 ,  C04B35/581 ,  C04B37/02 ,  C04B41/51 ,  C04B41/52 ,  C04B41/88 ,  C04B41/89 ,  C22C29/16 ,  H01L21/48 ,  H01L23/373 ,  H05K1/03 ,  H05K3/24 ,  H05K3/40 ,  H05K3/46

CPC分类号： C04B41/009 ,  B22F7/02 ,  C04B41/5133 ,  C04B41/52 ,  C04B41/88 ,  C04B41/89 ,  C22C29/16 ,  H01L21/4846 ,  H01L21/486 ,  H01L23/3731 ,  H05K3/4061 ,  B22F2998/00 ,  C04B2111/00405 ,  C04B2111/00844 ,  H01L2924/0002 ,  H05K1/0306 ,  H05K2201/035 ,  H05K2201/09981 ,  H05K3/248 ,  H05K3/4611 ,  H05K3/4629 ,  Y10S428/901 ,  Y10T428/12021 ,  Y10T428/12028 ,  Y10T428/12056 ,  Y10T428/31678

摘要： Disclosed is an aluminum nitride body having graded metallurgy and a method for making such a body. The aluminum nitride body has at least one via and includes a first layer in direct contact with the aluminum nitride body and a second layer in direct contact with, and that completely encapsulates, the first layer. The first layer includes 30 to 60 volume percent aluminum nitride and 40 to 70 volume percent tungsten and/or molybdenum while the second layer includes 90 to 100 volume percent of tungsten and/or molybdenum and 0 to 10 volume percent of aluminum nitride.

摘要翻译： 公开了一种具有分级冶金的氮化铝体及其制造方法。 氮化铝体具有至少一个通孔，并且包括与氮化铝体直接接触的第一层和与第一层直接接触并完全封装的第二层。 第一层包括30至60体积％的氮化铝和40至70体积％的钨和/或钼，而第二层包括90至100体积％的钨和/或钼和0至10体积％的氮化铝。

公开(公告)号：US5370825A

公开(公告)日：1994-12-06

申请号：US25490

申请日：1993-03-03

申请人： Marie Angelopoulos ,  Jeffrey D. Gelorme ,  Thomas H. Newman ,  Niranjan M. Patel ,  David E. Seeger

发明人： Marie Angelopoulos ,  Jeffrey D. Gelorme ,  Thomas H. Newman ,  Niranjan M. Patel ,  David E. Seeger

IPC分类号： C08G61/12 ,  C08G61/10 ,  C08G75/02 ,  C08G75/04 ,  C08J3/28 ,  C08L33/00 ,  C08L33/02 ,  C08L41/00 ,  C08L79/00 ,  C08L101/00 ,  C08L101/02 ,  C08L101/12 ,  G03F7/038 ,  G03F7/09 ,  H01B1/12 ,  H01B1/00

CPC分类号： G03F7/093 ,  G03F7/038 ,  H01B1/128

摘要： Disclosed is a novel composition of matter comprising a polyacid and a polymer containing repeating units which contain one or more basic atoms. The complex is water-soluble and electrically conductive. The complex is useful in providing organic discharge layers for use in electronic applications and fabrications.

摘要翻译： 公开了一种包含多酸和含有含有一个或多个碱性原子的重复单元的聚合物的新物质组合物。 该复合物是水溶性和导电性的。 该复合物可用于提供用于电子应用和制造的有机放电层。

公开(公告)号：US5548034A

公开(公告)日：1996-08-20

申请号：US923723

申请日：1992-07-31

申请人： Ali Afzali-Ardakani ,  Jeffrey T. Gotro ,  Jeffrey C. Hedrick ,  Konstantinos Papathomas ,  Niranjan M. Patel ,  Jane M. Shaw ,  Alfred Viehbeck

发明人： Ali Afzali-Ardakani ,  Jeffrey T. Gotro ,  Jeffrey C. Hedrick ,  Konstantinos Papathomas ,  Niranjan M. Patel ,  Jane M. Shaw ,  Alfred Viehbeck

IPC分类号： B32B27/06 ,  C08G65/40 ,  C08G73/06 ,  C08G75/00 ,  C08G75/20 ,  C08G79/02 ,  C08G79/04 ,  C08J5/24 ,  C08L79/04 ,  C08L101/00 ,  C08L101/02 ,  C08L101/04 ,  H05K1/03 ,  C08G65/48

CPC分类号： C08L79/04 ,  H05K1/0373 ,  Y10S428/901 ,  Y10T428/24917 ,  Y10T442/2902 ,  Y10T442/2992 ,  Y10T442/3423 ,  Y10T442/3431 ,  Y10T442/3569 ,  Y10T442/656 ,  Y10T442/671

摘要： A curable material comprising a blend of a fluorine-containing cyanate and a fluorine-containing poly(arylene ether) wherein said cyanate is a monomer having the structureN.ident.C--O--R--.sub.n --O--C.ident.Nsaid fluorine containing poly(arylene ether) has the structureX--R--.sub.m --Xwherein X is any group capable of reacting with a --C.ident.N group;R is an aliphatic or aromatic group which may or may not be fluorosubstituted;R.sup.1 is an aliphatic or aromatic group which may or may not be fluoro substituted or R.sup.1 is selected from the group consisting of ether, carbonyl, sulfone, phosphine oxide and sulfide, and at least one of R or R.sup.1 must be fluoro substituted;n is 0-10; andm is 0-100;said material being heat-curable at a temperatures between 180.degree. and 325.degree. C.;said material in the cured state comprising a fluorine-containing polycyanurate network having a plurality of discrete phases of said fluorine-containing thermoplastic polymer dispersed therein wherein said thermoplastic polymer phases are of submicron size.

摘要翻译： 一种包含含氟氰酸酯和含氟聚（亚芳基醚）的共混物的可固化材料，其中所述氰酸酯是具有结构N = CORnOC = N含氟聚（亚芳基醚）的单体，其结构为X-Rm-X，其中X 是能够与-C = N组反应的任何基团; R是可以是或不是氟取代的脂族或芳族基团; R1是脂族或芳族基团，其可以是或不是氟取代的，或者R1选自醚，羰基，砜，氧化膦和硫化物，并且R或R 1中的至少一个必须是氟取代的; n为0-10; m为0-100; 所述材料在180至325℃的温度下是可热固化的; 所述固化状态的材料包括含氟聚氰化酸盐网络，其中分散有所述含氟热塑性聚合物的多个离散相，其中所述热塑性聚合物相具有亚微米尺寸。

公开(公告)号：US5527592A

公开(公告)日：1996-06-18

申请号：US344454

申请日：1994-11-23

申请人： Ali Afzali-Ardakani ,  Jeffrey T. Gotro ,  Jeffrey C. Hedrick ,  Konstantinos Papathomas ,  Niranjan M. Patel ,  Jane M. Shaw ,  Alfred Viehbeck

发明人： Ali Afzali-Ardakani ,  Jeffrey T. Gotro ,  Jeffrey C. Hedrick ,  Konstantinos Papathomas ,  Niranjan M. Patel ,  Jane M. Shaw ,  Alfred Viehbeck

IPC分类号： B32B27/06 ,  C08G65/40 ,  C08G73/06 ,  C08G75/00 ,  C08G75/20 ,  C08G79/02 ,  C08G79/04 ,  C08J5/24 ,  C08L79/04 ,  C08L101/00 ,  C08L101/02 ,  C08L101/04 ,  H05K1/03 ,  B32B3/00

CPC分类号： C08L79/04 ,  H05K1/0373 ,  Y10S428/901 ,  Y10T428/24917 ,  Y10T442/2902 ,  Y10T442/2992 ,  Y10T442/3423 ,  Y10T442/3431 ,  Y10T442/3569 ,  Y10T442/656 ,  Y10T442/671

摘要： An electronic circuit package comprising an electrically conductive circuit layer on a polymer, ceramic or multi-layer substrate wherein a curable dielectric material is applied over the electrically conductive circuit layer. The curable dielectric material comprises a blend of a fluorine-containing cyanate and a fluorine-containing arylene ether polymer. The cyanate is a monomer having the structureN.tbd.C--O--R--[R.sup.1 ].sub.n --O--C.tbd.Nand the fluorine containing arylene ether polymer has the structureX--R--[R.sup.1 ].sub.m --Xwherein X is any group capable of reacting with a --C.tbd.N group;R is an aliphatic or aromatic group which may or may not be fluorosubstituted;R.sup.1 is an aliphatic or aromatic group which may or may not be fluoro substituted or R.sup.1 is selected from the group consisting of ether, carbonyl, sulfone, phosphine oxide and sulfide, and at least one of R or R.sup.1 must be fluoro substituted;n is 0-10; andm is 0-100.The dielectric material in the cured state comprises a fluorine-containing polycyanurate network having a plurality of discrete phases of the fluorine-containing thermoplastic polymer dispersed therein. The thermoplastic polymer phases are of submicron size.

摘要翻译： 一种电子电路封装，包括在聚合物，陶瓷或多层基底上的导电电路层，其中可固化介电材料施加在导电电路层上。 可固化电介质材料包括含氟氰酸酯和含氟亚芳基醚聚合物的共混物。 氰酸酯是具有结构N 3BOND C-O-R- [R 1] n -O-C 3 N N的单体，含氟亚芳基醚聚合物具有X-R- [R 1] m -X的结构，其中X是可与-C 3 N N基反应的基团; R是可以是或不是氟取代的脂族或芳族基团; R1是脂族或芳族基团，其可以是或不是氟取代的，或者R1选自醚，羰基，砜，氧化膦和硫化物，并且R或R 1中的至少一个必须是氟取代的; n为0-10; m为0-100。 固化状态下的电介质材料含有分散在其中的含氟热塑性聚合物的多个离散相的含氟聚氰脲酸酯网络。 热塑性聚合物相具有亚微米尺寸。