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    Morpholine derivatives
    1.
    发明申请
    Morpholine derivatives 失效
    吗啉衍生物

    公开(公告)号：US20060241302A1

    公开(公告)日：2006-10-26

    申请号：US10561838

    申请日：2004-06-29

    申请人： Hideki Kubota ,  Takanori Yasukouchi ,  Satoru Miyauchi ,  Kayoko Motoki ,  Masanori Saito ,  Hitoshi Iimori

    发明人： Hideki Kubota ,  Takanori Yasukouchi ,  Satoru Miyauchi ,  Kayoko Motoki ,  Masanori Saito ,  Hitoshi Iimori

    IPC分类号： C07D403/02 ,  C07D401/02 ,  C07D213/02

    CPC分类号： C07D213/30 ,  C07C317/14 ,  C07C2601/14

    摘要： Provided is a compound capable of inhibiting production or secretion of β amyloid protein. A compound represented by the following formula (1): (wherein, R1 represents a heterocyclic group which may have a substituent, R2 represents a cyclic hydrocarbon group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent, R3 represents a cyclic hydrocarbon group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent, R4 represents a hydrogen atom or a C1-6 alkyl group, and X represents —S—, —SO— or —SO2—); an N-oxide or S-oxide thereof; a salt thereof; or a solvate thereof; and a medicament containing any of them.

    摘要翻译： 提供能够抑制β淀粉样蛋白的产生或分泌的化合物。 由下式（1）表示的化合物：其中R 1表示可以具有取代基的杂环基，R 2表示可以具有 可以具有取代基的取代基或杂环基，R 3表示可以具有取代基的环状烃基或可以具有取代基的杂环基，R 4， 表示氢原子或C 1-6烷基，X表示-S - ， - SO-或-SO 2 - ）。 其N-氧化物或S-氧化物; 其盐; 或其溶剂合物; 和含有它们中任何一种的药物。

    Heterocyclic methyl sulfone derivative
    2.
    发明授权
    Heterocyclic methyl sulfone derivative 失效
    杂环甲基砜衍生物

    公开(公告)号：US07932271B2

    公开(公告)日：2011-04-26

    申请号：US10561838

    申请日：2004-06-29

    申请人： Hideki Kubota ,  Takanori Yasukouchi ,  Satoru Miyauchi ,  Kayoko Motoki ,  Masanori Saito ,  Hitoshi Iimori

    发明人： Hideki Kubota ,  Takanori Yasukouchi ,  Satoru Miyauchi ,  Kayoko Motoki ,  Masanori Saito ,  Hitoshi Iimori

    IPC分类号： A61K31/44 ,  C07D401/00 ,  C07D213/72 ,  C07D213/00

    CPC分类号： C07D213/30 ,  C07C317/14 ,  C07C2601/14

    摘要： Provided is a compound capable of inhibiting production or secretion of β amyloid protein.A compound represented by the following formula (1): (wherein, R1 represents a heterocyclic group which may have a substituent, R2 represents a cyclic hydrocarbon group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent, R3 represents a cyclic hydrocarbon group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent, R4 represents a hydrogen atom or a C1-6 alkyl group, and X represents —S—, —SO— or —SO2—); an N-oxide or S-oxide thereof; a salt thereof; or a solvate thereof; and a medicament containing any of them.

    摘要翻译： 本发明提供能够抑制β-葡聚糖的生成或分泌的化合物。 淀粉样蛋白。 由下式（1）表示的化合物：其中，R 1表示可以具有取代基的杂环基，R 2表示可以具有取代基的环状烃基或可以具有取代基的杂环基，R 3表示环状 可以具有取代基的烃基或可以具有取代基的杂环基，R4表示氢原子或C1-6烷基，X表示-S-，-SO-或-SO2-）; 其N-氧化物或S-氧化物; 其盐; 或其溶剂合物; 和含有它们中任何一种的药物。

    Liquid chemical for forming protecting film
    6.
    发明授权
    Liquid chemical for forming protecting film 有权
    用于形成保护膜的液体化学品

    公开(公告)号：US09478407B2

    公开(公告)日：2016-10-25

    申请号：US12912360

    申请日：2010-10-26

    申请人： Masanori Saito ,  Shinobu Arata ,  Takashi Saio ,  Soichi Kumon ,  Hidehisa Nanai ,  Yoshinori Akamatsu

    发明人： Masanori Saito ,  Shinobu Arata ,  Takashi Saio ,  Soichi Kumon ,  Hidehisa Nanai ,  Yoshinori Akamatsu

    IPC分类号： B08B3/08 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  C11D1/00 ,  C11D1/04 ,  C11D1/40 ,  C11D11/00 ,  H01L21/306

    CPC分类号： H01L21/02068 ,  C11D1/002 ,  C11D1/004 ,  C11D1/04 ,  C11D1/40 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/0212 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306 ,  H01L21/31127

    摘要： Disclosed is a liquid chemical for forming a water-repellent protecting film on a wafer. The liquid chemical is a liquid chemical containing a water-repellent-protecting-film-forming agent for forming the water-repellent protecting film, at the time of cleaning the wafer which has a finely uneven pattern at its surface and contains at least at a part of a surface of a recessed portion of the uneven pattern at least one kind of matter selected from the group consisting of titanium, titanium nitride, tungsten, aluminum, copper, tin, tantalum nitride, ruthenium and silicon, at least on the surface of the recessed portion. The liquid chemical is characterized in that the water-repellent-protecting-film-forming agent is a water-insoluble surfactant. The water-repellent protecting film formed with the liquid chemical is capable of preventing a pattern collapse of the wafer, in a cleaning step.

    摘要翻译： 公开了一种用于在晶片上形成防水保护膜的液体化学品。 液体化学品是含有防水保护膜形成剂的液体化学品，用于形成防水保护膜，在清洁其表面上具有精细不均匀图案的晶片时，至少含有 至少一种选自钛，氮化钛，钨，铝，铜，锡，氮化钽，钌和硅的至少一种物质的不平坦图案的凹陷部分的表面的一部分，至少在 凹部。 液体化学品的特征在于防水保护膜形成剂是水不溶性表面活性剂。 在清洁步骤中，用液体化学品形成的防水保护膜能够防止晶片的图案塌陷。

    Silicon wafer cleaning agent
    9.
    发明授权
    Silicon wafer cleaning agent 有权
    硅晶片清洗剂

    公开(公告)号：US08957005B2

    公开(公告)日：2015-02-17

    申请号：US12882898

    申请日：2010-09-15

    申请人： Soichi Kumon ,  Masanori Saito ,  Takashi Saio ,  Hidehisa Nanai ,  Yoshinori Akamatsu

    发明人： Soichi Kumon ,  Masanori Saito ,  Takashi Saio ,  Hidehisa Nanai ,  Yoshinori Akamatsu

    IPC分类号： C11D3/43 ,  H01L21/306 ,  H01L21/02

    CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D7/30 ,  C11D7/3209 ,  C11D11/0064 ,  C11D11/007 ,  H01L21/02052

    摘要： A silicon wafer cleaning agent includes at least a water-based cleaning liquid, and a water-repellent cleaning liquid for providing water-repellent to an uneven pattern at least at recessed portions during a cleaning process. The water-repellent cleaning liquid is a liquid composed of a water-repellent compound containing a reactive moiety which is chemically bondable to Si in the silicon wafer, and a hydrophobic group, or is a liquid wherein 0.1 mass % or more of the water-repellent compound relative to the total quantity of 100 mass % of the water-repellent cleaning liquid and an organic solvent are mixed and contained therein. A cleaning process wherein a pattern collapse is easily induced can be improved by using the cleaning agent.

    摘要翻译： 硅晶片清洗剂至少包括一种水基清洗液，以及一种用于在清洁过程中至少在凹陷处向不均匀图案提供防水性的防水清洗液。 防水清洗液是由含有与硅晶片中的Si化学结合的反应性部分的疏水性组合物和疏水性基团构成的液体，或其中0.1质量％以上的水溶性化合物， 防水化合物相对于防水性清洗液和有机溶剂的总量的100质量％混合并包含在其中。 可以通过使用清洁剂来改善容易诱发图案塌陷的清洁方法。

    Chemical for Forming Protective Film
    10.
    发明申请
    Chemical for Forming Protective Film 有权
    化学成型保护膜

    公开(公告)号：US20130056023A1

    公开(公告)日：2013-03-07

    申请号：US13698244

    申请日：2011-05-11

    申请人： Soichi Kumon ,  Takashi Saio ,  Shinobu Arata ,  Masanori Saito ,  Atsushi Ryokawa ,  Shuhei Yamada ,  Hidehisa Nanai ,  Yoshinori Akamatsu

    发明人： Soichi Kumon ,  Takashi Saio ,  Shinobu Arata ,  Masanori Saito ,  Atsushi Ryokawa ,  Shuhei Yamada ,  Hidehisa Nanai ,  Yoshinori Akamatsu

    IPC分类号： C09K3/18 ,  B08B3/10

    CPC分类号： H01L21/02057 ,  C09D183/08 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/302 ,  H01L21/3105

    摘要： Disclosed is a liquid chemical for forming a water repellent protective film on a wafer that has at its surface a finely uneven pattern and contains silicon element at least at a part of the uneven pattern, the water repellent protective film being formed at least on surfaces of recessed portions of the uneven pattern at the time of cleaning the wafer. The liquid chemical contains: a silicon compound (A) represented by the general formula R1aSi(H)b(X)4−a−b and an acid; or a silicon compound (C) represented by the general formula R7gSi(H)h(CH3)w(Z)4−g−h−w and a base that contains no more than 35 mass % of water. The total amount of water in the liquid chemical is no greater than 1000 mass ppm relative to the total amount of the liquid chemical. The liquid chemical can improve a cleaning step that easily induces pattern collapse.

    摘要翻译： 公开了一种用于在晶片上形成疏水性保护膜的液体化学品，其表面具有精细不均匀的图案，并且至少在不均匀图案的一部分处含有硅元素，所述防水保护膜至少形成在 在清洁晶片时凹凸图案的凹陷部分。 液体化学品包含：由通式R 1a a（H）b（X）4-a-b表示的硅化合物（A）和酸; 或由通式R7gSi（H）h（CH3）w（Z）4-g-h-w表示的硅化合物（C）和含有不超过35质量％的水的碱。 液体化学品中的水的总量相对于液体化学品的总量不超过1000质量ppm。 液体化学品可以改善易于引起图案塌陷的清洁步骤。