MEMS集成压力传感器和麦克风器件及其形成方法

    公开(公告)号:CN104045052B

    公开(公告)日:2016-11-16

    申请号:CN201310488777.2

    申请日:2013-10-17

    Inventor: 郑钧文 朱家骅

    Abstract: 本发明提供了微机电(MEMS)集成压力传感器和麦克风器件及其形成方法,该方法包括提供MEMS晶圆,其中,图案化该MEMS晶圆的一部分来提供麦克风器件的第一膜以及压力传感器件的第二膜。载体晶圆接合至MEMS晶圆,并且蚀刻该载体晶圆以将麦克风器件的第一膜暴露于周围环境。图案化MEMS衬底并且去除MEMS晶圆的第一牺牲层的部分以形成MEMS结构。盖晶圆接合至MEMS晶圆中的与载体晶圆相对的一侧上从而形成包括MEMS结构的第一密封腔体。在压力传感器件的第二膜的相对侧形成第二密封腔体和暴露于周围环境的腔体。

    具有增大的感测面积的BIOFET

    公开(公告)号:CN104049021B

    公开(公告)日:2016-10-05

    申请号:CN201310554567.9

    申请日:2013-11-07

    Abstract: 本发明提供了一种生物场效应晶体管(BioFET)以及一种制造BioFET器件的方法。该方法包括:使用与互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺相容的或者典型的互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺的一个或多个工艺步骤来形成BioFET。BioFET器件包括:衬底、晶体管结构、隔离层、位于隔离层的开口中的界面层、以及位于界面层上方的金属冠结构。界面层和金属冠结构设置在晶体管的与栅极结构相对的一侧上。

    堆叠半导体器件及其形成方法

    公开(公告)号:CN104045051B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201310409982.5

    申请日:2013-09-10

    Inventor: 朱家骅 郑钧文

    Abstract: 本发明提供了一种堆叠半导体器件,包括第一衬底。多层互连件设置在第一衬底上方。金属部分设置在多层互连件上方。第一接合部件位于金属部分上方。第二衬底具有正面。腔在第二衬底中从正面延伸到深度D。腔具有内表面。停止层设置在腔的内表面上方。可移动结构设置在第二衬底的正面上方并悬于腔上。可移动结构包括介电膜、位于介电膜上方的金属单元以及位于金属单元上方的覆盖介电层。第二接合部件位于覆盖介电层上方并接合至第一接合部件。第二接合部件延伸穿过覆盖介电层并电连接至金属单元。本发明还提供了堆叠半导体器件的形成方法。

    晶片接合机
    76.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102237285B

    公开(公告)日:2016-05-18

    申请号:CN201010167364.0

    申请日:2010-04-20

    Abstract: 本发明提供一种晶片接合机,该晶片接合机用以接合两个以上的半导体晶片,包括一壳体、一主工艺腔室以及一第一腔室。前述主工艺腔室以及第一腔室设置于壳体内部,且主工艺腔室连接第一腔室,其中前述晶片于第一腔室内被气体吹净,且前述晶片于主工艺腔室内受一外力作用并相互接合。本发明借由在晶片接合机内部配置多个腔室,当欲执行不同的工艺步骤时,仅需通过机械手臂或输送系统将晶片移动至不同的腔室中进行即可,借此能大幅缩短工艺时间并提高晶片接合机每小时的晶片产出量。

    堆叠半导体器件及其形成方法

    公开(公告)号:CN104045051A

    公开(公告)日:2014-09-17

    申请号:CN201310409982.5

    申请日:2013-09-10

    Inventor: 朱家骅 郑钧文

    Abstract: 本发明提供了一种堆叠半导体器件,包括第一衬底。多层互连件设置在第一衬底上方。金属部分设置在多层互连件上方。第一接合部件位于金属部分上方。第二衬底具有正面。腔在第二衬底中从正面延伸到深度D。腔具有内表面。停止层设置在腔的内表面上方。可移动结构设置在第二衬底的正面上方并悬于腔上。可移动结构包括介电膜、位于介电膜上方的金属单元以及位于金属单元上方的覆盖介电层。第二接合部件位于覆盖介电层上方并接合至第一接合部件。第二接合部件延伸穿过覆盖介电层并电连接至金属单元。本发明还提供了堆叠半导体器件的形成方法。

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