公开(公告)号：US20050284754A1

公开(公告)日：2005-12-29

申请号：US10877137

申请日：2004-06-24

申请人： Harald Herchen ,  Dmitry Lubomirsky ,  Bo Zheng ,  Lily Pang

发明人： Harald Herchen ,  Dmitry Lubomirsky ,  Bo Zheng ,  Lily Pang

IPC分类号： C25D7/12 ,  C25D17/06 ,  H01L21/288

CPC分类号： C25D7/12 ,  C25D17/06 ,  H01L21/2885

摘要： A method and apparatus for an electrochemical processing cell that is configured to minimize bevel and backside deposition. The apparatus includes a contact ring assembly for supporting a substrate, a thrust plate movably positioned to engage a substrate positioned on the contact pins, and a lip seal member positioned to contact the thrust plate and the contact ring to prevent fluid flow therebetween. The lip seal includes a at least one bubble release channel formed therethrough. The method includes positioning an electric field barrier between a backside substrate engaging member and a frontside substrate supporting member to prevent electric field from traveling to the bevel and backside of the substrate. The electric field barrier including at least one bubble release channel formed therethrough.

摘要翻译： 一种用于电化学处理电池的方法和装置，其被配置为最小化斜面和背面沉积。 该装置包括用于支撑基板的接触环组件，可移动地定位成接合位于接触销上的基板的止动板，以及定位成接触推力板和接触环以防止其间流体流动的唇形密封件。 唇形密封件包括通过其形成的至少一个气泡释放通道。 该方法包括在背面基板接合构件和前侧基板支撑构件之间定位电场屏障，以防止电场行进到基板的斜面和背面。 电场屏障包括至少一个通过其形成的气泡释放通道。

公开(公告)号：US07285195B2

公开(公告)日：2007-10-23

申请号：US10877137

申请日：2004-06-24

申请人： Harald Herchen ,  Dmitry Lubomirsky ,  Bo Zheng ,  Lily L. Pang

发明人： Harald Herchen ,  Dmitry Lubomirsky ,  Bo Zheng ,  Lily L. Pang

IPC分类号： C25D17/00 ,  C25D5/00 ,  C25D17/10

CPC分类号： C25D7/12 ,  C25D17/06 ,  H01L21/2885

摘要： A method and apparatus for an electrochemical processing cell that is configured to minimize bevel and backside deposition. The apparatus includes a contact ring assembly for supporting a substrate, a thrust plate movably positioned to engage a substrate positioned on the contact pins, and a lip seal member positioned to contact the thrust plate and the contact ring to prevent fluid flow therebetween. The lip seal includes at least one bubble release channel formed therethrough. The method includes positioning an electric field barrier between a backside substrate engaging member and a frontside substrate supporting member to prevent electric field from traveling to the bevel and backside of the substrate. The electric field barrier including at least one bubble release channel formed therethrough.

摘要翻译： 一种用于电化学处理电池的方法和装置，其被配置为最小化斜面和背面沉积。 该装置包括用于支撑基板的接触环组件，可移动地定位成接合位于接触销上的基板的止动板，以及定位成接触推力板和接触环以防止其间流体流动的唇形密封构件。 唇形密封件包括至少一个通过其形成的气泡释放通道。 该方法包括在背面基板接合构件和前侧基板支撑构件之间定位电场屏障，以防止电场行进到基板的斜面和背面。 电场屏障包括至少一个通过其形成的气泡释放通道。

公开(公告)号：US06869516B2

公开(公告)日：2005-03-22

申请号：US10273539

申请日：2002-10-18

申请人： Dmitry Lubomirsky ,  Michael X. Yang ,  Girish A. Dixit ,  Vincent E. Burkhart ,  Allen L. D'Ambra ,  Yeuk-Fai Edwin Mok ,  Harald Herchen

发明人： Dmitry Lubomirsky ,  Michael X. Yang ,  Girish A. Dixit ,  Vincent E. Burkhart ,  Allen L. D'Ambra ,  Yeuk-Fai Edwin Mok ,  Harald Herchen

IPC分类号： C25D7/12 ,  C25D21/00 ,  H01L21/288 ,  C25D5/48

CPC分类号： C25D7/12 ,  C25D21/00 ,  H01L21/2885

摘要： A method for cleaning the electrical contact areas or substrate contact areas of an electrochemical plating contact ring is provided. Embodiments of the method include positioning a substrate on a substrate support member having one or more electrical contacts, chemically plating a metal layer on at least a portion of a surface of the substrate, removing the processed substrate from the support member, and cleaning the one or more electrical contacts with a vapor mixture comprising an alcohol. In another aspect, the method includes spraying the vapor mixture on the electrical contacts while rotating the substrate support member.

摘要翻译： 提供了一种用于清洁电化学电镀接触环的电接触区域或衬底接触区域的方法。 该方法的实施例包括将基板定位在具有一个或多个电触点的基板支撑构件上，在基板表面的至少一部分上化学镀覆金属层，从处理基板移除经处理的基板，并清洁该基板 或更多的与包含醇的蒸汽混合物的电接触。 在另一方面，该方法包括在旋转衬底支撑构件的同时将蒸气混合物喷射到电触点上。

公开(公告)号：US06444040B1

公开(公告)日：2002-09-03

申请号：US09565150

申请日：2000-05-05

申请人： Harald Herchen ,  David Palagashvili ,  Dmitry Lubomirsky ,  Alex Schreiber

发明人： Harald Herchen ,  David Palagashvili ,  Dmitry Lubomirsky ,  Alex Schreiber

IPC分类号： C23C1600

CPC分类号： C23C16/45565 ,  C23C16/455 ,  H01L21/67017

摘要： An apparatus for use in a substrate processing system. The apparatus is generally a fluid distribution plate comprising an inner disk and an outer ring. The fluid distribution plate has a plurality of openings for fluid distribution and at least one slot defined therein.

摘要翻译： 一种用于基板处理系统的装置。 该装置通常是包括内盘和外圈的流体分配板。 流体分配板具有用于流体分配的多个开口和限定在其中的至少一个狭槽。

公开(公告)号：US06369493B1

公开(公告)日：2002-04-09

申请号：US09300182

申请日：1999-04-27

申请人： Dmitry Lubomirsky ,  Harald Herchen ,  Simon Yavelberg ,  David Palagashvili ,  Donald J. Olgado

发明人： Dmitry Lubomirsky ,  Harald Herchen ,  Simon Yavelberg ,  David Palagashvili ,  Donald J. Olgado

IPC分类号： H01J1726

CPC分类号： G03F7/70016 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32522

摘要： A plasma applicator having a tube that is surrounded by a cooling jacket such that a volume is defined proximate the tube. The volume is filled with a thermal transfer medium to couple heat from the tube to the cooling jacket. The cooling jacket contains an aperture through which energy is transmitted to a process gas contained in the tube. As such, the process gas is infused with energy and a plasma is formed in the tube.

摘要翻译： 一种等离子体施加器，其具有由冷却套包围的管，使得容积限定在管附近。 体积填充有热传递介质，以将热量从管耦合到冷却套管。 冷却套包含孔，通过该孔将能量传递到管中包含的处理气体。 因此，工艺气体注入能量，并且在管中形成等离子体。

公开(公告)号：US20080168673A1

公开(公告)日：2008-07-17

申请号：US11763352

申请日：2007-06-14

申请人： Harald Herchen ,  Lily Pang ,  Erica Porras

发明人： Harald Herchen ,  Lily Pang ,  Erica Porras

IPC分类号： G01D21/00

CPC分类号： G01D5/342

摘要： A system for measuring substrate concentricity includes a substrate support member adapted to rotate a substrate around a substantially vertical axis. The substrate includes a mounting surface and a process surface. The system also includes a spin cup positioned below the substrate and a translatable arm mounted a predetermined distance above the process surface of the substrate. The translatable arm is adapted to translate along a radius of the substrate. The system further includes an optical emitter mounted on the translatable arm and an optical detector mounted on the translatable arm.

摘要翻译： 用于测量衬底同心度的系统包括适于围绕基本垂直轴线旋转衬底的衬底支撑构件。 衬底包括安装表面和工艺表面。 该系统还包括位于基底下方的旋转杯，以及安装在衬底的工艺表面上方预定距离的可平移臂。 可平移臂适于沿着基底的半径平移。 该系统还包括安装在可平移臂上的光发射器和安装在可平移臂上的光学探测器。

公开(公告)号：US07497026B2

公开(公告)日：2009-03-03

申请号：US11763352

申请日：2007-06-14

申请人： Harald Herchen ,  Lily Pang ,  Erica Porras

发明人： Harald Herchen ,  Lily Pang ,  Erica Porras

IPC分类号： H01L21/00 ,  G01B9/00

CPC分类号： G01D5/342

摘要： A system for measuring substrate concentricity includes a substrate support member adapted to rotate a substrate around a substantially vertical axis. The substrate includes a mounting surface and a process surface. The system also includes a spin cup positioned below the substrate and a translatable arm mounted a predetermined distance above the process surface of the substrate. The translatable arm is adapted to translate along a radius of the substrate. The system further includes an optical emitter mounted on the translatable arm and an optical detector mounted on the translatable arm.

摘要翻译： 用于测量衬底同心度的系统包括适于围绕基本垂直轴线旋转衬底的衬底支撑构件。 衬底包括安装表面和工艺表面。 该系统还包括位于基底下方的旋转杯，以及安装在衬底的工艺表面上方预定距离的可平移臂。 可平移臂适于沿着基底的半径平移。 该系统还包括安装在可平移臂上的光发射器和安装在可平移臂上的光学探测器。

公开(公告)号：US20060102467A1

公开(公告)日：2006-05-18

申请号：US10988646

申请日：2004-11-15

申请人： Harald Herchen ,  John Dukovic ,  Lily Pang

发明人： Harald Herchen ,  John Dukovic ,  Lily Pang

IPC分类号： C25C3/16 ,  C25B9/00 ,  C25D17/00

CPC分类号： C25D17/008 ,  C25D7/123 ,  C25D17/001 ,  C25D17/007

摘要： A method and apparatus for plating a conductive material onto a substrate is provided. The apparatus includes a fluid processing cell having a fluid basin configured to contain an electrolyte solution and having an opening configured to receive a substrate for processing, an anode assembly positioned in the fluid basin, and a collimator positioned in the fluid basin between the anode assembly and the opening.

摘要翻译： 提供了一种用于将导电材料电镀到基底上的方法和装置。 该装置包括流体处理池，流体池被配置为容纳电解质溶液，并且具有构造成接收用于处理的基板的开口，定位在流体池中的阳极组件和位于阳极组件之间的流体池中的准直器 和开幕。

公开(公告)号：US20110000426A1

公开(公告)日：2011-01-06

申请号：US12823802

申请日：2010-06-25

申请人： Harald Herchen

发明人： Harald Herchen

IPC分类号： B05D3/02 ,  B05D5/12 ,  H05B3/02

CPC分类号： H05B3/283 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109

摘要： A substrate processing apparatus for heating a substrate is provided. The substrate processing apparatus can include a top and bottom planar member. A heater layer can be disposed between the top and the bottom planar member and held in place by evacuating a region between the two planar members. The heater layer can be made of alternating insulating and conducting layers with heater elements formed on the conducting layers in predetermined pattern.

摘要翻译： 提供了一种用于加热基板的基板处理装置。 基板处理装置可以包括顶部和底部平面部件。 加热器层可以设置在顶部和底部平面构件之间，并且通过抽吸两个平面构件之间的区域而保持就位。 加热器层可以由具有以预定图案形成在导电层上的加热器元件的交替绝缘和导电层制成。

公开(公告)号：US07567885B2

公开(公告)日：2009-07-28

申请号：US11843978

申请日：2007-08-23

申请人： Harald Herchen ,  Kim Vellore ,  Erica Renee Porras

发明人： Harald Herchen ,  Kim Vellore ,  Erica Renee Porras

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G01B5/061 ,  G01B7/082

摘要： An apparatus and method for measuring a height of an object above a surface includes a housing with a first portion having an upper surface and a lower surface and an extension portion extending a first distance from the lower surface of the first portion. The extension portion defines a cavity opposing the lower surface of the first portion. The apparatus further includes one or more actuators passing through the lower surface of the first portion of the housing and extending into the cavity. Additionally, the apparatus includes a plate supported by one or more flexible members coupled to the extension portion. The plate has a top surface and a bottom surface that lies in a plane substantially parallel to the surface. Moreover, the apparatus includes a plurality of sensors disposed at predetermined positions of the plate. Each of the plurality of sensors is responsive to a height measured between each of the plurality of sensors and the surface.

摘要翻译： 用于测量表面上方的物体的高度的装置和方法包括具有第一部分的壳体，该第一部分具有上表面和下表面，以及从第一部分的下表面延伸第一距离的延伸部分。 延伸部分限定了与第一部分的下表面相对的空腔。 该装置还包括通过壳体的第一部分的下表面并延伸到空腔中的一个或多个致动器。 另外，该装置包括由耦合到延伸部分的一个或多个柔性构件支撑的板。 板具有位于基本上平行于表面的平面中的顶表面和底表面。 此外，该装置包括设置在板的预定位置的多个传感器。 多个传感器中的每一个响应于在多个传感器中的每一个和表面之间测量的高度。