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    Compositions of neutral layer for directed self assembly block copolymers and processes thereof
    3.
    发明授权
    Compositions of neutral layer for directed self assembly block copolymers and processes thereof 有权
    用于定向自组装嵌段共聚物的中性层组合物及其工艺

    公开(公告)号：US09052598B2

    公开(公告)日：2015-06-09

    申请号：US14180848

    申请日：2014-02-14

    申请人： Hengpeng Wu ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  Jian Yin ,  Margareta Paunescu ,  Mark O Neisser ,  Guanyang Lin

    发明人： Hengpeng Wu ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  Jian Yin ,  Margareta Paunescu ,  Mark O Neisser ,  Guanyang Lin

    IPC分类号： G03F7/20 ,  C08L53/00 ,  C08F118/02 ,  C08L33/12 ,  C08F293/00 ,  G03F7/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    CPC分类号： G03F7/20 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F212/08 ,  C08F212/32 ,  C08F220/14 ,  C08F293/00 ,  C08L53/00 ,  C09D125/14 ,  C09D125/16 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/2037

    摘要： The present invention relates to novel processes for using the neutral layer compositions for aligning microdomains of directed self-assembling block copolymers (BCP). The processes are useful for fabrication of electronic devices. The novel processes comprise a step of forming a coating of the neutral layer from the neutral layer composition, wherein the neutral layer composition comprises at least one random copolymer having at least one unit of structure (1), at least one unit of structure (2) and at least one unit of structure (3) where R1 is selected from the group consisting of a C1-C8 alkyl, C1-C8 fluoroalkyl moiety, C1-C8 partially fluorinated alkyl, C4-C8 cycloalkyl, C4-C8 cyclofluoroalkyl, C4-C8 partially fluorinated cycloalkyl, and a C2-C8 hydroxyalkyl; R2, R3 and R5 are independently selected from a group consisting of H, C1-C4 alkyl, CF3 and F; R4 is selected from the group consisting of H, C1-C8 alkyl, C1-C8 partially fluorinated alkyl and C1-C8 fluoroalkyl, n ranges from 1 to 5, R6 is selected from the group consisting of H, F, C1-C8 alkyl and a C1-C8 fluoroalkyl and m ranges from 1 to 3.

    摘要翻译： 本发明涉及使用中性层组合物对准定向自组装嵌段共聚物（BCP）的微区域的新方法。 该方法对于制造电子器件是有用的。 该新方法包括从中性层组合物形成中性层的涂层的步骤，其中中性层组合物包含至少一种具有至少一个结构单元（1），至少一个结构单元（2）的无规共聚物 ）和至少一个结构单元（3），其中R 1选自C 1 -C 8烷基，C 1 -C 8氟烷基部分，C 1 -C 8部分氟化烷基，C 4 -C 8环烷基，C 4 -C 8环氟烷基，C 4 -C8部分氟化的环烷基，和C2-C8羟烷基; R2，R3和R5独立地选自H，C1-C4烷基，CF3和F; R 4选自H，C 1 -C 8烷基，C 1 -C 8部分氟化烷基和C 1 -C 8氟代烷基，n为1至5，R 6选自H，F，C 1 -C 8烷基 和C 1 -C 8氟烷基，m为1至3。

    Compositions of neutral layer for directed self assembly block copolymers and processes thereof
    6.
    发明授权
    Compositions of neutral layer for directed self assembly block copolymers and processes thereof 有权
    用于定向自组装嵌段共聚物的中性层组合物及其工艺

    公开(公告)号：US08691925B2

    公开(公告)日：2014-04-08

    申请号：US13243640

    申请日：2011-09-23

    申请人： Hengpeng Wu ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  Jian Yin ,  Margareta Paunescu ,  Mark O. Neisser ,  Guanyang Lin

    发明人： Hengpeng Wu ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  Jian Yin ,  Margareta Paunescu ,  Mark O. Neisser ,  Guanyang Lin

    IPC分类号： C08F118/02 ,  G03F7/20 ,  C08L33/12

    CPC分类号： G03F7/20 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F212/08 ,  C08F212/32 ,  C08F220/14 ,  C08F293/00 ,  C08L53/00 ,  C09D125/14 ,  C09D125/16 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/2037

    摘要： The present invention relates to novel neutral layer compositions and methods for using the compositions. The neutral layer composition comprises at least one random copolymer having at least one unit of structure (1), at least one unit of structure (2) and at least one unit of structure (3) where R1 is selected from the group consisting of a C1-C8 alkyl, C1-C8 fluoroalkyl moiety, C1-C8 partially fluorinated alkyl, C4-C8 cycloalkyl, C4-C8 cyclofluoroalkyl, C4-C8 partially fluorinated cycloalkyl, and a C2-C8 hydroxyalkyl; R2, R3 and R5 are independently selected from a group consisting of H, C1-C4 alkyl, CF3 and F; R4 is selected from the group consisting of H, C1-C8 alkyl, C1-C8 partially fluorinated alkyl and C1-C8 fluoroalkyl, n ranges from 1 to 5, R6 is selected from the group consisting of H, F, C1-C8 alkyl and a C1-C8 fluoroalkyl and m ranges from 1 to 3.

    摘要翻译： 本发明涉及新型中性层组合物和使用该组合物的方法。 中性层组合物包含至少一种具有至少一个结构单元（1），至少一个结构单元（2）和至少一个结构单元（3）的无规共聚物，其中R1选自 C 1 -C 8烷基，C 1 -C 8氟烷基部分，C 1 -C 8部分氟化烷基，C 4 -C 8环烷基，C 4 -C 8环氟烷基，C 4 -C 8部分氟化环烷基和C 2 -C 8羟烷基; R2，R3和R5独立地选自H，C1-C4烷基，CF3和F; R 4选自H，C 1 -C 8烷基，C 1 -C 8部分氟化烷基和C 1 -C 8氟代烷基，n为1至5，R 6选自H，F，C 1 -C 8烷基 和C 1 -C 8氟烷基，m为1至3。

    Antireflective composition for photoresists
    9.
    发明授权
    Antireflective composition for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US07638262B2

    公开(公告)日：2009-12-29

    申请号：US11502706

    申请日：2006-08-10

    申请人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    发明人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    IPC分类号： G03F7/095 ,  G03F7/11 ,  G03F7/38 ,  G03F7/09

    CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

    摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' 独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C1-C20）烃基部分，W是（C1-C20）烃基连接部分，Y'独立地是（C1-C20）烃基 连接部分。 本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。

    Underlayer composition for promoting self assembly and method of making and using
    10.
    发明授权
    Underlayer composition for promoting self assembly and method of making and using 有权
    促进自组装的底层成分及制作及使用方法

    公开(公告)号：US09093263B2

    公开(公告)日：2015-07-28

    申请号：US14039809

    申请日：2013-09-27

    申请人： Hengpeng Wu ,  Jian Yin ,  Guanyang Lin ,  JiHoon Kim ,  Jianhui Shan

    发明人： Hengpeng Wu ,  Jian Yin ,  Guanyang Lin ,  JiHoon Kim ,  Jianhui Shan

    IPC分类号： H01L21/02 ,  C03C15/00

    CPC分类号： H01L21/02118 ,  C08F220/14 ,  C08F220/40 ,  G03F7/00 ,  H01L21/02282 ,  C08F212/08

    摘要： Disclosed herein is a formulation for depositing a cured underlayer for promoting the formation of self assembled structures. The underlayer comprises: (a) a polymer comprising at least one pendant vinyl ether monomer repeat unit having the structure, (I): wherein R is chosen from H, C1-C4 alkyl, or halogen, and W is a divalent group chosen from C1-C6 alkylene, C6-C20 arylene, benzylene, or C2-C20 alkyleneoxyalkylene; (ii) optional thermal acid generator; and (c) a solvent. The invention also relates to processes of forming a pattern using the underlayer.

    摘要翻译： 本文公开了一种用于沉积固化的底层以促进自组装结构的形成的制剂。 底层包括：（a）包含至少一种具有以下结构的侧链乙烯基醚单体重复单元的聚合物：（I）：其中R选自H，C 1 -C 4烷基或卤素，W是选自 C1-C6亚烷基，C6-C20亚芳基，亚苄基或C2-C20亚烷基氧亚烷基; （ii）可选的热酸发生器; 和（c）溶剂。 本发明还涉及使用底层形成图案的工艺。