公开(公告)号：US20100246371A1

公开(公告)日：2010-09-30

申请号：US12719567

申请日：2010-03-08

申请人： Masahiro Kanamaru ,  Kazuki Matsumoto ,  Rumiko Hayase ,  Yoshiaki Kawamonzen ,  Norikatsu Sasao ,  Masaya Terai

发明人： Masahiro Kanamaru ,  Kazuki Matsumoto ,  Rumiko Hayase ,  Yoshiaki Kawamonzen ,  Norikatsu Sasao ,  Masaya Terai

IPC分类号： G11B7/135

CPC分类号： G11B7/083 ,  G03H1/265 ,  G03H1/28 ,  G03H2001/186 ,  G11B7/00772

摘要： According to a first aspect of the invention, an optical information recording apparatus includes a spatial beam modulator, an optical component, a drive unit, and a control unit. The apparatus performs angle-multiplex recording of the information so that an absolute value of a bisector angle θx for n-th recording (1≦n≦rN) is smaller than an absolute value of a bisector angle θx for m-th recording (m>n and rN

摘要翻译： 根据本发明的第一方面，光信息记录装置包括空间光束调制器，光学部件，驱动单元和控制单元。 该装置执行信息的角度多路复用，使得第n次记录（1＆nlE; n＆nlE; rN）的二等角度＆amp; x的绝对值小于二等角度的绝对值;对于m- （m> n和rN

公开(公告)号：US20110228663A1

公开(公告)日：2011-09-22

申请号：US12880828

申请日：2010-09-13

申请人： Masaya Terai ,  Kazuki Matsumoto ,  Rumiko Hayase ,  Yoshiaki Kawamonzen ,  Norikatsu Sasao ,  Masahiro Kanamaru

发明人： Masaya Terai ,  Kazuki Matsumoto ,  Rumiko Hayase ,  Yoshiaki Kawamonzen ,  Norikatsu Sasao ,  Masahiro Kanamaru

IPC分类号： G11B7/00

CPC分类号： G11B7/0065 ,  G11B7/083

摘要： A holographic recording method includes the following steps: irradiating an optical recording medium with a coherent reference beam and a coherent information beam to produce a hologram in the optical recording medium while irradiating the optical recording medium with an incoherent pretreatment beam to consume a polymerization inhibitor; irradiating the hologram with the reference beam to extract a reproduction beam while stopping irradiating the optical recording medium with the reference beam; sensing the signal beam with an image pick-up unit to detect an intensity of the signal beam; and calculating a bit error rate with a control unit to irradiate the hologram with the information beam if the bit error rate is larger than a prescribed value, or to stop irradiating the optical recording medium with the reference beam, the information beam and the pretreatment beam if the bit error rate is smaller than the prescribed value.

摘要翻译： 全息记录方法包括以下步骤：用光学记录介质照射具有相干参考光束和相干信息光束的光学记录介质，以在光学记录介质中用不相干的预处理光束照射消耗阻聚剂; 用参考光束照射全息图以提取再现光束，同时停止用参考光束照射光学记录介质; 用图像拾取单元感测信号光束以检测信号光束的强度; 如果比特错误率大于规定值，则用控制单元计算与信息光束照射全息图的比特错误率，或停止用参考光束照射光学记录介质，信息光束和预处理光束 如果误码率小于规定值。

公开(公告)号：US20120251927A1

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：US13524850

申请日：2012-06-15

申请人： Norikatsu Sasao ,  Kazuki Matsumoto ,  Rumiko Hayase ,  Yoshiaki Kawamonzen ,  Masahiro Kanamaru ,  Masaya Terai

发明人： Norikatsu Sasao ,  Kazuki Matsumoto ,  Rumiko Hayase ,  Yoshiaki Kawamonzen ,  Masahiro Kanamaru ,  Masaya Terai

IPC分类号： C07D209/86 ,  C07D209/88 ,  G03F7/027

CPC分类号： G03H1/02 ,  C09B69/109 ,  G03H2001/0264 ,  G03H2260/12 ,  G11B7/24044 ,  G11B7/244 ,  G11B7/245

摘要： A hologram-recording medium containing: a recording layer containing a polymerizable monomer containing a structural framework represented by the following general formula (1). In general formula (1), X and Y are not the same, and X and Y are selected from hydrogen, iodine, bromine, and chlorine atoms and from methyl, ethyl, isopropyl, tert-butyl, phenyl, naphthyl, hydroxyl, methoxy, ethoxy, isopropoxy, tert-butoxy, phenoxy, naphthoxy, acetyl, carboxyl, acetoxy, thiophenyl, thionaphthyl, thiomethyl, thioethyl, thioisopropyl, thio-tert-butyl, and thiol groups; and W is selected from the group consisting of benzylvinyl, styryl, acryloyl, and methacryloyl groups.

摘要翻译： 一种全息记录介质，其包含：包含含有由以下通式（1）表示的结构框架的可聚合单体的记录层。 在通式（1）中，X和Y不相同，X和Y选自氢，碘，溴和氯原子，甲基，乙基，异丙基，叔丁基，苯基，萘基，羟基，甲氧基 乙氧基，异丙氧基，叔丁氧基，苯氧基，萘氧基，乙酰基，羧基，乙酰氧基，噻吩基，萘基，硫代甲基，硫代乙基，硫代异丙基，硫代叔丁基和硫醇基。 W选自苄基乙烯基，苯乙烯基，丙烯酰基和甲基丙烯酰基。

公开(公告)号：US06316170B2

公开(公告)日：2001-11-13

申请号：US09526470

申请日：2000-03-15

申请人： Yoshiaki Kawamonzen ,  Shigeru Matake ,  Rumiko Hayase ,  Satoshi Mikoshiba

发明人： Yoshiaki Kawamonzen ,  Shigeru Matake ,  Rumiko Hayase ,  Satoshi Mikoshiba

IPC分类号： G03F730

CPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/322

摘要： Disclosed is a developing solution for a photosensitive polyimide, which consists of an aqueous solution of an amine compound having a base dissociation index pKb [=−log (Kb)=−log (Kw/Ka)=14−pKa, where Kb is a base dissociation constant, Ka is acid dissociation constant of a proton complex, pKa is an acid dissociation index of a proton complex=−log (Ka), and Kw is an ion product of water=1×10−14] of 5 to 8 within an aqueous solution of 25° C.

摘要翻译： 公开了一种光敏聚酰亚胺的显影液，其由具有碱解离指数pKb [= -log（Kb）= - log（Kw / Ka）= 14-pKa）的胺化合物的水溶液组成，其中Kb为 碱解离常数，Ka是质子复合物的酸解离常数，pKa是质子络合物的酸解离指数= -log（Ka），Kw是水= 1×10-14]的离子积为5〜8 25℃的水溶液

公开(公告)号：US6071670A

公开(公告)日：2000-06-06

申请号：US948425

申请日：1997-10-10

申请人： Toru Ushirogouchi ,  Takeshi Okino ,  Naomi Shida ,  Makoto Nakase ,  Yoshiaki Kawamonzen ,  Rumiko Hayase ,  Koji Asakawa

发明人： Toru Ushirogouchi ,  Takeshi Okino ,  Naomi Shida ,  Makoto Nakase ,  Yoshiaki Kawamonzen ,  Rumiko Hayase ,  Koji Asakawa

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/107 ,  Y10S430/109

摘要： A photosensitive composition comprising, an oligomer having a backbone chain comprising an alicyclic skeleton and/or a conjugated polycondensed aromatic skeleton, the backbone chain being acid-decomposable or hydrolyzable, and a photo-acid-generating agent.

摘要翻译： 一种光敏组合物，其包含具有包含脂环骨架和/或共轭缩聚芳族骨架的主链的低聚物，所述主链是酸可分解的或可水解的，以及光酸产生剂。

公开(公告)号：US08956560B2

公开(公告)日：2015-02-17

申请号：US13423543

申请日：2012-03-19

申请人： Yasuaki Ootera ,  Yoshiyuki Kamata ,  Naoko Kihara ,  Yoshiaki Kawamonzen ,  Takeshi Okino ,  Ryosuke Yamamoto ,  Tomoyuki Maeda ,  Norikatsu Sasao ,  Akiko Yuzawa ,  Takuya Shimada ,  Hiroyuki Hieda

发明人： Yasuaki Ootera ,  Yoshiyuki Kamata ,  Naoko Kihara ,  Yoshiaki Kawamonzen ,  Takeshi Okino ,  Ryosuke Yamamoto ,  Tomoyuki Maeda ,  Norikatsu Sasao ,  Akiko Yuzawa ,  Takuya Shimada ,  Hiroyuki Hieda

IPC分类号： H01L21/00 ,  B29C33/38 ,  G11B5/855

CPC分类号： B29C33/3857 ,  G11B5/855

摘要： In one embodiment, a method of manufacturing a mold includes: forming a first layer having an affinity to a second polymer on a substrate having an affinity to a first polymer; forming first and second openings in the first layer; filling a resist in the second openings and hardening the resist to obtain a hardened resist; and forming a second layer containing a block copolymer and causing it to self-assemble.

摘要翻译： 在一个实施方案中，制造模具的方法包括：在对第一聚合物具有亲和性的基材上形成对第二聚合物具有亲和性的第一层; 在第一层中形成第一和第二开口; 在第二开口中填充抗蚀剂并使抗蚀剂硬化以获得硬化抗蚀剂; 并形成含有嵌段共聚物并使其自组装的第二层。

公开(公告)号：US08916053B2

公开(公告)日：2014-12-23

申请号：US13528348

申请日：2012-06-20

申请人： Yoshiaki Kawamonzen ,  Yasuaki Ootera ,  Akiko Yuzawa ,  Naoko Kihara ,  Yoshiyuki Kamata ,  Hiroyuki Hieda ,  Norikatsu Sasao ,  Ryosuke Yamamoto ,  Takeshi Okino ,  Tomoyuki Maeda ,  Takuya Shimada

发明人： Yoshiaki Kawamonzen ,  Yasuaki Ootera ,  Akiko Yuzawa ,  Naoko Kihara ,  Yoshiyuki Kamata ,  Hiroyuki Hieda ,  Norikatsu Sasao ,  Ryosuke Yamamoto ,  Takeshi Okino ,  Tomoyuki Maeda ,  Takuya Shimada

IPC分类号： C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  C23F1/00 ,  B44C3/08 ,  B44C5/04 ,  B81C1/00 ,  B44C1/22 ,  H01L21/033 ,  G03F7/00 ,  B41M5/00

CPC分类号： B44C1/227 ,  B41M5/00 ,  B81C1/0046 ,  B81C2201/0153 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0337 ,  Y10T156/1041

摘要： A pattern forming method according to an embodiment includes: forming a pattern film on a first substrate, the pattern film having a concave-convex pattern, the pattern film being made of a material containing a first to-be-imprinted agent; forming a material film on a second substrate, the material film containing a second to-be-imprinted agent having a higher etching rate than an etching rate of the first to-be-imprinted agent; transferring the concave-convex pattern of the pattern film onto the material film by applying pressure between the first substrate and the second substrate, with the pattern film being positioned to face the material film, and by curing the second to-be-imprinted agent; detaching the first substrate from the pattern film; and removing the material film by etching, to leave the pattern film on the second substrate.

摘要翻译： 根据实施例的图案形成方法包括：在第一基板上形成图案膜，所述图案膜具有凹凸图案，所述图案膜由包含第一待打印剂的材料制成; 在第二基板上形成材料膜，所述材料膜含有蚀刻速率高于第一待打印剂的蚀刻速率的第二待定印剂; 通过在第一基板和第二基板之间施加压力将图案膜的凹凸图案转印到材料膜上，图案膜定位成面对材料膜，并且通过固化第二待打印剂; 从图案膜分离第一衬底; 并通过蚀刻去除材料膜，以将图案膜留在第二基板上。

公开(公告)号：US5756650A

公开(公告)日：1998-05-26

申请号：US816595

申请日：1997-03-13

申请人： Yoshiaki Kawamonzen ,  Masayuki Oba ,  Satoshi Mikoshiba ,  Shigeru Matake

发明人： Yoshiaki Kawamonzen ,  Masayuki Oba ,  Satoshi Mikoshiba ,  Shigeru Matake

IPC分类号： G02F1/1337 ,  C08G73/10 ,  C08K5/16 ,  C08L79/08 ,  H01B3/30

CPC分类号： C08G73/1007 ,  C08G73/1028 ,  H01B3/306 ,  Y10T428/2969 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31721

摘要： A polyimide precursor composition, which comprises, a polyamic acid having a repeating unit represented by the following general formula (PA), and at least one kinds of cure accelerator selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted nitrogen-containing heterocyclic compound exhibiting an acid dissociation index "pKa" of a proton complex ranging from 0 to 8 in an aqueous solution thereof, or an N-oxide compound of said nitrogen-containing heterocyclic compound (AC1), a substituted or unsubstituted amino acid compound (AC2), and an aromatic hydrocarbon compound or an aromatic heterocyclic compound having a molecular weight of 1,000 or less and two or more hydroxyl groups (AC3): ##STR1## wherein .phi. is a quadrivalent organic group, .phi. is a bivalent organic group, R is a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, organosilicic group or hydrogen atom.

摘要翻译： 一种聚酰亚胺前体组合物，其包含具有由以下通式（PA）表示的重复单元的聚酰胺酸和至少一种选自取代或未取代的含氮杂环化合物的固化促进剂， 在其水溶液中为0〜8的质子络合物的酸解离指数“pKa”，或所述含氮杂环化合物（AC1）的N-氧化物，取代或未取代的氨基酸化合物（AC2）和 分子量为1000以下的芳香族烃化合物或芳香族杂环化合物以及两个以上的羟基（AC3）：其中phi是四价有机基团，Phi是二价有机基团，其中R为 取代或未取代的烃基，有机硅基或氢原子。

公开(公告)号：US06159654A

公开(公告)日：2000-12-12

申请号：US221113

申请日：1998-12-28

申请人： Shigeru Machida ,  Yoshiaki Kawamonzen ,  Masayuki Oba

发明人： Shigeru Machida ,  Yoshiaki Kawamonzen ,  Masayuki Oba

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08G73/10 ,  C08K5/04 ,  C08K5/16 ,  C08K5/34 ,  C08K5/36 ,  C08K5/51 ,  C08L79/04 ,  C08L79/08 ,  C08L101/00 ,  C09K9/00 ,  G03F7/028 ,  G03F7/037 ,  G03F7/038 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027 ,  G03C1/73

CPC分类号： G03F7/037 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/48247 ,  H01L2224/48465 ,  H01L2224/8592 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2924/00

摘要： A negative photosensitive polymer composition, which comprises a thermosetting polymer precursor which can be cured through cyclodehydration upon heating, and a photosensitive heat cure accelerator which is capable of accelerating a curing upon irradiation of light (cyclodehydration accelerating property). This photosensitive heat cure accelerator may be a compound which is capable of increasing molecular weight and raising volatilization temperature upon irradiation of light, or a compound which is capable of generating a carboxyl group upon irradiation of light thereby exhibiting a heat cure-accelerating property, and is formed of an aromatic hydrocarbon or aromatic heterocyclic compound having at least one hydroxyl group, substituted or unsubstituted amino group or mercapto group.

摘要翻译： 一种负型光敏聚合物组合物，其包含可通过加热时通过环化脱水固化的热固性聚合物前体，以及能够在照射光时加速固化的光敏热固化促进剂（环化脱水加速性）。 该感光性热固化促进剂可以是能够增加分子量并且在照射光时提高挥发温度的化合物，或能够在光照射下产生羧基的化合物，从而表现出热固化促进性的化合物，以及 由具有至少一个羟基，取代或未取代的氨基或巯基的芳族烃或芳族杂环化合物形成。

公开(公告)号：US07092608B2

公开(公告)日：2006-08-15

申请号：US11376167

申请日：2006-03-16

申请人： Yoshiaki Kawamonzen ,  Toshio Nakayama

发明人： Yoshiaki Kawamonzen ,  Toshio Nakayama

IPC分类号： G02B6/00 ,  G02B6/10

CPC分类号： C08G73/10 ,  C08G73/1085 ,  C08G73/18 ,  G02B6/12007 ,  G02B6/12009 ,  G02B6/1221 ,  G02B6/4246 ,  G02B2006/12142 ,  G02F1/0147 ,  G02F1/065 ,  G02F1/225

摘要： Several novel polyimide materials are disclosed. One example is a polyimide material comprising heterocyclic polyimide having an unit represented by the following general formula (1): (wherein Φ1s may be the same or different and are individually a quadrivalent organic group, the Φ1s including at least 0.2 molar equivalent of a quadrivalent hetrocyclic group selected from the following Group (a), Ψ1s may be the same or different and are individually a bivalent organic group, and n is a positive integer).

摘要翻译： 公开了几种新型的聚酰亚胺材料。 一个实例是包含具有由以下通式（1）表示的单元的杂环聚酰亚胺的聚酰亚胺材料：（其中，Phi可以相同或不同，并且各自为四价有机基团，Phi 包括至少0.2摩尔当量的选自以下组（a）中的四价hetrocyclic基团，Psi 1 S 1可以相同或不同，并且分别为二价 有机基团，n为正整数）。