公开(公告)号：US06870601B2

公开(公告)日：2005-03-22

申请号：US10457786

申请日：2003-06-10

申请人： Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Arno Jan Bleeker ,  Erik Roelof Loopstra ,  Harry Borggreve

发明人： Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Arno Jan Bleeker ,  Erik Roelof Loopstra ,  Harry Borggreve

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/42 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70991 ,  G03F7/70291

摘要： A lithographic apparatus uses the control signal from a computer to drive two spatial light modulators to pattern two separate projection beams for projection onto two substrates.

摘要翻译： 光刻设备使用来自计算机的控制信号来驱动两个空间光调制器来图案化两个分离的投影光束以投影到两个基板上。

公开(公告)号：US20140160452A1

公开(公告)日：2014-06-12

申请号：US14233361

申请日：2012-07-20

申请人： Pieter Willem Herman De Jager ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Arno Jan Bleeker ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Lucas Henricus Johnannes Stevens ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Sander Frederik Wuister

发明人： Pieter Willem Herman De Jager ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Arno Jan Bleeker ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Lucas Henricus Johnannes Stevens ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Sander Frederik Wuister

IPC分类号： B41C1/10

CPC分类号： B41C1/1091 ,  C23C14/28 ,  G03F7/70375 ,  G03F7/70383

摘要： A lithographic apparatus is disclosed that includes a modulator to modulate a plurality of beams according to a desired pattern and a donor structure on to which the modulated beams impinge. The donor structure is configured such that the impinging modulated beams cause a donor material to be transferred from the donor structure to the substrate.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备，其包括根据期望的图案调制多个光束的调制器和被调制的光束照射到的施主结构。 供体结构被配置为使得入射的调制光束使施主材料从施主结构转移到衬底。

公开(公告)号：US08189172B2

公开(公告)日：2012-05-29

申请号：US11763275

申请日：2007-06-14

申请人： Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Arno Jan Bleeker

发明人： Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Arno Jan Bleeker

IPC分类号： G01B9/02 ,  G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/706

摘要： Systems and methods are provided for measuring aberration in a lithographic apparatus. A radiation beam is modulated using an array of individually controllable elements, and the modulated beam is projected using a projection system. A pattern is provided on the array of individually controllable elements to modulate the radiation beam, and the pattern comprises a repeating structure that is formed from a plurality of features that are dimensioned such that first order diffraction of the radiation beam substantially fills the pupil of the projection system. A sensor detects the projected radiation and measures interference in the radiation projected by the projection system. Aberration in the detected radiation beam is then measured.

摘要翻译： 提供了用于测量光刻设备中的像差的系统和方法。 使用单独可控元件的阵列来调制辐射束，并且使用投影系统投影调制束。 在单独可控元件的阵列上提供图案以调制辐射束，并且图案包括由多个特征形成的重复结构，其尺寸使得辐射束的一阶衍射基本上填充了辐射束的瞳孔 投影系统 传感器检测投射的辐射并测量由投影系统投射的辐射的干扰。 然后测量检测到的辐射束中的畸变。

公开(公告)号：US20120038929A1

公开(公告)日：2012-02-16

申请号：US13249566

申请日：2011-09-30

申请人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

发明人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

IPC分类号： G01J3/45

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/7065 ,  G03F9/7034

摘要： An apparatus and method to determine a property of a substrate by measuring, in the pupil plane of a high numerical aperture lens, an angle-resolved spectrum as a result of radiation being reflected off the substrate. The property may be angle and wavelength dependent and may include the intensity of TM- and TE-polarized radiation and their relative phase difference.

摘要翻译： 通过在高数值孔径透镜的光瞳平面中测量作为辐射的结果的角度分辨光谱从衬底反射来确定衬底的性质的装置和方法。 该属性可以是角度和波长相关的，并且可以包括TM和TE偏振辐射的强度及其相对相位差。

公开(公告)号：US08018578B2

公开(公告)日：2011-09-13

申请号：US11785744

申请日：2007-04-19

申请人： Vadim Yevgenyevich Banine ,  Arno Jan Bleeker

发明人： Vadim Yevgenyevich Banine ,  Arno Jan Bleeker

IPC分类号： F21V9/04 ,  F21V9/06 ,  G02B5/20 ,  G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70983

摘要： A pellicle for integrated circuit equipment operating in an EUV range includes a multi-layered structure of alternating layers. The pellicle is constructed and arranged to reflect or absorb undesired radiation and to intercept debris to enhance the spectral purity of a radiation beam.

摘要翻译： 用于在EUV范围内工作的集成电路设备的防护薄膜组件包括交替层的多层结构。 防护薄膜组件被构造和布置成反射或吸收不想要的辐射并拦截碎片以增强辐射束的光谱纯度。

公开(公告)号：US20110043791A1

公开(公告)日：2011-02-24

申请号：US12855394

申请日：2010-08-12

申请人： Hendrik Jan Hidde Smilde ,  Arno Jan Bleeker ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Armand Eugene Albert Koolen ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Reinder Teun Plug ,  Willem Marie Julia Marcel Coene

发明人： Hendrik Jan Hidde Smilde ,  Arno Jan Bleeker ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Armand Eugene Albert Koolen ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Reinder Teun Plug ,  Willem Marie Julia Marcel Coene

IPC分类号： G01N21/41

CPC分类号： G03F7/70633 ,  G03F7/70616

摘要： A metrology apparatus is arranged to illuminate a plurality of targets with an off-axis illumination mode. Images of the targets are obtained using only one first order diffracted beam. Where the target is a composite grating, overlay measurements can be obtained from the intensities of the images of the different gratings. Overlay measurements can be corrected for errors caused by variations in the position of the gratings in an image field.

摘要翻译： 计量装置被布置成以离轴照明模式照亮多个目标。 仅使用一个一阶衍射光束获得目标图像。 在目标是复合光栅的地方，可以从不同光栅的图像的强度获得覆盖测量。 可以对由图像场中的光栅位置的变化引起的误差来校正叠加测量。

公开(公告)号：US07791732B2

公开(公告)日：2010-09-07

申请号：US11203418

申请日：2005-08-15

申请人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

发明人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

IPC分类号： G01B9/02 ,  G01J3/45 ,  G01N21/00

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/7065 ,  G03F9/7034

摘要： An apparatus and method to determine a property of a substrate by measuring, in the pupil plane of a high numerical aperture lens, an angle-resolved spectrum as a result of radiation being reflected off the substrate. The property may be angle and wavelength dependent and may include the intensity of TM- and TE-polarized radiation and their relative phase difference.

摘要翻译： 通过在高数值孔径透镜的光瞳平面中测量作为辐射的结果的角度分辨光谱从衬底反射来确定衬底的性质的装置和方法。 该属性可以是角度和波长相关的，并且可以包括TM和TE偏振辐射的强度及其相对相位差。

公开(公告)号：US20090213353A1

公开(公告)日：2009-08-27

申请号：US12412437

申请日：2009-03-27

申请人： Cheng-Qun Gui ,  Arno Jan Bleeker ,  Pieter Willem Herman De Jager

发明人： Cheng-Qun Gui ,  Arno Jan Bleeker ,  Pieter Willem Herman De Jager

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70308

摘要： Provided is a method and system for facilitating use of a plurality of individually controllable elements to modulate the intensity of radiation received at each focusing element of an array of focusing elements to control the intensity of the radiation in the areas on the substrate onto which the focusing elements direct the radiation.

摘要翻译： 提供了一种用于促进使用多个可单独控制的元件来调制在聚焦元件阵列的每个聚焦元件处接收的辐射强度的方法和系统，以控制在其上聚焦的基底上的区域中的辐射强度 元素引导辐射。

公开(公告)号：US07508494B2

公开(公告)日：2009-03-24

申请号：US11643952

申请日：2006-12-22

申请人： Arno Jan Bleeker ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Johannes Hendrikus Gertrudis Franssen ,  Johannes Theodorus Guillielmus Maria Van De Ven ,  Michiel Puyt ,  Teun Peterus Adrianus De Wilt

发明人： Arno Jan Bleeker ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Johannes Hendrikus Gertrudis Franssen ,  Johannes Theodorus Guillielmus Maria Van De Ven ,  Michiel Puyt ,  Teun Peterus Adrianus De Wilt

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/707 ,  H01L21/683

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system constructed and arranged to condition a radiation beam, and a support constructed and arranged to support a patterning device. The patterning device is capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The apparatus also includes a substrate table constructed and arranged to hold a substrate, and a projection system constructed and arranged to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. The substrate table includes a plurality of projections constructed and arranged to support corresponding parts of a bottom section of the substrate, and an actuator constructed and arranged to excite a shockwave in the substrate.

摘要翻译： 光刻设备包括构造和布置成调节辐射束的照明系统，以及构造和布置成支撑图案形成装置的支撑件。 图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束。 所述装置还包括被构造和布置成保持基板的基板台，以及构造和布置成将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统。 衬底台包括多个突起，其被构造和布置成支撑衬底的底部的对应部分，以及构造和布置成激发衬底中的冲击波的致动器。

公开(公告)号：US07474384B2

公开(公告)日：2009-01-06

申请号：US10994201

申请日：2004-11-22

申请人： Arno Jan Bleeker ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Stephen Roux ,  Michael L. Nelson

发明人： Arno Jan Bleeker ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Stephen Roux ,  Michael L. Nelson

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70308

摘要： A lithographic apparatus, a device manufacturing method, and a projection element for use in a lithographic apparatus are disclosed. The lithographic apparatus has a radiation system for providing a pulsed beam of radiation, a patterning device for imparting the beam with a pattern to form a patterned radiation beam, and a projection system having a projection element for projecting the patterned beam onto a target portion of a substrate. The apparatus further comprises an actuator for moving the projection element for shifting the patterned beam that is projected onto the substrate during at least one pulse of the radiation system. This can be done to compensate for a positional error between a substrate table holding the substrate and an aerial image of the projection system. The positional error could occur due to mechanical vibrations in the frame system of the lithographic apparatus.

摘要翻译： 公开了一种用于光刻设备的光刻设备，设备制造方法和投影元件。 光刻设备具有用于提供脉冲辐射束的辐射系统，用于将光束赋予图案以形成图案化辐射束的图案形成装置，以及具有用于将图案化光束投影到目标部分的投影元件的投影系统 底物。 该装置还包括用于移动投影元件的致动器，用于移动在辐射系统的至少一个脉冲期间投影到基板上的图案化光束。 这可以进行以补偿保持基板的基板台与投影系统的空中图像之间的位置误差。 位置误差可能由于光刻设备的框架系统中的机械振动而发生。