回路基板の形成方法
    6.
    发明专利
    回路基板の形成方法 有权
    形成电路板的方法

    公开(公告)号:JP2016042543A

    公开(公告)日:2016-03-31

    申请号:JP2014166328

    申请日:2014-08-19

    Abstract: 【課題】有機基板を用いた場合でも広く利用可能な回路基板(配線基板、インターポーザ等を含む)の作成方法を提供する。 【解決手段】本発明の方法は、その方法は、(a)基板10上に導体パターン12を形成するステップと、(b)導体パターンの形成後の基板上に第1ネガレジスト14を形成するステップと、(c)導体パターンの表面上の第1ネガレジストを部分的に露光して第1ビア露光部22を形成するステップと、(d)第1ビア露光部の形成後の基板上に第2ネガレジスト24を形成するステップと、(e)第1ビア露光部上の第2ネガレジストを部分的に露光して第1ビア露光部よりも大きな第2ビア露光部30を形成するステップと、(f)第2ビア露光部の形成後の第1ネガレジスト及び第2ネガレジストを現像して導体パターンに至るビア開口32を形成するステップと、(g)ビア開口に導体38を充填するステップと、を含む。 【選択図】図2

    Abstract translation: 要解决的问题:提供即使在使用有机基板的情况下也可以广泛使用的电路板(包括布线板和插入件)的制备方法。解决方案:根据本发明的方法包括步骤 (a)在基板10上形成导体图案12; (b)在形成导体图案之后在基板上形成第一负光刻胶14; (c)部分地暴露导体图案表面上的第一负抗蚀剂以形成第一通孔曝光部分22; (d)在形成第一通孔曝光部之后在基板上形成第二负光刻胶24; (e)在第一通孔曝光部分部分曝光第二负光刻胶以形成大于第一通孔曝光部分的第二通道曝光部分30; (f)显影第一和第二负光刻胶以形成在形成第二通孔曝光部分之后延伸到导体图案的通孔开口32; 和(g)在通孔开口中填充导体38.选择的图示:图2

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