公开(公告)号：US20050069643A1

公开(公告)日：2005-03-31

申请号：US10677007

申请日：2003-09-30

申请人： Tingkai Li ,  Sheng Hsu ,  Bruce Ulrich

发明人： Tingkai Li ,  Sheng Hsu ,  Bruce Ulrich

IPC分类号： C23C16/00 ,  C23C16/02 ,  C23C16/40 ,  C23C16/56 ,  H01L21/316

CPC分类号： C23C16/0272 ,  C23C16/40 ,  C23C16/56 ,  H01L21/02197 ,  H01L21/02205 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/31691

摘要： A method of selectively depositing a ferroelectric thin film on an indium-containing substrate in a ferroelectric device includes preparing a silicon substrate; depositing an indium-containing thin film on the substrate; patterning the indium containing thin film; annealing the structure; selectively depositing a ferroelectric layer by MOCVD; annealing the structure; and completing the ferroelectric device.

摘要翻译： 在铁电体元件的含铟基板上选择性地析出铁电薄膜的方法包括：制备硅基板; 在基板上沉积含铟薄膜; 图案化含铟薄膜; 退火结构; 通过MOCVD选择性沉积铁电层; 退火结构; 并完成铁电器件。

公开(公告)号：US20080035946A1

公开(公告)日：2008-02-14

申请号：US11973525

申请日：2007-10-09

申请人： Wei Gao ,  Tingkai Li ,  Robert Barrowcliff ,  Yoshi Ono ,  Sheng Hsu

发明人： Wei Gao ,  Tingkai Li ,  Robert Barrowcliff ,  Yoshi Ono ,  Sheng Hsu

IPC分类号： H01L33/00 ,  H01L23/58

CPC分类号： H05B33/145 ,  H01L21/3115 ,  H01L31/03046 ,  Y02E10/544

摘要： A method is provided for forming a rare earth (RE) element-doped silicon (Si) oxide film with nanocrystalline (nc) Si particles. The method comprises: providing a first target of Si, embedded with a first rare earth element; providing a second target of Si; co-sputtering the first and second targets; forming a Si-rich Si oxide (SRSO) film on a substrate, doped with the first rare earth element; and, annealing the rare earth element-doped SRSO film. The first target is doped with a rare earth element such as erbium (Er), ytterbium (Yb), cerium (Ce), praseodymium (Pr), or terbium (Tb). The sputtering power is in the range of about 75 to 300 watts (W). Different sputtering powers are applied to the two targets. Also, deposition can be controlled by varying the effective areas of the two targets. For example, one of the targets can be partially covered.

摘要翻译： 提供了一种用于形成具有纳米晶体（nc）Si颗粒的稀土（RE）元素掺杂硅（Si）氧化物膜的方法。 该方法包括：提供嵌入有第一稀土元素的Si的第一靶; 提供Si的第二个目标; 共溅射第一和第二个目标; 在掺杂有第一稀土元素的衬底上形成富Si氧化硅（SRSO）膜; 并对稀土元素掺杂的SRSO膜退火。 第一靶用铒（Er），镱（Yb），铈（Ce），镨（Pr）或铽（Tb）等稀土元素掺杂。 溅射功率在约75至300瓦（W）的范围内。 不同的溅射功率被应用于两个目标。 此外，可以通过改变两个目标的有效面积来控制沉积。 例如，其中一个目标可以被部分覆盖。

公开(公告)号：US20080006814A1

公开(公告)日：2008-01-10

申请号：US11900999

申请日：2007-09-15

申请人： Sheng Hsu ,  Tingkai Li

发明人： Sheng Hsu ,  Tingkai Li

IPC分类号： H01L47/00

CPC分类号： H01L27/101 ,  G11C13/0007 ,  G11C2213/31 ,  H01L27/2409 ,  H01L27/2463 ,  H01L29/66143 ,  H01L29/872 ,  H01L45/04 ,  H01L45/1233 ,  H01L45/147

摘要： A metal/semiconductor/metal (MSM) binary switch memory device and fabrication process are provided. The device includes a memory resistor bottom electrode, a memory resistor material over the memory resistor bottom electrode, and a memory resistor top electrode over the memory resistor material. An MSM bottom electrode overlies the memory resistor top electrode, a semiconductor layer overlies the MSM bottom electrode, and an MSM top electrode overlies the semiconductor layer. The MSM bottom electrode can be a material such as Pt, Ir, Au, Ag, TiN, or Ti. The MSM top electrode can be a material such as Pt, Ir, Au, TiN, Ti, or Al. The semiconductor layer can be amorphous Si, ZnO2, or InO2.

摘要翻译： 提供金属/半导体/金属（MSM）二进制开关存储器件和制造工艺。 该器件包括存储器电阻器底部电极，存储器电阻器底部电极上方的存储器电阻器材料，以及存储器电阻器材料上的存储器电阻器顶部电极。 MSM底部电极覆盖存储电阻器顶部电极，半导体层覆盖在MSM底部电极上，并且MSM顶部电极覆盖半导体层。 MSM底部电极可以是诸如Pt，Ir，Au，Ag，TiN或Ti的材料。 MSM顶部电极可以是诸如Pt，Ir，Au，TiN，Ti或Al的材料。 半导体层可以是非晶Si，ZnO 2或InO 2。

公开(公告)号：US20080003697A1

公开(公告)日：2008-01-03

申请号：US11215521

申请日：2005-08-30

申请人： Tingkai Li ,  Sheng Hsu ,  Bruce Ulrich

发明人： Tingkai Li ,  Sheng Hsu ,  Bruce Ulrich

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： H01L21/28291 ,  H01L29/66583 ,  H01L29/78

摘要： A method of fabricating a conductive metal oxide gate ferroelectric memory transistor includes forming an oxide layer a substrate and removing the oxide layer in a gate area; depositing a conductive metal oxide layer on the oxide layer and on the exposed gate area; depositing a titanium layer on the metal oxide layer; patterning and etching the titanium layer and the metal oxide layer to remove the titanium layer and the metal oxide layer from the substrate except in the gate area; depositing, patterning and etching an oxide layer to form a gate trench; depositing and etching a barrier insulator layer to form a sidewall barrier in the gate trench; removing the titanium layer from the gate area; depositing, smoothing and annealing a ferroelectric layer in the gate trench; depositing, patterning and etching a top electrode; and completing the conductive metal oxide gate ferroelectric memory transistor.

摘要翻译： 一种制造导电金属氧化物栅极铁电存储晶体管的方法，包括：在衬底上形成氧化物层并去除栅极区域中的氧化物层; 在氧化物层和暴露的栅极区上沉积导电金属氧化物层; 在所述金属氧化物层上沉积钛层; 图案化和蚀刻钛层和金属氧化物层以除去栅极区域之外的基板以除去钛层和金属氧化物层; 沉积，图案化和蚀刻氧化物层以形成栅极沟槽; 沉积和蚀刻阻挡绝缘体层以在栅极沟槽中形成侧壁势垒; 从栅极区域去除钛层; 沉积，平滑和退火栅极沟槽中的铁电层; 沉积，图案化和蚀刻顶部电极; 并完成导电金属氧化物栅极铁电存储晶体管。

公开(公告)号：US20070221975A1

公开(公告)日：2007-09-27

申请号：US11805177

申请日：2007-05-22

申请人： Tingkai Li ,  Lawrence Charneski ,  Wei-Wei Zhuang ,  David Evans ,  Sheng Hsu

发明人： Tingkai Li ,  Lawrence Charneski ,  Wei-Wei Zhuang ,  David Evans ,  Sheng Hsu

IPC分类号： H01L29/92

CPC分类号： H01L45/04 ,  H01L45/1233 ,  H01L45/147 ,  H01L45/1616

摘要： A multi-layer PrxCa1-xMnO3 (PCMO) thin film capacitor and associated deposition method are provided for forming a bipolar switching thin film. The method comprises: forming a bottom electrode; depositing a nanocrystalline PCMO layer; depositing a polycrystalline PCMO layer; forming a multi-layer PCMO film with bipolar switching properties; and forming top electrode overlying the PCMO film. If the polycrystalline layers are deposited overlying the nanocrystalline layers, a high resistance can be written with narrow pulse width, negative voltage pulses. The PCMO film can be reset to a low resistance using a narrow pulse width, positive amplitude pulse. Likewise, if the nanocrystalline layers are deposited overlying the polycrystalline layers, a high resistance can be written with narrow pulse width, positive voltage pulses, and reset to a low resistance using a narrow pulse width, negative amplitude pulse.

摘要翻译： 提供了多层Pr 1 x 1 x x MnO 3（PCMO）薄膜电容器和相关的沉积方法，用于形成双极开关 薄膜。 该方法包括：形成底部电极; 沉积纳米晶体PCMO层; 沉积多晶的PCMO层; 形成具有双极开关特性的多层PCMO膜; 并形成覆盖PCMO膜的顶部电极。 如果多晶层沉积在纳米晶层之上，则可以用窄脉冲宽度，负电压脉冲写入高电阻。 PCMO膜可以使用窄脉冲宽度，正幅度脉冲复位为低电阻。 同样，如果纳米晶层沉积在多晶层上，则可以用窄脉冲宽度，正电压脉冲写入高电阻，并使用窄脉冲宽度，负幅度脉冲将其复位为低电阻。

公开(公告)号：US20070099441A1

公开(公告)日：2007-05-03

申请号：US11262439

申请日：2005-10-28

申请人： John Conley ,  Yoshi Ono ,  Lisa Stecker ,  Sheng Hsu ,  Josh Green ,  Lifeng Dong ,  Jun Jiao

发明人： John Conley ,  Yoshi Ono ,  Lisa Stecker ,  Sheng Hsu ,  Josh Green ,  Lifeng Dong ,  Jun Jiao

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： H01J9/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/162 ,  C01B32/168 ,  C01B2202/34 ,  C01B2202/36 ,  H01J1/304 ,  H01J2201/30469 ,  H01L21/0237 ,  H01L21/02381 ,  H01L21/02444 ,  H01L21/02472 ,  H01L21/02483 ,  H01L21/02513 ,  H01L21/02554 ,  H01L21/02601 ,  Y10S977/754

摘要： A ZnO asperity-covered carbon nanotube (CNT) device has been provided, along with a corresponding fabrication method. The method comprises: forming a substrate; growing CNTs from the substrate; conformally coating the CNTs with ZnO; annealing the ZnO-coated CNTs; and, forming ZnO asperities on the surface of the CNTs in response to the annealing. In one aspect, the ZnO asperities have a density in the range of about 100 to 1000 ZnO asperities per CNT. The density is dependent upon the deposited ZnO film thickness and annealing parameters. The CNTs are conformally coating with ZnO using a sputtering, chemical vapor deposition (CVD), spin-on, or atomic layer deposition (ALD). For example, an ALD process can be to deposit a layer of ZnO over the CNTs having a thickness in the range of 1.2 to 200 nanometers (nm).

摘要翻译： 已经提供了ZnO微粒覆盖碳纳米管（CNT）器件，以及相应的制造方法。 该方法包括：形成衬底; 从底物生长CNT; 用ZnO共形涂覆CNT; 退火ZnO涂层的CNT; 并且响应于退火在CNT的表面上形成ZnO粗糙度。 在一个方面，ZnO粗糙度的密度在每个CNT约100-1000nm的ZnO粗糙度的范围内。 密度取决于沉积的ZnO膜厚度和退火参数。 使用溅射，化学气相沉积（CVD），旋涂或原子层沉积（ALD），使用ZnO共形涂覆CNT。 例如，ALD工艺可以在厚度在1.2至200纳米（nm）范围内的CNT上沉积ZnO层。

公开(公告)号：US20070012876A1

公开(公告)日：2007-01-18

申请号：US11524656

申请日：2006-09-21

申请人： Jong Lee ,  Jer-Shen Maa ,  Douglas Tweet ,  Sheng Hsu

发明人： Jong Lee ,  Jer-Shen Maa ,  Douglas Tweet ,  Sheng Hsu

IPC分类号： G01J5/20 ,  H01L27/14 ,  H01L31/00

CPC分类号： H01L31/105 ,  H01L21/02381 ,  H01L21/0243 ,  H01L21/0245 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02639 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14643 ,  H01L31/02327 ,  H01L31/028 ,  H01L31/035281 ,  H01L31/108 ,  H01L31/109 ,  H01L31/1812 ,  Y02E10/547

摘要： A SiGe surface-normal optical path photodetector structure and a method for forming the SiGe optical path normal structure are provided. The method comprises: forming a Si substrate with a surface; forming a Si feature, normal with respect to the Si substrate surface, such as a via, trench, or pillar; depositing SiGe overlying the Si normal feature to a thickness in the range of 5 to 1000 nanometers (nm); and, forming a SiGe optical path normal structure having an optical path length in the range of 0.1 to 10 microns. Typically, the SiGe has a Ge concentration in the range from 5 to 100%. The Ge concentration may be graded to increase with respect to the deposition thickness. For example, the SiGe may have a 20% concentration of Ge at the Si substrate interface, a 30% concentration of Ge at a SiGe film top surface, and a thickness of 400 nm.

摘要翻译： 提供SiGe表面法线光路检测器结构和形成SiGe光路法线结构的方法。 该方法包括：用表面形成Si衬底; 形成Si特征，相对于诸如通孔，沟槽或柱的Si衬底表面是正常的; 将Si覆盖Si正常特征的SiGe沉积到5至1000纳米（nm）范围内的厚度; 并且形成光程长度为0.1〜10微米的SiGe光路法线结构。 通常，SiGe的Ge浓度为5〜100％。 Ge浓度可以相对于沉积厚度而分级增加。 例如，SiGe可以在Si衬底界面处具有20％的Ge浓度，在SiGe膜顶表面上可以具有30％的Ge浓度，并且厚度为400nm。

公开(公告)号：US20060214172A1

公开(公告)日：2006-09-28

申请号：US11090386

申请日：2005-03-23

申请人： Sheng Hsu ,  Tingkai Li ,  Wei-Wei Zhuang

发明人： Sheng Hsu ,  Tingkai Li ,  Wei-Wei Zhuang

IPC分类号： H01L33/00 ,  H01L21/00

CPC分类号： H01L33/08 ,  B82Y20/00 ,  H01L33/18 ,  H01L33/24 ,  H01L33/34 ,  H01L33/502 ,  Y10S977/834

摘要： A nanotip electroluminescence (EL) diode and a method are provided for fabricating said device. The method comprises: forming a plurality of Si nanotip diodes; forming a phosphor layer overlying the nanotip diode; and, forming a top electrode overlying the phosphor layer. The nanotip diodes are formed by: forming a Si substrate with a top surface; forming a Si p-well; forming an n+ layer of Si, having a thickness in the range of 30 to 300 nanometers (nm) overlying the Si p-well; forming a reactive ion etching (RIE)-induced polymer grass overlying the substrate top surface; using the RIE-induced polymer grass as a mask, etching areas of the substrate not covered by the mask; and, forming the nanotip diodes in areas of the substrate covered by the mask.

摘要翻译： 提供了一种纳米末端电致发光（EL）二极管和一种用于制造所述器件的方法。 该方法包括：形成多个Si纳米二极管; 形成覆盖所述纳米二极管的磷光体层; 并且形成覆盖磷光体层的顶部电极。 纳米二极管通过以下方式形成：形成具有顶表面的Si衬底; 形成Si对孔; 形成层叠Si层的厚度为30〜300纳米（nm）的Si的n +层; 形成覆盖在衬底顶表面上的反应离子蚀刻（RIE）诱导的聚合物草; 使用RIE诱导的聚合物草作为掩模，蚀刻未被掩模覆盖的基底的区域; 以及在由掩模覆盖的衬底的区域中形成纳米二极管二极管。

公开(公告)号：US20060189014A1

公开(公告)日：2006-08-24

申请号：US11066713

申请日：2005-02-24

申请人： Tingkai Li ,  Pooran Joshi ,  Wei Gao ,  Yoshi Ono ,  Sheng Hsu

发明人： Tingkai Li ,  Pooran Joshi ,  Wei Gao ,  Yoshi Ono ,  Sheng Hsu

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： H01L31/03046 ,  Y02E10/544 ,  Y02P70/521

摘要： A method for forming a high-luminescence Si electroluminescence (EL) phosphor is provided, with an EL device made from the Si phosphor. The method comprises: depositing a silicon-rich oxide (SRO) film, with Si nanocrystals, having a refractive index in the range of 1.5 to 2.1, and a porosity in the range of 5 to 20%; and, post-annealing the SRO film in an oxygen atmosphere. DC-sputtering or PECVD processes can be used to deposit the SRO film. In one aspect the method further comprises: HF buffered oxide etching (BOE) the SRO film; and, re-oxidizing the SRO film, to form a SiO2 layer around the Si nanocrystals in the SRO film. In one aspect, the SRO film is re-oxidized by annealing in an oxygen atmosphere. In this manner, a layer of SiO2 is formed around the Si nanocrystals having a thickness in the range of 1 to 5 nanometers (nm).

摘要翻译： 提供一种用于形成高发光Si电致发光（EL）荧光体的方法，其具有由Si荧光体制成的EL器件。 该方法包括：用Si纳米晶体沉积富含氧的氧化物（SRO）膜，折射率在1.5至2.1范围内，孔隙率在5至20％的范围内; 并且在氧气氛中对SRO膜进行后退火。 DC溅射或PECVD工艺可用于沉积SRO膜。 在一个方面，该方法还包括：HF缓冲氧化物蚀刻（BOE）SRO膜; 并且再次氧化SRO膜，以在SRO膜中的Si纳米晶体周围形成SiO 2层。 在一个方面，SRO膜通过在氧气气氛中退火再次氧化。 以这种方式，在具有1至5纳米（nm）范围内的厚度的Si纳米晶体周围形成SiO 2层。

公开(公告)号：US20060183305A1

公开(公告)日：2006-08-17

申请号：US11334015

申请日：2006-01-18

申请人： Wei Gao ,  Tingkai Li ,  Robert Barrowcliff ,  Yoshi Ono ,  Sheng Hsu

发明人： Wei Gao ,  Tingkai Li ,  Robert Barrowcliff ,  Yoshi Ono ,  Sheng Hsu

IPC分类号： H01L21/425

CPC分类号： H05B33/145 ,  H01L21/3115 ,  H01L31/03046 ,  Y02E10/544

摘要： A method is provided for forming a rare earth (RE) element-doped silicon (Si) oxide film with nanocrystalline (nc) Si particles. The method comprises: providing a first target of Si, embedded with a first rare earth element; providing a second target of Si; co-sputtering the first and second targets; forming a Si-rich Si oxide (SRSO) film on a substrate, doped with the first rare earth element; and, annealing the rare earth element-doped SRSO film. The first target is doped with a rare earth element such as erbium (Er), ytterbium (Yb), cerium (Ce), praseodymium (Pr), or terbium (Tb). The sputtering power is in the range of about 75 to 300 watts (W). Different sputtering powers are applied to the two targets. Also, deposition can be controlled by varying the effective areas of the two targets. For example, one of the targets can be partially covered.

摘要翻译： 提供了一种用于形成具有纳米晶体（nc）Si颗粒的稀土（RE）元素掺杂硅（Si）氧化物膜的方法。 该方法包括：提供嵌入有第一稀土元素的Si的第一靶; 提供Si的第二个目标; 共溅射第一和第二个目标; 在掺杂有第一稀土元素的衬底上形成富Si氧化硅（SRSO）膜; 并对稀土元素掺杂的SRSO膜退火。 第一靶用铒（Er），镱（Yb），铈（Ce），镨（Pr）或铽（Tb）等稀土元素掺杂。 溅射功率在约75至300瓦（W）的范围内。 不同的溅射功率被应用于两个目标。 此外，可以通过改变两个目标的有效面积来控制沉积。 例如，其中一个目标可以被部分覆盖。