半导体制造方法及其相关的半导体制造系统

    公开(公告)号:CN107134408B

    公开(公告)日:2022-03-22

    申请号:CN201611190738.4

    申请日:2016-12-21

    IPC分类号: H01L21/18 H01L21/67

    摘要: 本发明公开了一种半导体制造方法。该方法包括:提供第一晶圆和第二晶圆,其中,所述第一晶圆和所述第二晶圆接合在一起;将已接合的所述第一晶圆和所述第二晶圆浸没在超声波传输介质中;产生超声波;以及通过超声波传输介质,将超声波传导至已接合的第一晶圆和第二晶圆并且持续预定的时间段。本发明还公开了相关的用于至少减弱接合晶圆的接合强度的半导体制造系统。

    对准的方法、处理工具以及用于晶片级对准的方法

    公开(公告)号:CN110634728B

    公开(公告)日:2022-01-04

    申请号:CN201910433405.7

    申请日:2019-05-23

    IPC分类号: H01L21/02 H01L21/68

    摘要: 本申请的各种实施例指向一种以低对准误差及高生产量进行工件级对准的方法。在一些实施例中,所述方法包括:基于来自成像装置的反馈将第一工件上的第一对准标记对准所述成像装置的视场(FOV),并进一步基于来自所述成像装置的反馈将第二工件上的第二对准标记对准所述第一对准标记。在所述第一对准标记的所述对准期间,所述第二工件处于所述视场外。所述第二对准标记的所述对准是在不将所述第一对准标记移动出所述视场的情况下执行。此外,在所述第二对准标记的所述对准期间,所述成像装置观察所述第二对准标记,且进一步穿过所述第二工件观察所述第一对准标记。所述成像装置可例如利用反射红外辐射执行成像。

    半导体结构及其制造方法

    公开(公告)号:CN107445134B

    公开(公告)日:2021-04-13

    申请号:CN201710244191.X

    申请日:2017-04-14

    IPC分类号: B81B7/00 B81C1/00

    摘要: 本揭露涉及半导体结构及其制造方法。其中,该半导体结构包含:第一衬底,其包含延伸到所述第一衬底中的腔、放置于所述腔内的装置、放置于所述第一衬底上方的第一电介质层及由所述第一电介质层环绕的第一导电结构;以及第二衬底,其包含放置于所述第二衬底上方的第二电介质层及由所述第二电介质层环绕的第二导电结构,其中所述第一导电结构与所述第二导电结构接合且所述第一电介质层与所述第二电介质层接合以密封所述腔。

    半导体结构和相关联的制造方法

    公开(公告)号:CN109755267A

    公开(公告)日:2019-05-14

    申请号:CN201811324426.7

    申请日:2018-11-08

    摘要: 本发明实施例揭露一种半导体结构和相关联的制造方法。所述半导体结构包含:第一发光二极管LED层,其包含第一色彩类型的第一LED,所述第一LED层具有第一侧和与所述第一侧相对的第二侧;第二LED层,其在所述第一LED层上方,所述第二LED层包含第二色彩类型的第二LED,且所述第二LED层具有第一侧和与所述第一侧相对的第二侧;和第三LED层,其在所述第二LED层上方,所述第三LED层包含第三色彩类型的第三LED,且所述第三LED层具有第一侧和与所述第一侧相对的第二侧;其中所述第一色彩类型、所述第二色彩类型和所述第三色彩类型彼此不同。