電子部品の搬送装置
    2.
    发明专利
    電子部品の搬送装置 有权
    电子元件的运输设备

    公开(公告)号:JP2014238321A

    公开(公告)日:2014-12-18

    申请号:JP2013120835

    申请日:2013-06-07

    发明人: AIHARA TAKAMITSU

    IPC分类号: G01R31/26

    摘要: 【課題】異なる寸法を有するICデバイス保持具をICデバイス毎にチェンジキットとして予め複数個用意しておく必要があった。しかし、チェンジキットの作成には多くのコストが掛り、また、チェンジキットの交換にも多くの手間が掛かっている。【解決手段】第1、第2のガイドブロック片(13−2A、13−2B)が電子部品(18)の底面の一対の対角の間の距離に応じて予め決められた位置決め孔を用いてシャトルプレート(13−1)上に固定されて形成された電子部品の保持空間に複数の電子部品(18)が保持され、前記第1、第2のガイドブロック片の長手方向に沿って前記電子部品の挟持部間に挟持される複数の電子部品の上面に沿って前記シャトルプレートの一方の端部から他方の端部に至る光を照射して、電子部品の厚みに応じて前記照射された光が傾いて保持された電子部品により遮蔽されたことを光センサ(31)により検知する。【選択図】図6

    摘要翻译: 要解决的问题:为了提供一种电子部件的运送装置,其解决了需要预先准备每个IC装置的具有不同尺寸的IC装置保持器的数量作为更换套件的问题,则制造多个成本花费很高的成本 更换套件需要花费大量的时间和精力。解决方案:在电子部件的运输装置中,多个电子部件(18)中的每一个被保持在电子部件保持空间中,该电子部件保持空间通过首先固定 通过使用根据电子部件(18)的底面的一对相对角之间的距离预定的定位孔,在梭板(13-1)上的第二引导块部件(13-2A​​和13-2B)。 从穿梭板的一端到另一端的光从沿着第一和第二导块的长度方向保持在电子部件保持部之间的多个电子部件的上表面被照射。 光学传感器(31)根据电子部件的厚度检测照射光被倾斜保持的电子部件屏蔽。

    Method of manufacturing semiconductor device, and substrate housing structure
    7.
    发明专利
    Method of manufacturing semiconductor device, and substrate housing structure 有权
    制造半导体器件的方法和衬底外壳结构

    公开(公告)号:JP2011155068A

    公开(公告)日:2011-08-11

    申请号:JP2010014518

    申请日:2010-01-26

    发明人: KANEKO YUICHI

    IPC分类号: H01L21/322 H01L21/673

    摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a semiconductor device, along with a substrate housing structure, capable of suppressing variations in electrical characteristics of a semiconductor device among wafers (semiconductor substrates). SOLUTION: The manufacturing method includes a step in which protective sheets 22A and 22B containing secondary electron absorbing material are arranged on a tray 10 and semiconductor substrates 21A and 21B are arranged on the protective sheets 22A and 22B to be housed in the tray 10, and a step in which the semiconductor substrates 21A and 21B are irradiated with charged particle beam from the side opposite to the tray 10 side so that a lattice defect is formed in the semiconductor substrates 21A and 21B. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

    摘要翻译: 解决的问题:提供能够抑制晶片(半导体基板)中的半导体器件的电特性变化的半导体器件的制造方法以及基板壳体结构。 解决方案:制造方法包括以下步骤:将包含二次电子吸收材料的保护片22A和22B布置在托盘10上,半导体衬底21A和21B布置在保护片22A和22B上以容纳在托盘中 如图10所示,并且半导体衬底21A和21B从与托盘10侧相反的一侧照射带电粒子束以使得在半导体衬底21A和21B中形成晶格缺陷的步骤。 版权所有(C)2011,JPO&INPIT