Pv wind performance improved method and apparatus
    66.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2007502925A

    公开(公告)日:2007-02-15

    申请号:JP2006524113

    申请日:2004-08-19

    Abstract: PVモジュールの列(12)のPVモジュール(14)の上下表面間の均圧状態を複数の方法によって向上させることができる。 隣接するPVモジュール間と前記列の周部(18)に沿って、前記PVモジュールと支持表面との間に形成される空気体積(air volume)内に開口するエア・ギャップ(32,34) を提供すべきである。 PVモジュール上に作用する空気力学的流体抵抗(drag force)を最小化するために周部ウィンド・デフレクタを使用すべきである。 PVモジュールの上下表面間の圧力を均圧化するための時間は、例えば、10−20マイクロ秒以下に維持すべきである。 突風によって生じる変位は、例えば、2−5ミリ以下に制限されるべきである。 傾斜したPVモジュールの場合、各PVモジュールに対して後方ウィンド・デフレクタ(148)を設けることが提案され、前記列の周部用には、側方ウィンド・デフレクタ(162)を設けることが提案される。

    Abstract translation: PV模块阵列(12)的PV模块(14)的上表面和下表面之间的压力均衡可以以多种方式得到增强。 在PV模块和支撑表面(16)之间定义的通向空气体积的气隙(32,34)应设置在相邻的PV模块之间并沿着阵列的外围(18)。 该空气量与气隙总面积的比例应该最小化。 外围导风板(20)应用于最小化PV模块上的气动阻力。 将PV模块的上表面和下表面之间的压力平衡的时间应保持在例如10-20毫秒以下。 由阵风产生的位移应限制在例如2-5毫米或更小; 对于倾斜的光伏组件,建议每个PV模块使用后空气导流板(148),并且建议侧面空气导流板(162)用于阵列的外围。

    Megasonic cleaning using supersaturated wash solution

    公开(公告)号:JP2007502032A

    公开(公告)日:2007-02-01

    申请号:JP2006533684

    申请日:2004-06-10

    CPC classification number: B08B3/12 H01L21/67051

    Abstract: 1枚又はそれ以上の基板のメガソニック洗浄のための方法及びシステムであって、メガソニック・エネルギーに起因する基板へのダメージを減少させるもの。 前記基板は処理チャンバー内に支持されていて、洗浄溶液(cleaning solution)が接触される。 該洗浄溶液は、洗浄液(cleaning liquid)に溶解された二酸化炭素ガスを有する洗浄液を含み、該二酸化炭素ガスは、処理チャンバー内の状態で過飽和となる量である。 そして、メガソニック・エネルギーは基板に伝達される。 該洗浄溶液は、メガソニック/音響エネルギーの印加に起因するダメージからの保護を与える。 他の態様では、本発明は前記方法を達成するためのシステムに関する。 該発明は二酸化炭素に限定されるものではなく、洗浄液に溶解された場合に、メガソニック/音響エネルギーの印加によるダメージから基板を保護する如何なるガスをも使用できる。

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