公开(公告)号：US20160223467A1

公开(公告)日：2016-08-04

申请号：US15021415

申请日：2014-09-16

申请人： KOREA INSTITUTE OF MACHINERY & MATERIALS ,  KOREA RESEARCH INSTITUTE OF CHEMICAL TECHNOLOGY

发明人： Yung Doug Suh ,  Jung Heum Yun ,  Sung Gyu Park ,  Hae Mi Lee ,  Gun Hwan Lee ,  Dong Ho Kim

IPC分类号： G01N21/65 ,  C09D7/12 ,  C23C16/44

CPC分类号： G01N21/658 ,  B82Y15/00 ,  C09D7/61 ,  C23C16/44 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/068 ,  Y10S977/954

摘要： Disclosed are a substrate for surface-enhanced Raman spectroscopy allowing surface-enhanced Raman signals to be notably improved, even in cases of long-term storage, by producing the substrate so that metal nanoparticles thereon are distanced several nanometers apart, and a method for producing the substrate for surface-enhanced Raman spectroscopy at a large scale with simple equipment and at a low production cost.

摘要翻译： 公开了一种用于表面增强拉曼光谱的基板，即使在长期储存的情况下，通过制造基板使得其上的金属纳米颗粒在其上分开几纳米也可以显着提高表面增强拉曼信号，以及生产方法 用于表面增强拉曼光谱的基板，具有简单的设备并且生产成本低。

公开(公告)号：US09381575B2

公开(公告)日：2016-07-05

申请号：US14378087

申请日：2012-08-10

申请人： Anongsack Paseuth ,  Susumu Okuno ,  Hideaki Kanaoka ,  Erika Iwai ,  Takahiro Ichikawa

发明人： Anongsack Paseuth ,  Susumu Okuno ,  Hideaki Kanaoka ,  Erika Iwai ,  Takahiro Ichikawa

IPC分类号： B23B27/14 ,  C23C16/38 ,  C23C16/06 ,  C23C16/44

CPC分类号： B23B27/148 ,  B23B2224/00 ,  C23C16/06 ,  C23C16/38 ,  C23C16/44

摘要： A surface-coated cutting tool of the present invention includes a base material and a coating film formed on the base material. The coating film includes at least one TiB2 layer. The TiB2 layer has TC (100) that shows a maximum value in an orientation index TC (hkl), or has a ratio I (100)/I (101) of 1.2 or more between an X-ray diffraction intensity I (100) of a (100) plane and an X-ray diffraction intensity I (101) of a (101) plane.

摘要翻译： 本发明的表面覆盖切削工具包括基材和形成在基材上的涂膜。 涂膜包括至少一个TiB 2层。 TiB 2层具有在取向指数TC（hk1）中显示最大值的TC（100），或者在X射线衍射强度I（100）/（100））之间具有1.2以上的比率I（100）/ I 的（100）面和（101）面的X射线衍射强度I（101）。

公开(公告)号：US20160186318A1

公开(公告)日：2016-06-30

申请号：US15061303

申请日：2016-03-04

申请人： Valinge Innovation AB

发明人： DARKO PERVAN ,  GORAN ZIEGLER

IPC分类号： C23C16/44

CPC分类号： C23C16/44 ,  B05D3/12 ,  B05D5/02 ,  B05D5/06 ,  B05D7/06 ,  B05D2401/32 ,  B32B38/0036 ,  B32B38/06 ,  B32B38/145 ,  B32B2037/243 ,  B32B2305/30 ,  B32B2307/554 ,  B32B2309/02 ,  B32B2309/12 ,  B32B2317/02 ,  B32B2317/125 ,  B32B2317/16 ,  B32B2471/00 ,  B44C5/0476 ,  B44C5/0492 ,  Y10T156/1041

摘要： A method is disclosed of manufacturing a transparent wear resistant surface layer (1). The method may include the steps of, applying a decorative material on a carrier, applying a dry powder layer comprising a mix of processed wood fibres, binder and wear resistant particles above the decorative layer, curing the mix to a decorative surface, including the transparent wear resistant layer, by applying heat and pressure on the mix. In a preferred embodiment the method includes the step of pressing the mix against an embossed matrix to create an embossed decorative surface with high wear resistance.

公开(公告)号：US09371338B2

公开(公告)日：2016-06-21

申请号：US14372105

申请日：2013-07-19

申请人： American Air Liquide, Inc.

发明人： Christian Dussarrat ,  Glenn Kuchenbeiser ,  Venkateswara R. Pallem

IPC分类号： C23C16/00 ,  C07F7/02 ,  C23C16/30 ,  C23C16/34 ,  C23C16/36 ,  C23C16/40 ,  B05D1/00 ,  H01L21/02 ,  C23C16/44

CPC分类号： C07F7/025 ,  B05D1/60 ,  C23C16/30 ,  C23C16/345 ,  C23C16/36 ,  C23C16/401 ,  C23C16/402 ,  C23C16/44 ,  C23C16/45553 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/02532

摘要： Disclosed are Si-containing thin film forming precursors, methods of synthesizing the same, and methods of using the same to deposit silicon-containing films using vapor deposition processes for manufacturing semiconductors, photovoltaics, LCD-TFT, flat panel-type devices, refractory materials, or aeronautics.

摘要翻译： 公开了含Si的薄膜形成前体，其合成方法及其使用方法使用蒸镀法制造半导体，光伏，LCD-TFT，平板型器件，耐火材料 ，或航空。

公开(公告)号：US20160168694A1

公开(公告)日：2016-06-16

申请号：US14908863

申请日：2013-08-13

申请人： KONKUK UNIVERSITY INDUSTRIAL CORPORATION CORP

发明人： Yo-Sep MIN

IPC分类号： C23C16/30 ,  C01G39/06 ,  C23C16/455

CPC分类号： C23C16/305 ,  C01G39/06 ,  C23C16/44 ,  C23C16/45527 ,  C23C16/45553 ,  C23C16/45555

摘要： The present disclosure relates to a MoS2 thin film and a method for manufacturing the same. The present disclosure provides a MoS2 thin film and a method for manufacturing the same using an atomic layer deposition method. In particular, the MoS2 thin film is manufactured by an atomic layer deposition method without using a toxic gas such as H2S as a sulfur precursor. Thus, the present disclosure is eco-friendly. Furthermore, it is possible to prevent the damage and contamination of manufacturing equipment during the manufacturing process. In addition, it is possible to manufacture the MoS2 thin film by precisely controlling the thickness of the MoS2 thin film to the level of an atomic layer.

摘要翻译： 本发明涉及一种MoS2薄膜及其制造方法。 本公开内容提供了MoS 2薄膜及其使用原子层沉积方法制造该MoS2薄膜的方法。 特别地，MoS 2薄膜是通过原子层沉积方法制造而不使用有毒气体如H 2 S作为硫前体。 因此，本公开是环保的。 此外，可以防止在制造过程中制造设备的损坏和污染。 此外，通过将MoS 2薄膜的厚度精确地控制到原子层的水平，可以制造MoS2薄膜。

公开(公告)号：US20160133778A1

公开(公告)日：2016-05-12

申请号：US14997313

申请日：2016-01-15

申请人： SolarCity Corporation

发明人： Robert T. Trujillo ,  Steven C. Beese ,  Yan Rozenzon

IPC分类号： H01L31/18 ,  F16M11/04 ,  F16M11/18

CPC分类号： H01L31/18 ,  C23C16/44 ,  C23C16/52 ,  F16F15/0232 ,  F16F15/027 ,  F16F15/0275 ,  F16M11/046 ,  F16M11/18

摘要： One embodiment of the present invention provides a support system for providing dynamic support to a deposition reactor. The system includes a coupling mechanism configured to provide coupling between the deposition reactor and the support system, an attachment mechanism configured to attach the support system to an external frame, and at least one gas bellows situated between the coupling mechanism and the attachment mechanism.

摘要翻译： 本发明的一个实施例提供了一种用于向沉积反应器提供动态支持的支撑系统。 该系统包括配置成在沉积反应器和支撑系统之间提供耦合的联接机构，被配置成将支撑系统连接到外部框架的附接机构，以及位于联接机构和附接机构之间的至少一个气体波纹管。

公开(公告)号：US09297066B2

公开(公告)日：2016-03-29

申请号：US13559041

申请日：2012-07-26

申请人： Tomotake Nashiki ,  Yoshimasa Sakata ,  Hideo Sugawara ,  Kenkichi Yagura ,  Akira Hamada ,  Yoshihisa Ito ,  Kuniaki Ishibashi

发明人： Tomotake Nashiki ,  Yoshimasa Sakata ,  Hideo Sugawara ,  Kenkichi Yagura ,  Akira Hamada ,  Yoshihisa Ito ,  Kuniaki Ishibashi

IPC分类号： C23C14/56 ,  C23C14/02

CPC分类号： C23C16/44 ,  C23C14/021 ,  C23C14/562 ,  C23C16/06 ,  C23C16/56 ,  Y10T428/31678

摘要： The film formation method comprises the steps of: unrolling and feeding an elongated substrate wound in a roll form from a first roll chamber in a direction from the first roll chamber toward a second roll chamber, using a first surface as a surface for film formation; degassing the fed substrate; forming a first material film on the first surface of the degassed substrate in a first film formation chamber; forming a second material film on the first material film in a second film formation chamber; taking up the substrate in a roll form in the second roll chamber, the substrate having the material films formed thereon; unrolling and feeding the taken up substrate from the first roll chamber in the direction, using a second surface opposite the first surface of the substrate as a surface for film formation; and repeating all the above treatments.

摘要翻译： 成膜方法包括以下步骤：使用第一表面作为成膜表面，从第一辊室向第一辊室向第二辊室展开卷绕并卷绕成辊状的细长基材; 对进料基材进行脱气; 在第一成膜室中在脱气基板的第一表面上形成第一材料膜; 在第二成膜室中在第一材料膜上形成第二材料膜; 在第二辊室中以辊状卷取基板，其中形成有材料膜的基板; 使用与基板的第一表面相对的第二表面作为成膜的表面，使卷取的基板从第一辊室沿着该方向展开和进给; 并重复所有上述处理。

公开(公告)号：US09279982B2

公开(公告)日：2016-03-08

申请号：US13059912

申请日：2009-08-21

申请人： Tatsuya Hirose ,  Soc Man Ho Kimura

发明人： Tatsuya Hirose ,  Soc Man Ho Kimura

IPC分类号： B32B7/02 ,  C23C16/513 ,  G02B27/00 ,  C23C16/40 ,  C23C28/00 ,  C23C16/44 ,  C08J7/04 ,  G02B5/28

CPC分类号： G02B1/14 ,  C08J7/042 ,  C08J2367/02 ,  C23C16/402 ,  C23C16/44 ,  C23C28/40 ,  C23C28/42 ,  C23C28/44 ,  G02B5/283 ,  G02B27/0006 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/24975

摘要： Provided is a support exhibiting excellent weather resistance, which is usable in an outdoor location for a long duration and is a support capable of sufficiently shielding UV radiation; and further provided are a weather-resistant article, a weather-resistant film, and an optical member which exhibit sufficient weather resistance even though receiving influences by heat, light or moisture. Disclosed is a weather-resistant article of the present invention possessing a support and provided thereon, a polymer layer containing a light stabilizer and a UV radiation reflective layer containing plural materials each having a different refractive index, the UV radiation reflective layer provided on the polymer layer.

摘要翻译： 本发明提供一种耐久性良好的支撑体，其能够长时间在室外使用，是能够充分地遮蔽紫外线的支撑体; 并且还提供即使受到热，光或湿气的影响也具有足够的耐候性的耐候性制品，耐候性膜和光学构件。 公开了一种本发明的耐候性物品，其具有支撑体，其上设有含有光稳定剂的聚合物层和含有各自具有不同折射率的多种材料的紫外线辐射反射层，设置在聚合物上的UV辐射反射层 层。

公开(公告)号：US20160002112A1

公开(公告)日：2016-01-07

申请号：US14856163

申请日：2015-09-16

申请人： STRAUMANN HOLDING AG

发明人： Marc STEPHAN

IPC分类号： C04B35/48 ,  C23C14/48 ,  B05D1/18 ,  C23C14/22 ,  C04B35/00 ,  C23C16/44

CPC分类号： C04B41/88 ,  B05D1/18 ,  C04B35/00 ,  C04B35/48 ,  C04B35/486 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5045 ,  C04B41/515 ,  C04B41/87 ,  C04B2111/00836 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/40 ,  C04B2235/614 ,  C04B2235/75 ,  C04B2235/76 ,  C23C14/22 ,  C23C14/48 ,  C23C16/44 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/265 ,  C04B41/0072 ,  C04B41/4529 ,  C04B41/455 ,  C04B41/53

摘要： A body made of a ceramic material stabilized by a stabilizing agent and a process for preparing the body. The body includes a surface region extending from the surface of the body to a predetermined depth. The stabilizing agent is enriched in the surface region. The proportion of the stabilizing agent in the surface region continuously increases from the predetermined depth to the surface. The process includes applying the stabilizing agent to the surface of a basic body made of a ceramic material and heating the basic body with the stabilizing agent applied thereon at a temperature such that at least a portion of the stabilizing agent diffuses into the ceramic material.

摘要翻译： 由稳定剂稳定的陶瓷材料制成的身体和用于制备身体的方法。 主体包括从主体的表面延伸到预定深度的表面区域。 稳定剂富含表面区域。 表面区域中的稳定剂的比例从预定深度连续地增加到表面。 该方法包括将稳定剂施加到由陶瓷材料制成的基体的表面上，并在其上施加稳定剂的温度使至少一部分稳定剂扩散到陶瓷材料中的温度加热基体。

公开(公告)号：US20150376757A1

公开(公告)日：2015-12-31

申请号：US14767803

申请日：2014-02-04

申请人： L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE ,  CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE ,  UNIVERSITE DE LORRAINE

发明人： Nicolas RICHET ,  Thierry MAZET ,  Michel VILASI ,  Stephane MATHIEU

IPC分类号： C23C2/04 ,  C23C16/44 ,  C23C14/22 ,  C23C4/12

CPC分类号： C23C2/04 ,  C23C4/12 ,  C23C10/02 ,  C23C10/20 ,  C23C10/60 ,  C23C14/22 ,  C23C16/44

摘要： Process for depositing a coating on a substrate having at least one cavity, comprising a step of mixing ground powders of an activating agent and a powder of the metal or of the alloy to be deposited on the substrate that were ground in step a) and a liquid so as to form a suspension, and a step of applying the suspension to the portion of the substrate to be coated.

摘要翻译： 一种用于在具有至少一个空腔的基底上沉积涂层的方法，包括将待活化剂的研磨粉末和要沉积在待处理的基底上的金属粉末或合金的粉末混合在步骤a）中研磨的步骤和 液体以形成悬浮液，以及将悬浮液施加到待涂布的基底的部分的步骤。