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公开(公告)号：CN101960338A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200980106463.3
申请日：2009-02-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： W·A·索尔 , V·Y·班尼恩 , J·H·J·莫尔斯 , M·M·J·W·范赫彭 , A·M·亚库林
CPC分类号： G02B5/208 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B5/22 , G02B5/26 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/067 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 一种光学元件包括第一层(4)，所述第一层包括第一材料，并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2)，所述第二层包括第二材料，并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3)，位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料，并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游，以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。
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公开(公告)号：CN101946190A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200980105364.3
申请日：2009-02-06
申请人： 卡尔蔡司SMT股份公司
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/09 , G02B26/06 , G02B26/0816 , G02B26/0833 , G02B27/0927 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： 分面镜用作微光刻的投射曝光设备中的光束引导元件。该分面镜具有多个分立镜(21)。对于入射照明光的单独偏转，在每种情况下这些分立镜(21)被连接到驱动器，使得这些分立镜关于至少一个倾斜轴(x，y)分别地可倾斜。连接到驱动器的控制装置被配置，使得给定组的分立镜(21)能够组合成分立镜组(19)，该分立镜组在每种情况下包括至少两个分立镜(21)。结果是当分立镜安装在投射曝光设备中时，分立镜增加用于设置由投射曝光设备照明物场的各种照明几何形状的变化性。用于形成分面镜的分立镜的各种实施例被描述。
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公开(公告)号：CN101297243A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200680028253.3
申请日：2006-05-23
申请人： 卡尔蔡司股份公司
发明人： 海科·费尔德曼 , 丹尼尔·克雷默 , 让-克洛德·佩林 , 朱利安·卡勒 , 奥雷利安·多多克 , 弗拉基米尔·卡梅诺夫 , 奥拉夫·康拉迪 , 托拉夫·格鲁纳 , 托马斯·奥孔 , 亚历山大·埃普勒
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B17/08 , G03F7/702 , G03F7/70283 , G03F7/70941
摘要： 对于一种用于将布置在物平面的图案成像到像平面的微光刻投影物镜，相对于抑制这种投影物镜中的虚光进行了描述。
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公开(公告)号：CN100377303C
公开(公告)日：2008-03-26
申请号：CN03802357.1
申请日：2003-06-19
申请人： 佳能株式会社
发明人： 宫岛义一
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G21K1/06 , G02B7/1815 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70891 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 本申请公开了一种反射镜设备、曝光设备以及器件制造方法。在通过反射引导曝光光线的曝光设备中，用在反射光学系统中的反射镜设备具有：一个具有一个反射所述曝光光线的反射表面的反射镜；用于散热冷却的散热板，被设置在离开所述反射镜的外表面的位置。所述散热板的设置确保入射到所述反射表面上并从该反射表面反射的所述曝光光线的通道区域。另外，用流过冷却管的冷却液体对各散热板进行温度控制。这样，可以抑制用在曝光设备的反射光学系统中的反射镜的温度上升，保持反射镜反射面的面形状的精度。
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公开(公告)号：CN1650234A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN03809609.9
申请日：2003-04-08
申请人： 卡尔蔡司SMT股份公司
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B26/0816 , G03F7/70141 , G03F7/702
摘要： 特别用于极远紫外光刻、包括以≤193nm的波长制造半导体元件的投影透镜的发光系统，设有光源(1)、物平面(12)、出射光瞳(15)、生成光通道的具有第一栅格元件(6)的第一光学元件(5)、具有第二栅格元件(8)的第二光学元件(7)，将第二光学元件(7)的栅格元件(8)分配给由第一光学元件(5)的第一栅格元件(6)之一形成的每个光通道。构造或设置第一光学元件(5)和第二光学元件(7)的栅格元件(6)，使得对于每个光通道，生成从光源(1)到物平面(12)的连续光路。调整第一光学元件(5)的第一栅格元件(6)的角度以修改倾斜。使第一和第二栅格元件(8)产生位移和/或倾斜，可以不关联单独调节第二光学元件(7)的第二栅格元件(8)的位置和/或角度，通过另一种分配方式将第一光学元件(5)的第一栅格元件(6)分配给第二光学元件(7)的第二栅格元件(8)。
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公开(公告)号：CN1433531A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN00818880.7
申请日：2000-12-07
申请人： 法国原子能委员会
CPC分类号： H05G2/001 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/24 , G03F7/70033 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70575
摘要： 光刻设备使用远紫外区辐射源和多层镜在该区域中具有宽的频谱频带。每一镜(24，26，29)包含第一材料层和第一材料层交替的第二材料层的叠层，第一材料具有原子序数大于第二材料，一对相邻层的厚度是叠层内的深度的单调函数，源(22)包含至少一个靶(28)，该靶通过与在其面之一上聚焦的激光束彼此作用发射辐射，利用从另一面发射的辐射部分(36)。本发明可用于具有高集成度的集成电路的制造。
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公开(公告)号：CN105706003B
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201480060611.3
申请日：2014-08-25
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： M.帕特拉
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/09 , G02B19/0095 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： 本发明涉及一种用于EUV投射光刻的照明光学装置，所述照明光学装置用于照亮照明场，下游侧的成像光学装置(6)的物场(3)布置在所述照明场中。在物场(3)中又能够布置能沿物体移动方向(y)移动的物体(5)。照明光学装置的镜面分面反射镜(14)具有多个并排布置的分面(13)，用于反射地叠加地导引朝向物场(3)的一束EUV照明光(9)中的部分光束(9i)。所述镜面分面反射镜(14)布置为，使得各个分面(13)在镜面分面反射镜(14)上的位置和照明光部分光束(9i)在镜面分面反射镜(14)的相应各个分面(13)上的射击区域预设出用于物场(3)的场点的照明方向。照明光部分光束(9i)在各个分面(13)上的射击区域的边缘轮廓预设出物场(3)的场形状。每个分面(13)具有连续的静态反射面(15)。由此实现这样的照明光学装置，通过所述照明光学装置能够以相比现有技术减少的制造耗费实现镜面反射器。
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公开(公告)号：CN104641296B
公开(公告)日：2018-07-10
申请号：CN201380048023.3
申请日：2013-08-30
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B7/182 , G03F7/70066 , G03F7/70083 , G03F7/70233
摘要： 具有分片总表面区的反射镜，其中分片形成非周期布置。
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公开(公告)号：CN104380202B
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201380016215.6
申请日：2013-02-14
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/1827 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B26/0833 , G03F7/00 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/7015 , G03F7/70291
摘要： 一种光学部件(40)，包含：反射镜阵列(22)，该反射镜阵列具有多个反射镜元件(23)，多个反射镜元件各连接到用于位移的至少一个致动器(131)；用于致动器到外部的信号传输连接的多个信号线(47)；用于预定单独反射镜元件(23)的绝对位置的全局控制/调节装置(134)；及用于调节反射镜元件(23)的定位的多个本地调节装置(136)，其中，所述调节装置(136)在各个情况中均完全集成在所述部件(40；40a)中。
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公开(公告)号：CN107646087A
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201680029734.X
申请日：2016-05-18
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G01B9/02039 , B21D11/10 , C03B37/15 , G01B9/02028 , G01B9/02032 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01B11/2441 , G01B2290/30 , G01M11/005 , G01M11/0264 , G02B5/08 , G02B13/143 , G03F7/702 , G03F7/706
摘要： 本发明涉及干涉式地确定被测装置(14)的表面(12)的形状的测量布置(10)。所述测量布置(10)包括提供输入波(18)的光源(16)和衍射光学元件(24)。衍射光学元件(24)适当地设计为从输入波(18)通过衍射分别产生测试波(26)和参考波(28)，该测试波指向被测装置(14)并且具有至少部分适配于光学表面(12)的期望的形状的波前。所述测量布置(10)还包含用于参考波(28)的背向反射的反射光学元件(30)、以及在捕获平面(48)中捕获干涉图的捕获装置(36)，该干涉图由与被测装置(14)相互作用后的测试波(26)和反射的参考波(28)分别在所述衍射光学元件(24)处的另一次衍射之后的叠加产生。本发明还涉及确定被测装置(14)的表面形状的相应方法。
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