公开(公告)号：US08418359B2

公开(公告)日：2013-04-16

申请号：US12364314

申请日：2009-02-02

申请人： Ryohei Satoh ,  Koji Nakagawa ,  Eiji Morinaga ,  Reo Usui ,  Kenji Tanaka ,  Satoru Takaki ,  Kenichi Ebata ,  Hiroshi Sakamoto

发明人： Ryohei Satoh ,  Koji Nakagawa ,  Eiji Morinaga ,  Reo Usui ,  Kenji Tanaka ,  Satoru Takaki ,  Kenichi Ebata ,  Hiroshi Sakamoto

IPC分类号： H05K3/02 ,  H05K3/10

CPC分类号： G03F7/2022 ,  H01J9/02 ,  H01J11/10 ,  Y10T29/49117 ,  Y10T29/49124 ,  Y10T29/49128 ,  Y10T29/49155

摘要： A method for manufacturing a circuit pattern-provided substrate including forming a resist layer on a substrate, forming an opening corresponding to a circuit pattern and having an eaves cross-sectional shape in the resist layer, forming a thin film layer having a portion formed on the substrate in the opening and a portion formed on the resist layer, and removing the resist layer such that the resist layer and the portion of the thin film layer formed on the resist layer are removed from the substrate. The forming of the opening comprises exposing the resist layer with a mask device which changes an exposure amount of the resist layer such that the eaves cross-sectional shape has a space at a boundary between the resist layer and the substrate.

摘要翻译： 一种制造电路图形衬底的方法，包括在衬底上形成抗蚀剂层，形成与电路图形相对应的开口，并且在抗蚀剂层中具有檐形横截面形状，形成薄膜层，该薄膜层形成在 开口中的基板和形成在抗蚀剂层上的部分，并且去除抗蚀剂层，使得抗蚀剂层和形成在抗蚀剂层上的薄膜层的部分从基板上去除。 开口的形成包括用改变抗蚀剂层的曝光量的掩模装置曝光抗蚀剂层，使得檐横截面形状在抗蚀剂层和基底之间的边界处具有空间。

公开(公告)号：US07846641B2

公开(公告)日：2010-12-07

申请号：US12143446

申请日：2008-06-20

申请人： Ryohei Satoh ,  Koji Nakagawa ,  Reo Usui ,  Kenji Tanaka ,  Satoru Takaki ,  Kenichi Ebata ,  Yumiko Aoki

发明人： Ryohei Satoh ,  Koji Nakagawa ,  Reo Usui ,  Kenji Tanaka ,  Satoru Takaki ,  Kenichi Ebata ,  Yumiko Aoki

IPC分类号： G03F7/26

CPC分类号： H05K3/28 ,  H01J9/02 ,  H01J11/12 ,  H01J11/34 ,  H05K1/0306 ,  H05K3/027 ,  H05K3/38 ,  H05K2201/0269 ,  Y10T428/24868

摘要： A process for producing a glass substrate having a circuit pattern is disclosed. The process includes forming a thin film layer on a glass substrate and then irradiating the thin film layer with laser light to form a circuit pattern on the glass substrate; depositing a low-melting point glass having a softening point of from 450 to 630° C. on the glass substrate having the circuit pattern formed thereon; and sintering the low-melting point glass to form a low-melting point glass layer which includes the low-melting point glass sintered on the glass substrate having the circuit pattern formed thereon and which forms a compatible layer between the glass substrate and the low-melting point glass layer.

摘要翻译： 公开了一种具有电路图案的玻璃基板的制造方法。 该方法包括在玻璃基板上形成薄膜层，然后用激光照射薄膜层，以在玻璃基板上形成电路图案; 在其上形成有电路图案的玻璃基板上沉积软化点为450〜630℃的低熔点玻璃; 并烧结低熔点玻璃以形成低熔点玻璃层，该低熔点玻璃层包括在其上形成有电路图案的玻璃基板上烧结的低熔点玻璃，并且在玻璃基板和低熔点玻璃之间形成相容层， 熔点玻璃层。

公开(公告)号：US07772778B2

公开(公告)日：2010-08-10

申请号：US11691689

申请日：2007-03-27

申请人： Ryohei Satoh ,  Yoshinori Iwata ,  Koji Nakagawa ,  Kenji Tanaka ,  Satoru Takaki

发明人： Ryohei Satoh ,  Yoshinori Iwata ,  Koji Nakagawa ,  Kenji Tanaka ,  Satoru Takaki

IPC分类号： H01J17/49

CPC分类号： H01J9/02 ,  H01J11/12 ,  H01J11/22 ,  H01J11/44 ,  H01J2211/444

摘要： To provide a method for forming electrodes and/or black stripes for a plasma display substrate, wherein display electrodes, bus electrodes and optionally black stripes for a plasma display panel are formed of the same material by the same dry step, whereby a clear image having reflection prevented, can be displayed on a PDP display device with a low load on the environment, at low costs, with low resistance, without erosion by a dielectric.A method for forming electrodes and/or black stripes for a plasma display substrate, which comprises applying a laser beam to a mask layer formed on a transparent substrate to form openings at areas corresponding to the respective patterns of display electrodes, bus electrodes and optionally black stripes, then continuously forming an antireflection layer to provide an antireflection effect over the entire surface and an electrode layer, and applying again a laser beam to peel off the mask layer and at the same time to remove an unnecessary thin film layer.

摘要翻译： 为了提供用于等离子体显示基板形成电极和/或黑色条纹的方法，其中显示电极，总线电极和用于等离子体显示面板的任选的黑色条纹由相同的干燥步骤由相同的材料形成，由此具有 防止反射，可以低成本地以低电阻显示在环境中的低负载的PDP显示装置上，而不会被电介质侵蚀。 一种用于形成等离子体显示基板的电极和/或黑色条纹的方法，包括将激光束施加到形成在透明基板上的掩模层，以在对应于显示电极，总线电极和任选黑色的各个图案的区域处形成开口 然后连续地形成抗反射层以在整个表面和电极层上提供抗反射效果，并再次施加激光束以剥离掩模层，同时去除不需要的薄膜层。

公开(公告)号：US20070190886A1

公开(公告)日：2007-08-16

申请号：US11691689

申请日：2007-03-27

申请人： Ryohei Satoh ,  Yoshinori Iwata ,  Koji Nakagawa ,  Kenji Tanaka ,  Satoru Takaki

发明人： Ryohei Satoh ,  Yoshinori Iwata ,  Koji Nakagawa ,  Kenji Tanaka ,  Satoru Takaki

IPC分类号： H01J9/24 ,  H01J9/00

CPC分类号： H01J9/02 ,  H01J11/12 ,  H01J11/22 ,  H01J11/44 ,  H01J2211/444

摘要： To provide a method for forming electrodes and/or black stripes for a plasma display substrate, wherein display electrodes, bus electrodes and optionally black stripes for a plasma display panel are formed of the same material by the same dry step, whereby a clear image having reflection prevented, can be displayed on a PDP display device with a low load on the environment, at low costs, with low resistance, without erosion by a dielectric. A method for forming electrodes and/or black stripes for a plasma display substrate, which comprises applying a laser beam to a mask layer formed on a transparent substrate to form openings at areas corresponding to the respective patterns of display electrodes, bus electrodes and optionally black stripes, then continuously forming an antireflection layer to provide an antireflection effect over the entire surface and an electrode layer, and applying again a laser beam to peel off the mask layer and at the same time to remove an unnecessary thin film layer.

摘要翻译： 为了提供用于等离子体显示基板形成电极和/或黑色条纹的方法，其中显示电极，总线电极和用于等离子体显示面板的任选的黑色条纹由相同的干燥步骤由相同的材料形成，由此具有 防止反射，可以低成本地以低电阻显示在环境中的低负载的PDP显示装置上，而不会被电介质侵蚀。 一种用于形成等离子体显示基板的电极和/或黑色条纹的方法，包括将激光束施加到形成在透明基板上的掩模层，以在对应于显示电极，总线电极和任选黑色的各个图案的区域处形成开口 然后连续地形成抗反射层以在整个表面和电极层上提供抗反射效果，并再次施加激光束以剥离掩模层，同时去除不需要的薄膜层。

公开(公告)号：US20060240338A1

公开(公告)日：2006-10-26

申请号：US11431504

申请日：2006-05-11

申请人： Ryohei Satoh ,  Yoshinori Iwata ,  Koji Nakagawa ,  Reo Usui

发明人： Ryohei Satoh ,  Yoshinori Iwata ,  Koji Nakagawa ,  Reo Usui

IPC分类号： G03C5/00 ,  G03F1/00

CPC分类号： H01L21/76838 ,  H01L21/0272

摘要： There is provided a method for forming a continuous thin film circuit pattern with good precision, at low cost and with low environmental burden; an electronic circuit fabricated by the same, and an electronic device including the same. There are a step for forming a mask layer 2 on a substrate 1; a step for forming an opening pattern in the mask layer 2; a step for forming a thin film 3 on the substrate 1 and on the mask layer 2; and a step for removing, from the substrate 1, the mask layer 2 and a portion of the thin film 3 formed on the mask layer 2; wherein the opening pattern is formed under a dry condition.

摘要翻译： 提供了一种以低成本，低环境负荷精度良好地形成连续薄膜电路图案的方法。 由其制造的电子电路和包括该电子电路的电子设备。 在基板1上形成掩模层2的步骤; 用于在掩模层2中形成开口图案的步骤; 在基板1和掩模层2上形成薄膜3的工序; 以及从基板1除去掩模层2和形成在掩模层2上的薄膜3的一部分的步骤; 其中所述开口图案在干燥条件下形成。

公开(公告)号：US07790358B2

公开(公告)日：2010-09-07

申请号：US11431504

申请日：2006-05-11

申请人： Ryohei Satoh ,  Yoshinori Iwata ,  Koji Nakagawa ,  Reo Usui

发明人： Ryohei Satoh ,  Yoshinori Iwata ,  Koji Nakagawa ,  Reo Usui

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： H01L21/76838 ,  H01L21/0272

摘要： There is provided a method for forming a continuous thin film circuit pattern with good precision, at low cost and with low environmental burden; an electronic circuit fabricated by the same, and an electronic device including the same.There are a step for forming a mask layer 2 on a substrate 1; a step for forming an opening pattern in the mask layer 2; a step for forming a thin film 3 on the substrate 1 and on the mask layer 2; and a step for removing, from the substrate 1, the mask layer 2 and a portion of the thin film 3 formed on the mask layer 2; wherein the opening pattern is formed under a dry condition.

摘要翻译： 提供了一种以低成本，低环境负荷精度良好地形成连续薄膜电路图案的方法。 由其制造的电子电路和包括该电子电路的电子设备。 在基板1上形成掩模层2的步骤; 用于在掩模层2中形成开口图案的步骤; 在基板1和掩模层2上形成薄膜3的工序; 以及从基板1除去掩模层2和形成在掩模层2上的薄膜3的一部分的步骤; 其中所述开口图案在干燥条件下形成。

公开(公告)号：US20120053905A1

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：US13201854

申请日：2010-02-16

申请人： Yoshiharu Iwata ,  Ryohei Satoh ,  Keiji Kudo ,  Atsushi Taya ,  Kazuya Okamoto ,  Hidenori Murata ,  Koichiro Atsumi ,  Eiji Arai ,  Eiji Morinaga

发明人： Yoshiharu Iwata ,  Ryohei Satoh ,  Keiji Kudo ,  Atsushi Taya ,  Kazuya Okamoto ,  Hidenori Murata ,  Koichiro Atsumi ,  Eiji Arai ,  Eiji Morinaga

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06Q10/06 ,  G06Q10/0633

摘要： A design system (1) is provided with a function of acquiring a design specification of an object to be designed and an evaluation index for evaluating a value of the object to be designed in the design specification; a function of acquiring profile data of the object to be designed; a function (design order determining section (12)) of extracting entity design elements and important design variables from the profile data and prioritizing the entity design elements and the important design variables so as to construct a design workflow; a function (evaluation approach construction section (13)) of constructing an evaluation formula for performance/evaluation of a design result of each of the entity design elements in conformity with the design workflow; a function of finding an appropriate solution by performing automatic optimization while evaluating the design result with use of the evaluation index in accordance with the design workflow with which the evaluation formula is associated; and a function of outputting the appropriate solution thus found. This allows the object to be designed to be parametrically handled, and makes it possible to create a design workflow for efficiently finding an optimum design solution by properly combining a series of design elements and to find an appropriate solution with the use of the design workflow.

摘要翻译： 设计系统（1）具有获取要设计的对象的设计规范和评估设计规范中要设计的对象的值的评估指标的功能; 获取要设计的对象的简档数据的功能; 从简档数据中提取实体设计元素和重要设计变量的功能（设计顺序确定部分（12）），并对实体设计元素和重要设计变量进行优先排序，从而构建设计工作流程; （评估方法构建部（13）），其根据设计工作流程构建用于对每个实体设计元素的设计结果进行性能/评估的评估公式; 通过根据与评估公式相关联的设计工作流程使用评估指数来评估设计结果，通过执行自动优化来找到适当的解决方案的功能; 以及输出由此找到的适当解决方案的功能。 这允许将对象设计为参数化处理，并且可以创建设计工作流，以通过适当地组合一系列设计元素来有效地找到最佳设计解决方案，并使用设计工作流程找到适当的解决方案。

公开(公告)号：US08655630B2

公开(公告)日：2014-02-18

申请号：US13201854

申请日：2010-02-16

申请人： Yoshiharu Iwata ,  Ryohei Satoh ,  Keiji Kudo ,  Atsushi Taya ,  Kazuya Okamoto ,  Hidenori Murata ,  Koichiro Atsumi ,  Eiji Arai ,  Eiji Morinaga

发明人： Yoshiharu Iwata ,  Ryohei Satoh ,  Keiji Kudo ,  Atsushi Taya ,  Kazuya Okamoto ,  Hidenori Murata ,  Koichiro Atsumi ,  Eiji Arai ,  Eiji Morinaga

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06Q10/06 ,  G06Q10/0633

摘要： A design workflow construction apparatus is provided for supporting design of an object having a plurality of design elements. In constructing the design workflow, the apparatus uses input variables, design variables, and intermediate variables. The design workflow construction apparatus includes means for acquiring object design elements and means for determining an order of designing the object design elements. The apparatus also includes means for determining the important design variables.

摘要翻译： 提供了一种用于支持具有多个设计元素的对象的设计的设计工作流构建装置。 在构建设计工作流程中，设备使用输入变量，设计变量和中间变量。 设计工作流程构建装置包括用于获取对象设计元素的装置和用于确定设计对象设计元素的顺序的装置。 该装置还包括用于确定重要设计变量的装置。

公开(公告)号：US06919670B2

公开(公告)日：2005-07-19

申请号：US09989063

申请日：2001-11-21

申请人： Yoshimi Kawanami ,  Yasuhiko Kunii ,  Tadashi Furukawa ,  Akihiro Fujinaga ,  Kazunori Ishizuka ,  Shoichi Iwanaga ,  Fumihiro Namiki ,  Ryohei Satoh

发明人： Yoshimi Kawanami ,  Yasuhiko Kunii ,  Tadashi Furukawa ,  Akihiro Fujinaga ,  Kazunori Ishizuka ,  Shoichi Iwanaga ,  Fumihiro Namiki ,  Ryohei Satoh

IPC分类号： H01J9/02 ,  H01J9/24 ,  H01J11/22 ,  H01J11/34 ,  H01J11/36 ,  H01J17/49

CPC分类号： H01J9/242 ,  H01J9/245 ,  H01J11/12 ,  H01J11/36 ,  H01J2211/366

摘要： A rib structure for a display device includes a light-transmissive rib structure containing therein a material absorbent of visible light so that a visible light absorption distance is 40 to 1200 μm (the visible light absorption distance L (μm) means a distance such that visible light decreases to exp(−T/L) times less in connection to the travel distance T (μm), that is, visible light is absorbed by 1-exp(−T/L)).

摘要翻译： 用于显示装置的肋结构包括透光肋结构，其中包含可见光的材料吸收剂，使得可见光吸收距离为40至1200μm（可见光吸收距离L（mum）表示使得可见光 相对于行驶距离T（mum），光减少到exp（-T / L）次，即可见光被1-exp（-T / L）吸收）。

公开(公告)号：US5865365A

公开(公告)日：1999-02-02

申请号：US761430

申请日：1996-12-06

申请人： Toru Nishikawa ,  Ryohei Satoh ,  Masahide Hara ,  Tetsuya Hayashida ,  Mitugu Shirai ,  Osamu Yamada ,  Hiroko Takehara ,  Yasuhiro Iwata ,  Mitsunori Tamura ,  Masahito Ijuin

发明人： Toru Nishikawa ,  Ryohei Satoh ,  Masahide Hara ,  Tetsuya Hayashida ,  Mitugu Shirai ,  Osamu Yamada ,  Hiroko Takehara ,  Yasuhiro Iwata ,  Mitsunori Tamura ,  Masahito Ijuin

IPC分类号： B23K1/00 ,  H01L21/48 ,  H01L21/56 ,  H01L21/60 ,  H01L21/68 ,  H01L23/498 ,  H05K3/34

CPC分类号： H01L24/12 ,  B23K1/0016 ,  H01L21/4853 ,  H01L21/563 ,  H01L21/6835 ,  H01L23/49816 ,  H01L24/11 ,  H01L24/29 ,  H01L24/81 ,  H01L24/83 ,  H05K3/3489 ,  B23K2201/40 ,  H01L2224/11003 ,  H01L2224/11334 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2224/13111 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/29109 ,  H01L2224/29111 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/73203 ,  H01L2224/73204 ,  H01L2224/81801 ,  H01L2224/83192 ,  H01L2224/83805 ,  H01L2924/0001 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01018 ,  H01L2924/01032 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01042 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/0105 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/0132 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/15787 ,  H01L2924/3025 ,  H05K2203/0278 ,  H05K2203/041 ,  H05K2203/0435 ,  H05K2203/086 ,  H05K2203/087 ,  H05K2203/095 ,  H05K2203/1157 ,  H05K3/3426

摘要： A method of soldering used in fabricating an electronic circuit device employs an organic material supplied to at least one of the connecting members to be bonded. The connecting members are positioned in an oxidizing atmosphere, and heated in a nonoxidizing atmosphere to remove oxide and/or contamination layers present on the surface of presoldered portions or metallized bonding portions. By this method, fluxless soldering is performed, positional shifts are reduced, and high reliability of the soldering connections with reduction in residues after reflow are obtained.

摘要翻译： 用于制造电子电路器件的焊接方法使用供应至待接合的至少一个连接部件的有机材料。 连接构件位于氧化气氛中，并在非氧化气氛中加热以除去存在于预制部分或金属化粘合部分的表面上的氧化物和/或污染层。 通过该方法，进行无焊剂焊接，位移偏移降低，并且获得了在回流之后具有减少残留物的焊接连接的高可靠性。