電子装置
    21.
    实用新型
    電子装置 有权
    该电子设备

    公开(公告)号:JP3199281U

    公开(公告)日:2015-08-13

    申请号:JP2015002821

    申请日:2015-06-04

    Abstract: 【課題】システムインパッケージモジュールと他の基板や回路、或いは電子装置内部のコンポーネントとの間の接続を形成するための、迅速に変更・カスタマイズが可能な低面積オーバヘッドの相互接続構造を備える電子装置を提供する。 【解決手段】第1の複数の配線112、114を支持する第1基板110と、第1基板の上部に取り付けられ、第1の複数の配線のうちの配線と電気的に接続された、複数の電子コンポーネント130、132と、第1基板の上面に取り付けられ、第1の複数の配線のうちの配線と電気的に接続された、第1の複数の接点125と、複数の電子コンポーネントを覆い、第1の複数の接点の各接点の少なくとも一部を覆う成形部と、第2の複数の配線152、154を支持し、第1基板の上面における第1の複数の接点と結合する第2の複数の接点123を底面に有する相互接続構造とを備える。 【選択図】図1

    Abstract translation: 一种系统级封装模块和另一基板或电路,或与低面积开销的快速互连结构的电子装置可被改变定制用于形成电子设备的内部组件之间的连接 提供。 并支撑的第一多个导线112和114的,安装在所述第一基板的顶部上的第一基板110,布线电连接到所述第一多个导线,多个 覆盖所述电子部件130被安装在第一基板的上表面,第一多个线中的电连接配线的,第一多个接点125,多个电子元件的 ,至少覆盖所述多个第一接触部,其支持所述第二多个导线152中的每一个接触的部分和第二模制部分,154被耦合到所述第一多个接点在所述第一基板的上表面上 和具有多个底部表面的接触123的互连结构。 点域1

    インターポーザ基板およびその製造方法
    22.
    发明专利
    インターポーザ基板およびその製造方法 审中-公开
    插件基板及其制造方法

    公开(公告)号:JP2015041773A

    公开(公告)日:2015-03-02

    申请号:JP2014118483

    申请日:2014-06-09

    Abstract: 【課題】インターポーザを介して接続されるメイン基板と半導体素子との電気的特性を向上させ、且つ薄型化および小型化に有利なインターポーザ基板を提供する。【解決手段】コア層110およびスルーコアビア(以下、TCV)111と、コア層110に形成された回路配線112,122およびTCV111の上下部面と接合するTCV上部パッド111aおよびTCV下部パッド111bと、コア層110に形成されたTCV上部パッド111aおよび回路配線112,122を覆い、上面に回路配線112,122が形成された上部絶縁層120と、各層の上部絶縁層120を貫通し、TCV上部パッド111aと接続するスタックビア121?と、コア層110に形成されたTCV下部パッド111bおよび回路配線112,122を覆い、TCV下部パッド111bを露出させる開口部が形成された下部絶縁層130と、を含む。【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种改善主基板和经由插入件连接的半导体元件之间的电气特性的插入基板,具有薄型化和小型化的优点。解决方案:内插基板包括:芯层110和贯通芯 通过(TCV)111; 形成在芯层110上的电路布线112和122以及TCV上焊盘111a和TCV下焊盘111b,它们各自接合到TCV 111的上表面和下表面; 覆盖在芯层110上形成的具有形成在其上表面上的电路布线112和122的TCV上焊盘111a和电路布线112和122的上绝缘层120; 穿过每个层的上绝缘层120并连接到TCV上焊盘111a的堆叠通孔121'; 以及覆盖形成在芯层110上的TCV下焊盘111b和电路布线112和122的下绝缘层130,并且包括暴露TCV下焊盘111b的开口。

    応力緩衝層及びその作製方法

    公开(公告)号:JPWO2011125506A1

    公开(公告)日:2013-07-08

    申请号:JP2012509424

    申请日:2011-03-24

    Abstract: 【課題】接合部における応力を十分に緩和し、実装信頼性を高めることができる応力緩衝層及びその作製方法を提供する。【解決手段】応力緩衝シート10は、多数の柱状の内部電極(金属ピラー)14の間に、樹脂12が充填された貫通電極層13の表裏の主面に、外部導体層16A,16Bが設けられた構成である。多数の内部電極14は、弁金属の陽極酸化により得られる多孔質の酸化物基材30を利用して形成されたもので、該内部電極14の形成後に酸化物基材30が選択的に除去され、その空隙部に、酸化物基材30よりもヤング率が低い樹脂12が充填される。内部電極14は、高アスペクト比であって、顕著な可撓性を有する。樹脂12もヤング率が低く前記内部電極14とともに変形が可能であるため、配線基板20と電子部品24の間を、前記応力緩衝シート10を介して接続すると、実装時に接合部にかかった応力は、貫通電極層13全体が変形することで吸収ないし緩和される。【選択図】図1

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