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    Charged particle lithography system and beam generator
    5.
    发明申请
    Charged particle lithography system and beam generator 有权
    带电粒子光刻系统和光束发生器

    公开(公告)号：US20150124229A1

    公开(公告)日：2015-05-07

    申请号：US14400569

    申请日：2013-05-14

    申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.

    发明人： Alexander Hendrik Vincent Van Veen ,  Willem Henk Urbanus

    IPC分类号： H01J37/317

    CPC分类号： H01J37/09 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/147 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/302 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/026 ,  H01J2237/0262 ,  H01J2237/0264 ,  H01J2237/16 ,  H01J2237/182 ,  H01J2237/188

    摘要： The invention relates to a charged particle lithography system for exposing a target. The system includes a charged particle beam generator for generating a charged particle beam; an aperture array (6) for forming a plurality of beamlets from the charged particle beam; and a beamlet projector (12) for projecting the beamlets onto a surface of the target. The charged particle beam generator includes a charged particle source (3) for generating a diverging charged particle beam; a collimator system (5a,5b,5c,5d; 72;300) for refracting the diverging charged particle beam; and a cooling arrangement (203) for removing heat from the collimator system, the cooling arrangement comprising a body surrounding at least a portion of the collimator system.

    摘要翻译： 本发明涉及用于曝光目标物的带电粒子光刻系统。 该系统包括用于产生带电粒子束的带电粒子束发生器; 用于从带电粒子束形成多个子束的孔径阵列（6） 以及用于将子束投影到目标表面上的小射束投影仪（12）。 带电粒子束发生器包括用于产生发散带电粒子束的带电粒子源（3） 用于折射发散带电粒子束的准直器系统（5a，5b，5c，5d; 72; 300） 以及用于从准直器系统去除热的冷却装置（203），所述冷却装置包括围绕准直器系统的至少一部分的主体。

    Multi-electrode stack arrangement
    7.
    发明授权
    Multi-electrode stack arrangement 有权
    多电极堆叠布置

    公开(公告)号：US09355751B2

    公开(公告)日：2016-05-31

    申请号：US14541238

    申请日：2014-11-14

    申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.

    发明人： Willem Henk Urbanus ,  Marco Jan-Jaco Wieland

    IPC分类号： G21K1/02 ,  G21K5/04 ,  H01J37/24 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317 ,  H01J37/02 ,  H01J37/16 ,  H01J37/065 ,  H01J37/12

    CPC分类号： G21K1/02 ,  G21K5/04 ,  H01J37/026 ,  H01J37/065 ,  H01J37/12 ,  H01J37/16 ,  H01J37/24 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3175 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/0216 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/032 ,  H01J2237/04 ,  H01J2237/1215 ,  H01J2237/16 ,  H01J2237/1825 ,  H01J2237/303 ,  H01J2237/30472

    摘要： The invention relates to an electrode stack (70) comprising stacked electrodes (71-80) for manipulating a charged particle beam along an optical axis (A). Each electrode comprises an electrode body with an aperture for the charged particle beam. The electrode bodies are mutually spaced and the electrode apertures are coaxially aligned along the optical axis. The electrode stack comprises electrically insulating spacing structures (89) between each pair of adjacent electrodes for positioning the electrodes (71-80) at predetermined mutual distances along the axial direction (Z). A first electrode and a second electrode each comprise an electrode body with one or more support portions (86), wherein each support portion is configured to accommodate at least one spacing structure (89). The electrode stack has at least one clamping member (91-91c) configured to hold the support portions (86) of the first and second electrodes, as well as the intermediate spacing structure (89) together.

    摘要翻译： 本发明涉及一种电极堆叠（70），其包括用于沿光轴（A）操纵带电粒子束的堆叠电极（71-80）。 每个电极包括具有用于带电粒子束的孔的电极体。 电极体相互间隔开，并且电极孔沿光轴同轴对准。 电极堆叠包括在每对相邻电极之间的电绝缘间隔结构（89），用于将电极（71-80）沿着轴向方向（Z）定位在预定的相互距离处。 第一电极和第二电极各自包括具有一个或多个支撑部分（86）的电极主体，其中每个支撑部分构造成容纳至少一个间隔结构（89）。 电极堆叠具有至少一个构造成将第一和第二电极的支撑部分（86）以及中间间隔结构（89）保持在一起的夹紧构件（91-91c）。