公开(公告)号：US20130195796A1

公开(公告)日：2013-08-01

申请号：US13578413

申请日：2011-02-18

申请人： Robert D. Allen ,  Sean M. Amberg ,  Dongcheng Dai ,  Dennis E. Hruby

发明人： Robert D. Allen ,  Sean M. Amberg ,  Dongcheng Dai ,  Dennis E. Hruby

IPC分类号： A61K31/17 ,  A61K45/06 ,  A61K31/4409 ,  C07C335/26 ,  C07D213/81

CPC分类号： A61K31/17 ,  A61K31/4406 ,  A61K31/4409 ,  A61K31/675 ,  A61K31/7056 ,  A61K38/21 ,  A61K45/06 ,  A61K47/60 ,  C07C335/20 ,  C07C335/26 ,  C07C335/38 ,  C07D213/81 ,  C07D213/82 ,  C07D495/04 ,  Y02A50/385 ,  Y02A50/397 ,  Y02A50/463 ,  Y10S514/888

摘要： Compounds, pharmaceutical compositions and methods for treating viral and bacterial infections, by administering certain thiourea compounds, specifically acylthiourea, carboximidoylthiourea and S-alkyl isothiourea derivatives and analogs, in therapeutically effective amounts are disclosed.

摘要翻译： 公开了通过以治疗有效量施用某些硫脲化合物，特别是酰基硫脲，亚甲代酰硫基脲和S-烷基异硫脲衍生物和类似物来治疗病毒和细菌感染的化合物，药物组合物和方法。

公开(公告)号：US08470516B2

公开(公告)日：2013-06-25

申请号：US12542821

申请日：2009-08-18

申请人： Robert D. Allen ,  Luisa Bozano ,  Phillip Brock ,  Qinghuang Lin ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert D. Allen ,  Luisa Bozano ,  Phillip Brock ,  Qinghuang Lin ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2059 ,  G03F7/40

摘要： A method of generating a relief pattern comprises disposing a resist composition on a substrate to form a film, the resist composition comprising a first silsesquioxane polymer of the formula (1): a second silsesquioxane polymer of the formula (2): and a photosensitive acid generator; patternwise exposing the film by e-beam lithography; heating the exposed film to effect crosslinking of the first polymer and second polymer in the exposed area; and developing the exposed film to form a negative relief pattern.

摘要翻译： 产生浮雕图案的方法包括将抗蚀剂组合物设置在基底上以形成膜，抗蚀剂组合物包含式（1）的第一倍半硅氧烷聚合物：式（2）的第二倍半硅氧烷聚合物：和光敏酸 发电机; 通过电子束光刻对图案进行图案曝光; 加热暴露的膜以在暴露的区域中实现第一聚合物和第二聚合物的交联; 并将曝光的胶片显影形成负浮雕图案。

公开(公告)号：US20120205787A1

公开(公告)日：2012-08-16

申请号：US13423838

申请日：2012-03-19

申请人： Dario L. Goldfarb ,  Libor Vyklick ,  Sean D. Burns ,  David R. Medeiros ,  Daniel P. Sanders ,  Robert D. Allen

发明人： Dario L. Goldfarb ,  Libor Vyklick ,  Sean D. Burns ,  David R. Medeiros ,  Daniel P. Sanders ,  Robert D. Allen

IPC分类号： H01L21/312 ,  H01L29/02

CPC分类号： G03F7/091

摘要： An antireflective coating that contains at least two polymer components and comprises chromophore moieties and transparent moieties is provided. The antireflective coating is useful for providing a single-layer composite graded antireflective coating formed beneath a photoresist layer.

摘要翻译： 提供了包含至少两种聚合物组分并且包含发色团部分和透明部分的抗反射涂层。 抗反射涂层可用于提供在光致抗蚀剂层下形成的单层复合渐变抗反射涂层。

公开(公告)号：US08029971B2

公开(公告)日：2011-10-04

申请号：US12047435

申请日：2008-03-13

申请人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： Compositions, a method, and a photopatternable blend. The compositions include a blend of a first and a second polymer. The first polymer is a substituted silsesquioxane copolymer. The second polymer is a substituted silsesquioxane polymer. The second polymer is configured to undergo chemical crosslinking with the first polymer, the second polymer, or a combination thereof, upon exposure to light, thermal energy, or a combination thereof. The compositions include a photosensitive acid generator. The method includes forming a film. The film is patternwise imaged, and at least one region is exposed to radiation. After the imaging, the film is baked, wherein at least one exposed region is rendered substantially soluble. After the baking, the film is developed, wherein a relief pattern remains. The relief pattern is exposed to radiation. The relief pattern is baked. The relief pattern is cured. A chemically amplified positive-tone photopatternable blend is also described.

摘要翻译： 组合，一种方法和一种光图案化混合物。 组合物包括第一和第二聚合物的共混物。 第一聚合物是取代的倍半硅氧烷共聚物。 第二聚合物是取代的倍半硅氧烷聚合物。 第二聚合物被配置为在暴露于光，热能或其组合时与第一聚合物，第二聚合物或其组合进行化学交联。 组合物包括光敏酸产生剂。 该方法包括形成膜。 膜被图案化成像，并且至少一个区域暴露于辐射。 在成像之后，烘烤该膜，其中至少一个曝光区域呈现基本上可溶的。 烘烤后，显影膜，其中保留有浮雕图案。 浮雕图案暴露于辐射。 浮雕图案被烘烤。 浮雕图案被修复。 还描述了化学放大的正色调可光图案化混合物。

公开(公告)号：US20100242177A1

公开(公告)日：2010-09-30

申请号：US12570788

申请日：2009-09-30

申请人： Roger J. Malcolm ,  Robert D. Allen ,  Timothy M. Salter ,  Emilio J. Aguilar

发明人： Roger J. Malcolm ,  Robert D. Allen ,  Timothy M. Salter ,  Emilio J. Aguilar

IPC分类号： A61G13/12

CPC分类号： A61G13/121 ,  A61G13/122 ,  A61G13/123 ,  A61G13/1245 ,  A61G13/1255

摘要： A device for restraining the movement of a body lying over the top surface of a tiltable treatment table comprises a yoke spanning said top surface and being secured at both ends to an accessory-mounting rail running along the side of the table. The yoke includes a channel into which rides a shuttle. An angled support bracket has a vertical leg mounting a padded barrier, and a horizontal plate attached to the shuttle across a slot in the channel. The translation of the barrier, support bracket and shuttle along the channel, and the orientation of the barrier can be adjusted and locked in place by a single knobbed tightening screw. A neck support is secured over a median portion of the yoke. The device may be used by placing one or more of the padded barriers against the shoulders, hips, feet or the head of a patient lying in the Trendelenburg or other tilted position on an operating table in order to prevent gravity-induced shift of the body.

摘要翻译： 用于限制位于可倾斜处理台的顶表面上的身体的运动的装置包括横跨所述顶表面的轭，并且两端固定到沿桌的侧面延伸的附件安装轨道。 轭包括穿过梭子的通道。 成角度的支撑托架具有安装有填充屏障的垂直腿部，以及穿过穿过通道中的槽的水平板。 屏障，支撑支架和梭子沿通道的平移以及屏障的方向可通过单个旋紧的紧固螺丝调节并锁定到位。 颈部支撑件固定在轭的中间部分上。 可以通过将一个或多个填充的障碍物放置在位于Trendelenburg中的患者的肩部，臀部，脚部或患者头部或操作台上的其他倾斜位置中以将身体的重力引起的移动 。

公开(公告)号：US20090250210A1

公开(公告)日：2009-10-08

申请号：US12486121

申请日：2009-06-17

申请人： Robert D. Allen ,  John Michael Leuthen ,  Dick L. Knox ,  Jerald R. Rider ,  Tom G. Yohanan ,  Brown L. Wilson ,  Bryan D. Schulze

发明人： Robert D. Allen ,  John Michael Leuthen ,  Dick L. Knox ,  Jerald R. Rider ,  Tom G. Yohanan ,  Brown L. Wilson ,  Bryan D. Schulze

IPC分类号： E21B43/12 ,  E21B47/00 ,  E21B43/00 ,  G06F19/00

CPC分类号： E21B43/128 ,  F04D9/001 ,  F04D13/10 ,  F04D15/0066 ,  F04D15/0088 ,  F04D15/0209

摘要： A device and method can detect, and also break, an occurrence of gas lock in an electrical submersible pump assembly in a well bore based upon surface or downhole data without the need for operator intervention. To detect an occurrence of gas lock, an instantaneous value is monitored using a sensor. Then a controller compares the instantaneous value to a threshold value over a predetermined duration to thereby detect the occurrence of gas lock in the electrical submersible pump assembly. Sensors can include, for example, a differential pressure gauge, a pressure gage located in a pump stage located toward the inlet, a fluid temperature sensor located toward the discharge, a free gas detector located near the pump discharge, an electrical resistivity gage, a flow meter located within surface production tubing, and a vibration sensor attached to a tubing string to measure a vibration signature.

摘要翻译： 一种装置和方法可以基于表面或井下数据来检测并破坏井下电潜泵组件中气锁的发生，而不需要操作员干预。 为了检测气体锁定的发生，使用传感器来监视瞬时值。 然后，控制器在预定持续时间内将瞬时值与阈值进行比较，从而检测电潜泵组件中的气锁的发生。 传感器可以包括例如差压表，位于朝向入口的泵级中的压力表，位于排出口的流体温度传感器，位于泵排放附近的自由气体检测器，电阻率计， 位于表面生产管道内的流量计，以及连接到油管柱以测量振动特征的振动传感器。

公开(公告)号：US20090081598A1

公开(公告)日：2009-03-26

申请号：US11859804

申请日：2007-09-24

申请人： Robert D. Allen ,  Matthew E. Colburn ,  Daniel P. Sanders ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D. Truong

发明人： Robert D. Allen ,  Matthew E. Colburn ,  Daniel P. Sanders ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D. Truong

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/143 ,  Y10S430/168

摘要： Linear or branched functionalized polycarbosilanes having an absorbance less than 3.0 μm−1 at 193 nm and a relatively high refractive index are provided. The functionalized polycarbosilanes contain at least one pendant group that is acid labile or aqueous base soluble. Also disclosed are photoresists formulations containing the functionalized polycarbosilanes that are suitable for use in lithography, e.g., immersion lithography.

公开(公告)号：US20080286467A1

公开(公告)日：2008-11-20

申请号：US11750356

申请日：2007-05-18

申请人： Robert D. Allen ,  Phillip Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert D. Allen ,  Phillip Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： B05D1/32 ,  C04B41/50

CPC分类号： H01L21/3122 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/40 ,  H01L21/02137 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/76802 ,  H01L21/76814 ,  H01L21/76825 ,  H01L21/76826 ,  H01L21/76828 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： A method. The method includes dip coating a film of a composition on a silicon wafer substrate. The composition includes a polymer blend of a first polymer and a second polymer. The first polymer is a substituted silsesquioxane copolymer. The second polymer is a polysilsesquioxane having silanol end groups. The composition includes a photosensitive acid generator, an organic base, and an organic crosslinking agent. The film is patternwise imaged and at least one region is exposed to radiation having a wavelength of about 248 nanometers. The film is baked, resulting in inducing crosslinking in the film. The film is developed resulting in removal of base-soluble unexposed regions of the film, wherein a relief pattern from the film remains. The relief pattern is cured at a temperature between about 300° C. and about 450° C., and the curing utilizes a combination of thermal treatment with UV radiation.

摘要翻译： 一个方法。 该方法包括在硅晶片衬底上浸涂组合物的膜。 该组合物包括第一聚合物和第二聚合物的聚合物共混物。 第一聚合物是取代的倍半硅氧烷共聚物。 第二聚合物是具有硅烷醇端基的聚倍半硅氧烷。 该组合物包括光敏酸产生剂，有机碱和有机交联剂。 膜被图案化成像，并且至少一个区域暴露于波长为约248纳米的辐射。 该膜被烘烤，导致膜中引起交联。 显影该膜，导致去除基底溶解的膜的未曝光区域，其中残留有膜的浮雕图案。 浮雕图案在约300℃和约450℃之间的温度下固化，并且固化利用与UV辐射的热处理的组合。

公开(公告)号：US20080248213A1

公开(公告)日：2008-10-09

申请号：US12061010

申请日：2008-04-02

申请人： Robert D. Allen ,  Mark W. Hart ,  Frances Houle ,  Hiroshi Ito

发明人： Robert D. Allen ,  Mark W. Hart ,  Frances Houle ,  Hiroshi Ito

IPC分类号： C08J7/18

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  Y10S977/887

摘要： An imprint process comprising coating a selected surface of a micropatterned template with a release composition having a basic reactive moiety; wherein the template is transparent to UV radiation; imprinting the template onto a photocationically curable composition; curing the UV curable composition to form an imprinted composition, wherein the release composition having a basic reactive moiety is effective to locally inhibit curing of the composition at an interface between the template and the imprinted composition; and releasing the template from the imprinted composition.

摘要翻译： 一种压印方法，包括用具有碱性反应性部分的释放组合物涂布微图案化模板的选定表面; 其中所述模板对UV辐射是透明的; 将模板印刷在光固化组合物上; 固化可UV固化组合物以形成印迹组合物，其中具有碱性反应性部分的释放组合物有效地局部抑制组合物在模板和印迹组合物之间的界面处的固化; 并从印迹组合物释放模板。

公开(公告)号：US06927015B2

公开(公告)日：2005-08-09

申请号：US10920762

申请日：2004-08-18

申请人： Mahmoud M. Khojasteh ,  Timothy M. Hughes ,  Ranee W. Kwong ,  Pushkara Rao Varanasi ,  William R. Brunsvold ,  Margaret C. Lawson ,  Robert D. Allen ,  David R. Medeiros ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Phillip Brock

发明人： Mahmoud M. Khojasteh ,  Timothy M. Hughes ,  Ranee W. Kwong ,  Pushkara Rao Varanasi ,  William R. Brunsvold ,  Margaret C. Lawson ,  Robert D. Allen ,  David R. Medeiros ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Phillip Brock

IPC分类号： C08F30/08 ,  C08F32/00 ,  C08F230/08 ,  C08K5/41 ,  C08K5/54 ,  C08L43/04 ,  C08L45/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09 ,  G11B5/31 ,  H01L21/027 ,  G03F7/40 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/094 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0758 ,  G11B5/3163

摘要： Compositions suitable for forming planarizing underlayers for multilayer lithographic processes are characterized by the presence of (A) a polymer containing: (i) cyclic ether moieties, (ii) saturated polycyclic moieties, and (iii) aromatic moieties for compositions not requiring a separate crosslinker, or (B) a polymer containing: (i) saturated polycyclic moieties, and (ii) aromatic moieties for compositions requiring a separate crosslinker. The compositions provide outstanding optical, mechanical and etch selectivity properties. The compositions are especially useful in lithographic processes using radiation less than 200 nm in wavelength to configure underlying material layers.

摘要翻译： 适用于形成用于多层平版印刷工艺的平坦化底层的组合物的特征在于（A）含有（i）环醚部分，（ii）饱和多环部分和（iii）不需要单独交联剂的组合物的芳族部分的聚合物 ，或（B）含有：（i）饱和多环部分的聚合物，和（ii）需要单独交联剂的组合物的芳族部分。 该组合物提供优异的光学，机械和蚀刻选择性。 组合物在使用波长小于200nm的辐射的光刻工艺中特别有用，以配置下层材料层。