公开(公告)号：US20180201884A1

公开(公告)日：2018-07-19

申请号：US15743529

申请日：2016-07-14

申请人： FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS U.S.A., INC.

发明人： Yasuo Sugishima ,  Keeyoung Park ,  Thomas Dory

IPC分类号： C11D11/00 ,  C11D7/08 ,  C11D7/50 ,  C11D7/32 ,  C11D7/26 ,  C23G5/032 ,  H01L21/02 ,  G03F7/42

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D7/08 ,  C11D7/247 ,  C11D7/26 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/5004 ,  C11D7/5022 ,  C23G5/032 ,  G03F7/423 ,  G03F7/425 ,  H01L21/02057

摘要： The present disclosure is directed to non-corrosive cleaning compositions that are useful primarily for removing residues (e.g., plasma etch and/or plasma ashing residues) and/or metal oxides from a semiconductor substrate as an intermediate step in a multistep manufacturing process.

公开(公告)号：US07163646B2

公开(公告)日：2007-01-16

申请号：US11066295

申请日：2005-02-28

申请人： Tsuyoshi Hanada

发明人： Tsuyoshi Hanada

IPC分类号： C23G5/028 ,  C23G5/032 ,  C11D7/30

CPC分类号： C11D7/30 ,  C11D7/261 ,  C11D7/28 ,  C11D7/5018 ,  C11D7/5022 ,  C11D7/5068 ,  C11D7/5077 ,  C11D11/0047 ,  C23G5/02803 ,  C23G5/02806

摘要： A solvent composition comprising 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluorohexane (R52-13), trans-1,2-dichloroethylene (tDCE) and a C1-3 alcohol, wherein the content of R52-13 is from 25.0 to 75.0% (by mass, and the same applies hereinafter), the content of tDCE is from 15.0 to 74.9% and the content of the C1-3 alcohol is from 0.1 to 10.0%, to the total amount of R52-13, tDCE and the C1-3 alcohol. This solvent composition can remove oils and greases and flux with a high cleaning performance.

摘要翻译： 包含1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-十三氟己烷（R52-13），反式-1,2-二氯乙烯（tDCE）和C 1-3％醇，其中R52-13的含量为25.0〜75.0％（以质量计，以下相同），tDCE的含量为15.0〜74.9％，含量为 C 1-3醇为0.1至10.0％，相对于R 52-13，t DCE和C 1-3-3醇的总量。 该溶剂组合物可以以高清洁性能去除油和润滑脂和助熔剂。

公开(公告)号：US06916773B2

公开(公告)日：2005-07-12

申请号：US10210390

申请日：2002-07-31

申请人： Greg Griese ,  Mark Levitt

发明人： Greg Griese ,  Mark Levitt

IPC分类号： C11D3/20 ,  C11D3/43 ,  C11D7/26 ,  C11D7/50 ,  C23G1/14 ,  C23G1/24 ,  C11D1/04 ,  B01F1/00 ,  C23G5/032

CPC分类号： C23G1/24 ,  C11D3/2068 ,  C11D3/2079 ,  C11D3/43 ,  C11D7/265 ,  C11D7/5022 ,  C23G1/14

摘要： Compositions of the invention include: (a) a solvent having a hydrophilic-lipophilic balance (HLB) value of 5 to 7; and (b) a solubilizing agent having the formula: where R is aryl, cycloaryl, heteroaryl or hetercyclyl; R1 is a bond, (C1-C7)alkyl, substituted (C1-C7)alkyl, (C1-C7)alkoxy, substituted (C1-C7)alkoxy, (C2-C7)alkenyl or substituted (C2-C7)alkenyl; and Z+ is hydrogen, Na, K, NR′4 where R′ is defined herein. Further compositions include: (a) a solvent having a (HLB) value of 5 to 7; and (b) a solubilizing agent having the formula: where R2 is a bond, (C1-C7)alkyl, substituted (C1-C7)alkyl, (C1-C7)alkoxy, substituted (C1-C7)alkoxy, (C2-C7)alkenyl or substituted (C2-C7)alkenyl; and Z+ is hydrogen, Na, K, NR′4 where R′ is defined herein. The compositions are useful in providing stable single phase aqueous solutions when combined with water.

摘要翻译： 本发明的组合物包括：（a）亲水亲油平衡（HLB）值为5至7的溶剂; 和（b）具有下式的增溶剂：其中R是芳基，环芳基，杂芳基或杂环基; R 1是一个键，（C 1 -C 7 - ）烷基，取代的（C 1 -C 3 - （C 1 -C 7）烷基，（C 1 -C 7）烷氧基，取代的（C 1 -C 7）烷基， 烷氧基，（C 2 -C 7 -C 7）链烯基或取代的（C 1 -C 2）-C 7 ）链烯基; 并且Z +是氢，Na，K，NR'，其中R'在本文中定义。 其他组合物包括：（a）具有（HLB）值为5至7的溶剂; 和（b）具有下式的增溶剂：其中R 2 2是一个键，（C 1 -C 6 -C 7）烷基，取代的（ C 1 -C 7烷基，（C 1 -C 7 -C 7）烷氧基，取代的（C

公开(公告)号：US06132521A

公开(公告)日：2000-10-17

申请号：US467132

申请日：1999-12-20

申请人： Subhash Gupta ,  Simon Chooi ,  Mei Sheng Zhou ,  Paul Ho

发明人： Subhash Gupta ,  Simon Chooi ,  Mei Sheng Zhou ,  Paul Ho

IPC分类号： C11D3/20 ,  C11D3/39 ,  C23G5/032 ,  B08B3/04

CPC分类号： C11D3/2072 ,  C11D3/2003 ,  C11D3/2093 ,  C11D3/3945 ,  C23G5/032 ,  Y10S134/902

摘要： A method of cleaning elemental copper, cobalt, or nickel from the surface of equipment hardware without corroding or damaging the equipment parts and surfaces in the event of wafer breakage and non-wafer breakage is described. A solution includes an alkyldione peroxide, a stabilizing agent, and alcohols is used to oxidize the metal and form soluble complexes which are removed by the cleaning solution. Also, a alkyldione peroxide solution for cleaning elemental copper, cobalt, or nickel from the surface of equipment hardware in the event of wafer breakage and non-wafer breakage is provided.

摘要翻译： 描述了从设备硬件表面清除元素铜，钴或镍的方法，而不会在晶片断裂和非晶片断裂的情况下腐蚀或损坏设备部件和表面。 溶液包括烷基二酮过氧化物，稳定剂，醇用于氧化金属并形成由清洗溶液除去的可溶性络合物。 此外，提供了在晶片断裂和非晶片断裂的情况下从设备硬件的表面清除元素铜，钴或镍的烷基二氧化碳过氧化物溶液。

公开(公告)号：US6121482A

公开(公告)日：2000-09-19

申请号：US894159

申请日：1997-08-18

申请人： Klaus Kwetkat ,  Herbert Koch ,  Wulf Ruback

发明人： Klaus Kwetkat ,  Herbert Koch ,  Wulf Ruback

IPC分类号： A61K8/00 ,  A61K8/42 ,  A61Q5/02 ,  A61Q19/10 ,  B01F17/00 ,  B01F17/22 ,  B01F17/32 ,  B01F17/42 ,  C07C233/01 ,  C07C233/04 ,  C07C233/05 ,  C07C233/17 ,  C07C233/18 ,  C07C233/57 ,  C07C235/04 ,  C07C235/08 ,  C07C237/04 ,  C07C237/08 ,  C07C309/10 ,  C07C309/17 ,  C10M133/16 ,  C10N30/00 ,  C10N40/24 ,  C11D1/10 ,  C11D1/28 ,  C11D1/29 ,  C11D1/34 ,  C11D1/52 ,  C11D1/66 ,  C11D1/88 ,  C23G5/032 ,  D06M13/402 ,  C07C229/00 ,  B01D17/04

CPC分类号： A61Q19/10 ,  A61K8/466 ,  A61Q5/02 ,  B01F17/0021 ,  B01F17/0042 ,  C07C233/18 ,  C07C235/08 ,  C07C237/08 ,  C07C309/10 ,  C07C309/17 ,  C11D1/10 ,  C11D1/28 ,  C11D1/29 ,  C11D1/34 ,  C11D1/528

摘要： The invention concerns amphiphilic compounds of general formula (I), in which R.sup.1 and R.sup.3 each represent a C.sub.1 -C.sub.22 hydrocarbon residue, R.sup.2 is a spacer and X and Y are functional groups. The proposed compounds have at least two hydrophilic and at least two hydrophobic groups based on dicarboxylic acid diamides. The amphiphilic compounds according to the invention are mostly surface-active and are especially suitable for use as emulsifiers, demulsifies, detergents, dispergents and hydrotropic agents in industry and households, for example, in the treatment of metals, ore processing, surface finishing, washing, cleaning, cosmetics, medicine and food processing and preparation.

摘要翻译： PCT No.PCT / EP95 / 04530 Sec。 371日期：1997年8月18日 102（e）日期1997年8月18日PCT提交1995年11月17日PCT公布。 公开号WO96 / 25388 PCT 日期1996年8月22日本发明涉及通式（I）的两亲性化合物，其中R 1和R 3各自表示C 1 -C 22烃残基，R 2为间隔基，X和Y为官能团。 所提出的化合物具有至少两种基于二羧酸二酰胺的亲水和至少两个疏水基团。 根据本发明的两亲性化合物主要是表面活性的，并且特别适合用作工业和家庭中的乳化剂，破乳剂，去污剂，分解剂和水溶助长剂，例如在金属的处理，矿石加工，表面处理，洗涤 ，清洁，化妆品，医药和食品加工及制备。

公开(公告)号：US6083424A

公开(公告)日：2000-07-04

申请号：US046550

申请日：1998-03-24

申请人： Simonetta Fontana ,  Rossella Silvani

发明人： Simonetta Fontana ,  Rossella Silvani

IPC分类号： B01D12/00 ,  C07C217/28 ,  C07C217/50 ,  C11D1/00 ,  C11D3/24 ,  C11D7/22 ,  C11D7/28 ,  C11D7/50 ,  C11D11/00 ,  C23G5/032 ,  B01F1/00 ,  B08B3/14 ,  C11D3/37 ,  C11D9/00 ,  C11D17/00

CPC分类号： C11D11/0035 ,  B01D12/00 ,  C07C217/28 ,  C07C217/50 ,  C11D1/004 ,  C11D11/0029 ,  C11D3/245 ,  C11D7/5018 ,  C23G5/032

摘要： Compositions used to remove traces of water and/or organic solvents and/or oils from the component surfaces, comprising:i) hydrofluoropolyethers having the general formula:HF.sub.2 CO (CF.sub.2 O).sub.n (CF.sub.2 CF.sub.2 O).sub.m CF.sub.2 Hii) fluorinated additive having a structure selected from the following:T--OR.sub.f (CFY)--L (I)L--CF.sub.2 OR.sub.f CF.sub.2 --L (II)with L.dbd.X--CH.sub.2 CH.sub.2 (OCH.sub.2 CH.sub.2).sub.n.spsb.o Bwherein X.dbd.CH.sub.2 O, CH.sub.2 NR", CONR", CH.sub.2 OCH.sub.2 CH.sub.2 NR", CH.sub.2 OCOCH.sub.2 O;n.sup.o =0-50; B.dbd.NHC(CH.sub.2 OH).sub.3, CH.sub.2 O(CH.sub.2 OH).sub.3 ;with R".dbd.H, alkyl C.sub.1-3 ; Y.dbd.CF.sub.3 or F; T is selected from --CF.sub.3, --C.sub.2 F.sub.5, --C.sub.3 F.sub.7, ClCF.sub.2 CF(CF.sub.3)--, CF.sub.3 CFClCF.sub.2 --, ClCF.sub.2 CF.sub.2 --, ClCF.sub.2 --; R.sub.f is a (per)fluoroalkane and/or (per)fluoro-polyether chain.

摘要翻译： 用于从组分表面除去痕量水和/或有机溶剂和/或油的组合物，包括：i）具有以下通式的氢氟聚醚：具有以下通式的HF 2 CO（CF 2 O）n（CF 2 CF 2 O）m CF 2 Hii）具有选自以下结构的氟化添加剂 其中L = X-CH 2 CH 2（OCH 2 CH 2）n B的T-ORf（CFY）-L（I）L-CF 2 OR f CF 2 -L（II）其中X = CH 2 O，CH 2 NR“，CONR”，CH 2 OCH 2 CH 2 NR“，CH 2 OOCH 2 O; 否= 0-50; B = NHC（CH 2 OH）3，CH 2 O（CH 2 OH）3; 其中R“= H，烷基C1-3; Y = CF3或F; T选自-CF 3，-C 2 F 5，-C 3 F 7，ClCF 2 CF（CF 3） - ，CF 3 CFClCF 2 - ，ClCF 2 CF 2 - ，ClCF 2 - ; Rf是（全）氟代烷烃和/或（全）氟 - 聚醚链。

公开(公告)号：US06063748A

公开(公告)日：2000-05-16

申请号：US130236

申请日：1998-08-06

申请人： Richard M. Flynn ,  Dean S. Milbrath ,  John G. Owens ,  Daniel R. Vitcak ,  Hideto Yanome

发明人： Richard M. Flynn ,  Dean S. Milbrath ,  John G. Owens ,  Daniel R. Vitcak ,  Hideto Yanome

IPC分类号： C11D7/24 ,  C07C43/12 ,  C09D7/00 ,  C09D7/12 ,  C09K5/04 ,  C11D7/26 ,  C11D7/28 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  C23G5/032 ,  C11D7/60

CPC分类号： C11D7/261 ,  C09D7/001 ,  C09K5/04 ,  C09K5/045 ,  C11D7/5063 ,  C11D7/5072 ,  C11D7/5077 ,  C11D7/5095 ,  C23G5/032 ,  C09K2205/102 ,  C09K2205/108 ,  C09K2205/11 ,  C09K2205/112 ,  C09K2205/114 ,  C09K2205/122 ,  C09K2205/132 ,  C09K2205/32 ,  C11D7/24 ,  C11D7/263 ,  C11D7/264 ,  C11D7/266 ,  C11D7/267 ,  C11D7/28 ,  C11D7/32

摘要： The invention provides azeotrope-like compositions consisting essentially of R.sub.f OC.sub.2 H.sub.5, where R.sub.f is a branched or straight chain perfluoroalkyl group having 4 carbon atoms, and an organic solvent selected from the group consisting of: straight chain, branched chain and cyclic alkanes having 6 to 8 carbon atoms; esters having 4 carbon atoms; ketones having 4 carbon atoms; disiloxanes having 6 carbon atoms; cyclic and acyclic ethers having 4 to 6 carbon atoms; chlorinated alkanes having 3 to 4 carbon atoms and chlorinated alkenes having 2 carbon atoms. The compositions are useful for cleaning, as solvents or carriers for coating and as heat transfer materials.

摘要翻译： 本发明提供了基本上由RfOC2H5组成的类共沸组合物，其中Rf是具有4个碳原子的支链或直链全氟烷基，和选自直链，支链和环状烷烃的有机溶剂，其具有6至8个 碳原子 具有4个碳原子的酯; 具有4个碳原子的酮; 具有6个碳原子的二硅氧烷; 具有4-6个碳原子的环状和非环状醚; 具有3至4个碳原子的氯代烷烃和具有2个碳原子的氯代烯烃。 该组合物可用于清洗，作为用于涂层的溶剂或载体以及作为热传递材料。

公开(公告)号：US5954990A

公开(公告)日：1999-09-21

申请号：US842031

申请日：1997-04-23

申请人： Hirohide Matsuhisa ,  Satoko Midorikawa ,  Sumire Mima

发明人： Hirohide Matsuhisa ,  Satoko Midorikawa ,  Sumire Mima

IPC分类号： B01D11/00 ,  C09K3/18 ,  C11D7/50 ,  C23G5/024 ,  C23G5/028 ,  C23G5/032 ,  D06M15/277 ,  D06M15/353

CPC分类号： B01D11/00 ,  C11D7/50 ,  C11D7/5009 ,  C11D7/5018 ,  C23G5/024 ,  C23G5/02803 ,  C23G5/032

摘要： A non-flammable water-repellent/oil repellent composition containing a fluorine containing-polymer and a solvent containing at least 40% by weight of a non-flammable perfluoro organic compound.

公开(公告)号：US5925613A

公开(公告)日：1999-07-20

申请号：US645685

申请日：1996-05-14

申请人： Mitsuo Shinomiya ,  Minoru Ishida ,  Shoji Shiraishi ,  Tamotsu Sobata

发明人： Mitsuo Shinomiya ,  Minoru Ishida ,  Shoji Shiraishi ,  Tamotsu Sobata

IPC分类号： B08B3/08 ,  C11D1/72 ,  C11D1/722 ,  C11D3/08 ,  C11D11/00 ,  C23G1/14 ,  C23G5/032 ,  C23G5/04

CPC分类号： C11D11/0035 ,  C11D1/722 ,  C11D11/0029 ,  C11D3/08 ,  C23G1/14

摘要： An alkaline degreasing solution containing 0.01 to 3 g/l of alkali silicate calculated as Si concentration, and 0.01 to 10 g/l of a nonionic surfactant having an HLB value (=20.times.Mw/M, where Mw represents the weight of a hydrophilic group part and M represents the molecular weight of the surfactant) of 5 to 11 and a structure being expressed in the following general formula (I), with a pH value of at least 9.5:R--O--(EO).sub.m (AO).sub.n H (I)where R represents alkyl group, EO represents ethylene oxide group, AO represents alkylene oxide group (propylene oxide group and/or butylene oxide group), m represents an addition molar number of EO which is an integer of 3 to 7, n represents an addition molar number of AO which is an integer of 1 to 6, and m and n satisfy the relation of n

摘要翻译： 以Si浓度计，含有0.01〜3g / l的碱性硅酸盐和0.01〜10g / L的HLB值（= 20×Mw / M，其中Mw表示亲水性基团部分的重量）的非离子表面活性剂的碱性脱脂溶液 和M表示表面活性剂的分子量）为5〜11的结构，其结构用以下通式（I）表示，pH值为9.5以上：RO-（EO）m（AO）nH（I） 其中R表示烷基，EO表示环氧乙烷基，AO表示环氧烷基（环氧丙烷基和/或环氧丁烷基），m表示EO的加成摩尔数，为3〜7的整数，n表示相加 作为1〜6的整数的AO的摩尔数，m和n满足n

公开(公告)号：US5846920A

公开(公告)日：1998-12-08

申请号：US621324

申请日：1996-03-25

申请人： Toru Shiino ,  Kenichi Nobuta ,  Yoshikazu Yamagata ,  Tokihiko Shimizu

发明人： Toru Shiino ,  Kenichi Nobuta ,  Yoshikazu Yamagata ,  Tokihiko Shimizu

IPC分类号： B23K35/36 ,  C11D3/20 ,  C11D7/26 ,  C11D7/50 ,  C11D11/00 ,  C23G5/032 ,  C23G5/02

CPC分类号： C11D3/2068 ,  C11D11/0047 ,  C11D7/5022 ,  C23G5/032 ,  B23K35/3612 ,  C11D7/263

摘要： A cleaning agent for removing a residue of soldering flux, which essentially consists of mono-, di-, or tri-alkylene glycol mono branched C.sub.3 -C.sub.5 alkyl ether, which can remove with high safety both ionic residues and resinous materials contained in a soldering flux, which remain on the surface of a soldered electronic substrate. The cleaning agent of the present invention does not adversely affect the insulation and materials used in an electronic device.

摘要翻译： 用于除去助焊剂残留物的清洗剂，其基本上由单 - ，二 - 或三 - 亚烷基二醇单支链C 3 -C 5烷基醚组成，其可以高度安全地去除在焊接中包含的离子残余物和树脂材料 焊剂保留在焊接的电子基板的表面上。 本发明的清洁剂对电子设备中使用的绝缘材料和材料没有不利影响。