半导体衬底结构、半导体封装及其制造方法

    公开(公告)号:CN106158815B

    公开(公告)日:2019-06-14

    申请号:CN201510196538.9

    申请日:2015-04-23

    Abstract: 本发明涉及一种半导体衬底结构、半导体封装及其制造方法。所述半导体衬底结构包含导电结构和电介质结构。所述导电结构具有第一导电表面和与所述第一导电表面相对的第二导电表面。所述电介质结构遮盖所述导电结构的至少一部分,且具有第一电介质表面和与所述第一电介质表面相对的第二电介质表面。所述第一导电表面并非从所述第一电介质表面突出,且所述第二导电表面从所述第二电介质表面凹进。所述电介质结构包含光敏树脂或由其形成,且所述电介质结构界定在所述第二电介质表面中的电介质开口以暴露所述第二导电表面的一部分。

    半导体装置封装和其制造方法

    公开(公告)号:CN108417563A

    公开(公告)日:2018-08-17

    申请号:CN201710888837.8

    申请日:2017-09-27

    Abstract: 本发明提供一种半导体装置封装,所述半导体装置封装包含:第一电路层,其具有第一表面和与所述第一侧相对的第二表面;第一电子组件;屏蔽元件;屏蔽层;以及模制层。所述第一电子组件安置于所述第一电路层的所述第一表面上,且电连接到所述第一电路层。所述屏蔽元件安置于所述第一电路层的所述第一表面上,且电连接到所述第一电路层。所述屏蔽元件安置为邻近于所述第一电子组件的至少一个侧。所述屏蔽层安置于所述第一电子组件和所述屏蔽元件上,且所述屏蔽层电连接到所述屏蔽元件。所述模制层囊封所述第一电子组件、所述屏蔽元件和所述屏蔽层的部分。

    形成金属凸块的方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101131948A

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200610126107.6

    申请日:2006-08-22

    CPC classification number: H01L2224/11 H01L2924/00012

    Abstract: 本发明关于提供一种形成金属凸块的方法,包括以下步骤:提供一个具有数个导电焊垫的基板;在基板上形成防焊层,且该防焊层具有第一开口以露出导电焊垫;在防焊层上形成光阻层,且该光阻层具有第二开口以露出导电焊垫;在光阻层上形成导电层,且该导电层覆盖该第二开口的侧壁、该第一开口的侧壁以及导电焊垫;在导电层上电镀金属层,且该金属层填满第一开口与第二开口;进行平坦化,以去除光阻层上的导电层以及金属层,只留下位于第一开口与第二开口中的导电层以及金属层;移除光阻层并进行回焊,以形成金属凸块。

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