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    Image formation utilizing photosensitive compositions containing low metal content p-cresol oligomers
    12.
    发明授权
    Image formation utilizing photosensitive compositions containing low metal content p-cresol oligomers 失效
    使用含有低金属含量对甲酚低聚物的光敏组合物的图像形成

    公开(公告)号：US5858627A

    公开(公告)日：1999-01-12

    申请号：US920564

    申请日：1997-08-29

    申请人： M. Dalil Rahman ,  Dinesh N. Khanna ,  Daniel Aubin ,  Douglas McKenzie

    发明人： M. Dalil Rahman ,  Dinesh N. Khanna ,  Daniel Aubin ,  Douglas McKenzie

    IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/023 ,  H01L21/027 ,  G03F7/38

    CPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/0236

    摘要： Process for producing a photosensitizer comprising a diazo ester of a p-cresol oligomer where at least one of the hydroxy groups on the p-cresol ring has been esterified with diazo-sulfonyl chloride comprising from about 60 to 100 mole % 2,1,4 or 2,1,5-diazo sulfonyl chloride, or a mixture thereof; and a photoresist comprising an admixture of the photosensitizer, which is present in the photoresist composition in an amount sufficient to uniformly photosensitive the photoresist composition, a water insoluble, aqueous alkali soluble novolak resin, the novolak resin being present in the photoresist composition in an amount sufficient to form a substantially uniform photoresist composition, and a suitable solvent.

    摘要翻译： 制备包含对甲酚低聚物的重氮酯的光敏剂的方法，其中对甲酚环上的至少一个羟基已用重氮磺酰氯酯化，包括约60-100摩尔％2,1,4 或2,1,5-重氮磺酰氯，或其混合物; 以及光致抗蚀剂，其包含光致抗蚀剂组合物中以足以使光致抗蚀剂组合物均匀感光的量的光敏剂的混合物，水不溶性的碱溶性酚醛清漆树脂，酚醛清漆树脂以光致抗蚀剂组合物的量存在 足以形成基本均匀的光致抗蚀剂组合物和合适的溶剂。

    ANTIREFLECTIVE COATING COMPOSITION AND PROCESS THEREOF
    14.
    发明申请
    ANTIREFLECTIVE COATING COMPOSITION AND PROCESS THEREOF 审中-公开
    抗反射涂料组合物及其工艺

    公开(公告)号：US20120251943A1

    公开(公告)日：2012-10-04

    申请号：US13075749

    申请日：2011-03-30

    申请人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie ,  Jianhui Shan ,  Joon Yeon Cho ,  Salem K. Mullen

    发明人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie ,  Jianhui Shan ,  Joon Yeon Cho ,  Salem K. Mullen

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C09K3/00

    CPC分类号： G03F7/091

    摘要： The invention relates to an antireflective coating composition comprising a crosslinker and a crosslinkable polymer capable of being crosslinked by the crosslinker, where the crosslinkable polymer comprises a unit represented by structure (1): A-B—C  (1) where A is a fused aromatic ring, B has a structure (2), and C is a hydroxybiphenyl of structure (3) where R1 is C1-C4alkyl and R2 is C1-C4alkyl.The invention further relates to a process for forming an image using the composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含能够由交联剂交联的交联剂和可交联聚合物，其中可交联聚合物包含由结构（1）表示的单元：其中A是稠合的 芳香环，B为结构（2），C为结构式（3）的羟基联苯，其中R 1为C 1 -C 4烷基且R 2为C 1 -C 4烷基。 本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。

    Antireflective Coating Composition Comprising Fused Aromatic Rings
    15.
    发明申请
    Antireflective Coating Composition Comprising Fused Aromatic Rings 审中-公开
    包含熔融芳环的防反射涂料组合物

    公开(公告)号：US20100119980A1

    公开(公告)日：2010-05-13

    申请号：US12270256

    申请日：2008-11-13

    申请人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie ,  Clement Anyadeigwu

    发明人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie ,  Clement Anyadeigwu

    IPC分类号： G03F7/00 ,  C08G61/00 ,  C08G65/00 ,  C08G63/02 ,  C08G16/00 ,  C08G16/02 ,  C08L65/00

    CPC分类号： C08G10/02 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276

    摘要： The present invention relates to an organic spin coatable antireflective coating composition comprising a polymer where the polymer comprises (i) at least one unit with fused aromatic rings in the backbone of the polymer of structure (1), (ii) at least one unit with of structure (2), and, (iii) at least one unit with a cyclic aliphatic moiety in the backbone of the polymer of structure (3). where, Fr1 is a substituted or unsubstituted fused aromatic ring moiety with 3 or more aromatic rings, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, C1-C4 alkyl, Z, C1-C4alkyleneZ and where Z is substituted or unsubstituted aromatic moiety, R1 is selected from hydrogen or aromatic moiety, and B is a substituted or unsubstituted cycloaliphatic moiety. The invention further relates to a process for imaging the present composition.

    摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物的有机旋涂可涂性抗反射涂料组合物，其中聚合物包含（i）至少一个在结构（1）的聚合物的主链中具有稠合芳环的单元，（ii）至少一个单元， 的结构（2），和（iii）在结构（3）的聚合物的主链中具有至少一个具有环状脂族部分的单元。 其中，Fr1是具有3个或更多个芳环的取代或未取代的稠合芳环部分，R'和R“独立地选自氢，C 1 -C 4烷基，Z，C 1 -C 4亚烷基，并且其中Z是取代或未取代的芳族部分， R1选自氢或芳族部分，B是取代或未取代的脂环族部分。 本发明还涉及用于对本发明组合物进行成像的方法。

    Quinone diazide compositions containing low metals p-cresol oligomers and process of producing the composition
    16.
    发明授权
    Quinone diazide compositions containing low metals p-cresol oligomers and process of producing the composition 失效
    含有低金属对甲酚低聚物的醌酮二氮化物组合物及其制备方法

    公开(公告)号：US5837417A

    公开(公告)日：1998-11-17

    申请号：US366635

    申请日：1994-12-30

    申请人： M. Dalil Rahman ,  Dinesh N. Khanna ,  Daniel Aubin ,  Douglas McKenzie

    发明人： M. Dalil Rahman ,  Dinesh N. Khanna ,  Daniel Aubin ,  Douglas McKenzie

    IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/023 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/0236

    摘要： Process for producing a photosensitizer comprising a diazo ester of a p-cresol oligomer where at least one of the hydroxy groups on the p-cresol ring has been esterified with diazo-sulfonyl chloride comprising from about 60 to 100 mole % 2,1,4 or 2,1,5-diazo sulfonyl chloride, or a mixture thereof; and a photoresist comprising an admixture of the photosensitizer, which is present in the photoresist composition in an amount sufficient to uniformly photosensitive the photoresist composition, a water insoluble, aqueous alkali soluble novolak resin, the novolak resin being present in the photoresist composition in an amount sufficient to form a substantially uniform photoresist composition, and a suitable solvent.

    摘要翻译： 制备包含对甲酚低聚物的重氮酯的光敏剂的方法，其中对甲酚环上的至少一个羟基已用重氮磺酰氯酯化，包括约60-100摩尔％2,1,4 或2,1,5-重氮磺酰氯，或其混合物; 以及光致抗蚀剂，其包含光致抗蚀剂组合物中以足以使光致抗蚀剂组合物均匀感光的量的光敏剂的混合物，水不溶性的碱溶性酚醛清漆树脂，酚醛清漆树脂以光致抗蚀剂组合物的量存在 足以形成基本均匀的光致抗蚀剂组合物和合适的溶剂。

    Antireflective coating composition
    19.
    发明授权
    Antireflective coating composition 有权
    防反射涂料组合物

    公开(公告)号：US07932018B2

    公开(公告)日：2011-04-26

    申请号：US12115776

    申请日：2008-05-06

    申请人： Douglas McKenzie ,  David Abdallah ,  Allen G. Timko ,  M. Dalil Rahman

    发明人： Douglas McKenzie ,  David Abdallah ,  Allen G. Timko ,  M. Dalil Rahman

    IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/075

    CPC分类号： G03F7/091

    摘要： The invention relates to an antireflective coating composition comprising a polymer, a crosslinker and a thermal acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure (1), at least one unit of structure (2) and at least one structure of structure (3), where R1 to R9 is independently selected from H and C1-C6 alkyl, R′ and R″ is independently selected from H and C1-C6 alkyl, X is C1-C6 alkylene, Y is C1-C6 alkylene. The invention further relates to a process for imaging a photoresist coated over the antireflective coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，交联剂和热酸发生剂的抗反射涂料组合物，其中聚合物包含至少一个结构单元（1），至少一个结构单元（2）和至少一个结构结构 （3），其中R 1至R 9独立地选自H和C 1 -C 6烷基，R'和R“独立地选自H和C 1 -C 6烷基，X是C 1 -C 6亚烷基，Y是C 1 -C 6亚烷基。 本发明还涉及一种用于对涂覆在抗反射涂层组合物上的光致抗蚀剂进行成像的方法。