公开(公告)号：US09567691B2

公开(公告)日：2017-02-14

申请号：US12487119

申请日：2009-06-18

申请人： Peter L. Kellerman ,  Frank Sinclair ,  Frederick Carlson ,  Julian G. Blake

发明人： Peter L. Kellerman ,  Frank Sinclair ,  Frederick Carlson ,  Julian G. Blake

IPC分类号： C01B33/02 ,  C30B11/00 ,  C01B33/037 ,  C30B28/06 ,  C30B29/02 ,  C30B29/06 ,  C30B29/08 ,  C30B29/40 ,  C30B29/60

CPC分类号： C30B11/003 ,  C01B33/037 ,  C30B11/001 ,  C30B28/06 ,  C30B29/02 ,  C30B29/06 ,  C30B29/08 ,  C30B29/406 ,  C30B29/60

摘要： An apparatus to purify a melt is disclosed. A first portion of a melt in a chamber is frozen in a first direction. A fraction of the first portion is melted in the first direction. A second portion of the melt remains frozen. The melt flows from the chamber and the second portion is removed from the chamber. The freezing concentrates solutes in the melt and second portion. The second portion may be a slug with a high solute concentration. This system may be incorporated into a sheet forming apparatus with other components such as, for example, pumps, filters, or particle traps.

摘要翻译： 公开了一种净化熔体的设备。 室中的熔体的第一部分在第一方向上被冷冻。 第一部分的一部分在第一方向熔化。 熔体的第二部分保持冷冻。 熔体从腔室流出，第二部分从腔室中移出。 冷冻浓缩物溶解在熔体和第二部分中。 第二部分可以是高溶质浓度的塞子。 该系统可以结合到具有其它部件例如泵，过滤器或颗粒捕集器的片材成形设备中。

公开(公告)号：US08519353B2

公开(公告)日：2013-08-27

申请号：US12981096

申请日：2010-12-29

申请人： Svetlana Radovanov ,  Peter L. Kellerman ,  Frank Sinclair ,  Robert C. Lindberg

发明人： Svetlana Radovanov ,  Peter L. Kellerman ,  Frank Sinclair ,  Robert C. Lindberg

IPC分类号： H01J1/88 ,  H01J3/18 ,  H01J3/38 ,  G21K1/06

CPC分类号： H01J37/12 ,  H01J37/15 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/121 ,  H01J2237/151

摘要： A method of controlling deflection of a charged particle beam in an electrostatic lens includes establishing a symmetrical electrostatic lens configuration comprising a plurality of electrodes disposed at unadjusted positions that are symmetric with respect to the central ray trajectory with applied unadjusted voltages that create fields symmetric with respect to the central ray trajectory. A symmetric electric field is calculated corresponding to the set of unadjusted voltages. A plurality of lower electrodes is arranged at adjusted positions that are asymmetric with respect to the central ray trajectory. A set of adjusted voltages is obtained for the plurality of lower electrodes, wherein the set of adjusted voltages corresponds to a set of respective potentials of the symmetric electric field at respective adjusted asymmetric positions. The adjusted voltages are applied to the asymmetric lens configuration when the charged particle beam passes therethrough.

摘要翻译： 控制带电粒子束在静电透镜中的偏转的方法包括建立对称静电透镜配置，其包括设置在相对于中心射线轨迹对称的未调整位置的多个电极，其中施加的未调节电压产生对称的场 到中心射线轨迹。 对应于未调整电压组的对称电场。 多个下电极被布置在相对于中心射线轨迹不对称的调整位置处。 对于多个下电极获得一组调整的电压，其中所述一组调整的电压对应于在各自调整的非对称位置处的对称电场的各个电位的集合。 当带电粒子束通过时，经调整的电压施加到非对称透镜构型。

公开(公告)号：US08064071B2

公开(公告)日：2011-11-22

申请号：US12403200

申请日：2009-03-12

申请人： Christopher A. Rowland ,  Peter L. Kellerman ,  Frank Sinclair ,  Julian G. Blake ,  Nicholas P. T. Bateman

发明人： Christopher A. Rowland ,  Peter L. Kellerman ,  Frank Sinclair ,  Julian G. Blake ,  Nicholas P. T. Bateman

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G01B21/12

摘要： A sheet measurement apparatus has a sheet disposed in a melt. The measurement system uses a beam to determine a dimension of the sheet. This dimension may be, for example, height or width. The beam may be, for example, collimated light, a laser, x-rays, or gamma rays. The production of the sheet may be altered based on the measurements.

摘要翻译： 片材测量装置具有设置在熔体中的片材。 测量系统使用光束来确定纸张的尺寸。 该尺寸可以是例如高度或宽度。 光束可以是例如准直光，激光，X射线或γ射线。 可以基于测量来改变片材的生产。

公开(公告)号：US20110271897A1

公开(公告)日：2011-11-10

申请号：US13039789

申请日：2011-03-03

申请人： Peter L. Kellerman ,  Frederick Carlson

发明人： Peter L. Kellerman ,  Frederick Carlson

IPC分类号： C30B15/06

CPC分类号： C30B11/007 ,  C03B29/08 ,  C30B15/06 ,  C30B29/06 ,  C30B29/08 ,  Y10T117/1044 ,  Y10T117/1048 ,  Y10T117/1068

摘要： The embodiments herein relate to a sheet production apparatus. A vessel is configured to hold a melt of a material and a cooling plate is disposed proximate the melt. This cooling plate configured to form a sheet of the material on the melt. A pump is used. In one instance, this pump includes a gas source and a conduit in fluid communication with the gas source. In another instance, this pump injects a gas into a melt. The gas can raise the melt or provide momentum to the melt.

摘要翻译： 本文的实施例涉及片材生产设备。 容器构造成容纳材料的熔体，并且冷却板设置在熔体附近。 该冷却板构造成在熔体上形成材料片。 使用泵。 在一种情况下，该泵包括气体源和与气体源流体连通的导管。 在另一种情况下，该泵将气体注入熔体中。 气体可以提高熔体或为熔体提供动量。

公开(公告)号：US07800082B2

公开(公告)日：2010-09-21

申请号：US11276128

申请日：2006-02-15

申请人： Peter L. Kellerman ,  Keneth H. Purser

发明人： Peter L. Kellerman ,  Keneth H. Purser

IPC分类号： H01J37/317

CPC分类号： H01J37/05 ,  H01J37/141 ,  H01J37/1472 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0042 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/141 ,  H01J2237/142 ,  H01J2237/1508 ,  H01J2237/152 ,  H01J2237/31701 ,  H01J2237/31705

摘要： An electromagnet and related ion implanter system including active field containment are disclosed. The electromagnet provides a dipole magnetic field within a tall, large gap with minimum distortion and degradation of strength. In one embodiment, an electromagnet for modifying an ion beam includes: a ferromagnetic box structure including six sides; an opening in each of a first side and a second opposing side of the ferromagnetic box structure for passage of the ion beam therethrough; and a plurality of current-carrying wires having a path along an inner surface of the ferromagnetic box structure, the inner surface including the first side and the second opposing side and a third side and a fourth opposing side, wherein the plurality of current-carrying wires are positioned to pass around each of the openings of the first and second opposing sides.

摘要翻译： 公开了一种包括活性场容纳的电磁体和相关离子注入机系统。 电磁铁在高大的间隙内提供偶极磁场，具有最小的变形和强度的降低。 在一个实施例中，用于修改离子束的电磁体包括：包括六个边的铁磁盒结构; 所述铁磁盒结构的第一侧和第二相对侧中的每一个中的开口用于使所述离子束通过其中; 以及多个载流线，其具有沿铁磁箱结构的内表面的路径，内表面包括第一侧和第二相对侧，以及第三侧和第四相对侧，其中多个载流 电线定位成绕过第一和第二相对侧的每个开口。

公开(公告)号：US07748344B2

公开(公告)日：2010-07-06

申请号：US10702368

申请日：2003-11-06

申请人： William F. DiVergilio ,  Victor M. Benveniste ,  Peter L. Kellerman

发明人： William F. DiVergilio ,  Victor M. Benveniste ,  Peter L. Kellerman

IPC分类号： C23C16/452 ,  C23C16/507 ,  C23C16/509 ,  C23C16/517 ,  C23C16/505 ,  C23F1/00 ,  H01L21/306 ,  C23C16/06 ,  C23C16/22

CPC分类号： H01J37/321

摘要： An ion shower system is disclosed and comprises a plasma source operable to generate source gas ions within a chamber. The plasma source further comprises a plurality of conductor segments and a plurality of capacitors, wherein the conductor segments are serially connected through the plurality of capacitors. The plasma source further comprises an antenna drive circuit coupled to the plurality of conductor segments that provides power to the conductor segments and capacitors at a predetermined frequency. The ion shower system also comprises a source gas inlet that provides a source gas to the chamber. The conductor segments, capacitors and antenna drive circuit cooperatively provide energy to charged particles in the chamber, thereby energizing the charged particles and generating a plasma comprising source gas ions and electrons within the chamber due to ionizing collisions between the energized charged particles and the source gas.

摘要翻译： 公开了一种离子淋浴系统，其包括可操作以在室内产生源气体离子的等离子体源。 等离子体源还包括多个导体段和多个电容器，其中导体段通过多个电容器串联连接。 等离子体源还包括耦合到多个导体段的天线驱动电路，其以预定频率向导体段和电容器提供功率。 离子淋浴系统还包括向腔室提供源气体的源气体入口。 导体段，电容器和天线驱动电路协同地向腔室中的带电粒子提供能量，从而由于通电的带电粒子和源气体之间的电离碰撞，激发带电粒子并产生包含源室气体离子和电子的等离子体 。

公开(公告)号：US20090121122A1

公开(公告)日：2009-05-14

申请号：US11939173

申请日：2007-11-13

申请人： Peter L. Kellerman ,  Kenneth Purser ,  Svetlana Radovanov ,  Victor M. Benveniste ,  Frank Sinclair ,  John Slocum

发明人： Peter L. Kellerman ,  Kenneth Purser ,  Svetlana Radovanov ,  Victor M. Benveniste ,  Frank Sinclair ,  John Slocum

IPC分类号： H01J37/08 ,  G01D18/00

CPC分类号： H01J37/3171 ,  H01J37/244 ,  H01J37/304 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/24405 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/24528 ,  H01J2237/30472 ,  H01J2237/31703

摘要： Techniques for measuring and controlling ion beam angle and density uniformity are disclosed. In one particular exemplary embodiment, the techniques may be realized as an apparatus for measuring and controlling ion beam angle and density uniformity. The apparatus may include a measuring assembly having an opening, a cup, and at least one collector at the rear of the cup. The apparatus may further include an actuator to move the measuring assembly along an actuation path to scan an ion beam to measure and control ion beam uniformity.

摘要翻译： 公开了用于测量和控制离子束角度和密度均匀性的技术。 在一个特定的示例性实施例中，技术可以被实现为用于测量和控制离子束角度和密度均匀性的装置。 该装置可以包括具有开口，杯子和在杯后部的至少一个收集器的测量组件。 该装置还可以包括致动器，以沿着致动路径移动测量组件以扫描离子束以测量和控制离子束均匀性。

公开(公告)号：US07267520B2

公开(公告)日：2007-09-11

申请号：US11099022

申请日：2005-04-05

申请人： Peter L. Kellerman ,  Victor M. Benveniste ,  Kourosh Saadatmand ,  Mehran Asdigha ,  Douglas A. Brown

发明人： Peter L. Kellerman ,  Victor M. Benveniste ,  Kourosh Saadatmand ,  Mehran Asdigha ,  Douglas A. Brown

IPC分类号： B66F9/00

CPC分类号： H01L21/67069 ,  H01J2237/20228 ,  H01J2237/31701

摘要： The present invention is directed to a scanning apparatus and method for processing a workpiece, wherein the scanning apparatus comprises a wafer arm and moving arm fixedly coupled to one another, wherein the wafer arm and moving arm are operable to rotate about a first axis. An end effector, whereon the workpiece resides, is coupled to the wafer arm. A rotational shaft couples the wafer arm and moving arm to a first actuator, wherein the first actuator provides a rotational force to the shaft. A momentum balance mechanism is coupled to the shaft and is operable to generally reverse the rotational direction of the shaft. The momentum balance mechanism comprises one or more fixed spring elements operable to provide a force to a moving spring element coupled to the moving arm. A controller is further operable to maintain a generally constant translational velocity of the end effector within a predetermined scanning range.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于处理工件的扫描装置和方法，其中扫描装置包括彼此固定地连接的晶片臂和移动臂，其中晶片臂和移动臂可操作以围绕第一轴线旋转。 工件所在的端部执行器与晶片臂连接。 旋转轴将晶片臂和移动臂联接到第一致动器，其中第一致动器向轴提供旋转力。 动量平衡机构联接到轴上并且可操作地大体上使轴的旋转方向反转。 动量平衡机构包括一个或多个固定弹簧元件，其可操作以向耦合到移动臂的移动弹簧元件提供力。 控制器还可操作以将末端执行器的大致恒定的平移速度保持在预定扫描范围内。

公开(公告)号：US07078707B1

公开(公告)日：2006-07-18

申请号：US11029052

申请日：2005-01-04

申请人： Victor M. Benveniste ,  Peter L. Kellerman ,  William F. DiVergilio

发明人： Victor M. Benveniste ,  Peter L. Kellerman ,  William F. DiVergilio

IPC分类号： G21K5/10 ,  H01J37/08

CPC分类号： H01J37/3171 ,  H01J2237/31703

摘要： Methods are provided for calibrating an ion beam scanner in an ion implantation system, comprising measuring a plurality of initial current density values at a plurality of locations along a scan direction, where the values individually correspond to one of a plurality of initial voltage scan intervals and one of a corresponding plurality of initial scan time values, creating a system of linear equations based on the measured initial current density values and the initial voltage scan intervals, and determining a set of scan time values that correspond to a solution to the system of linear equations that reduces current density profile deviations. A calibration system is provided for calibrating an ion beam scanner in an ion implantation system, comprising a dosimetry system and a control system.

摘要翻译： 提供了用于在离子注入系统中校准离子束扫描器的方法，包括在沿着扫描方向的多个位置处测量多个初始电流密度值，其中所述值分别对应于多个初始电压扫描间隔中的一个，以及 相应的多个初始扫描时间值中的一个，基于测量的初始电流密度值和初始电压扫描间隔创建线性方程组，并且确定与线性系统的解的对应的一组扫描时间值 减小电流密度分布偏差的方程式。 提供校准系统用于在离子注入系统中校准离子束扫描器，包括剂量测定系统和控制系统。

公开(公告)号：US07072165B2

公开(公告)日：2006-07-04

申请号：US10642939

申请日：2003-08-18

申请人： Peter L. Kellerman ,  Shu Qin ,  Douglas A. Brown

发明人： Peter L. Kellerman ,  Shu Qin ,  Douglas A. Brown

IPC分类号： H01L21/683

CPC分类号： H01L21/6875 ,  H01L21/6833

摘要： The present invention is directed to a semiconductor processing apparatus and a method for clamping a semiconductor substrate and controlling a heat transfer associated therewith. According to one aspect of the present invention, a multi-polar electrostatic chuck and associated method is disclosed which provides a controlled and uniform heat transfer coefficient across a surface thereof. The multi-polar electrostatic chuck comprises a semiconductor platform having a plurality of protrusions that define gaps therebetween, wherein a distance or depth of the gaps is uniform and associated with a mean free path of the cooling gas therein. The electrostatic chuck is permits a control of a backside pressure of a cooling gas within the plurality of gaps to thus control a heat transfer coefficient of the cooling gas. The plurality of protrusions further provide a uniform contact surface, wherein a contact conductivity between the plurality of protrusions and the substrate is controllable and significantly uniform across the substrate.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于夹持半导体衬底并控制与之相关的热传递的半导体处理装置和方法。 根据本发明的一个方面，公开了一种多极静电卡盘和相关方法，其提供跨越其表面的受控且均匀的传热系数。 多极静电卡盘包括具有限定间隙的多个突起的半导体平台，其中间隙的距离或深度是均匀的，并且与其中的冷却气体的平均自由路径相关联。 静电吸盘可以控制多个间隙内的冷却气体的背侧压力，从而控制冷却气体的传热系数。 多个突起还提供均匀的接触表面，其中多个突起和基底之间的接触导电性在基底上是可控的和显着均匀的。