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    立体サンプル貼り付け用フィルムおよびその製造方法と、それを用いた微細パターン転写方法
    11.
    发明专利
    立体サンプル貼り付け用フィルムおよびその製造方法と、それを用いた微細パターン転写方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018120015A

    公开(公告)日：2018-08-02

    申请号：JP2017009461

    申请日：2017-01-23

    申请人： 学校法人トヨタ学園

    发明人： 佐々木 実

    IPC分类号： G03F9/00 ,  H01L21/683 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2006 ,  H01L21/0274 ,  H01L23/544 ,  H01L2223/54426

    摘要： 【課題】 フォトリソグラフィが持つ、一括処理の高い生産性の長所を保ちながら、立体サンプルに所望の微細パターンを転写できる立体サンプルへの貼り付け用フィルム等を提供する。 【解決手段】 本発明の立体サンプルへの貼り付け用フィルムは、位置または方向の合わせマーク等をもつフォトレジスト層を含む。このフィルムを立体サンプル上の位置または方向合わせマーク等に合わせて、微細パターンの露光を済ませたフォトレジスト膜を立体サンプルの所望の位置に貼り付ける。これにより、適切な微細パターンを転写することができる。本発明のフィルムは、例えば、被処理物への貼り付け前に、面内または厚み方向の一部または全部を現像処理してフォトレジスト層に基準となる凹凸を形成したものである。 【選択図】図1

    チャンバ装置、ターゲット生成方法および極端紫外光生成システム
    19.
    发明专利
    チャンバ装置、ターゲット生成方法および極端紫外光生成システム 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2016175031A1

    公开(公告)日：2018-03-01

    申请号：JP2017515472

    申请日：2016-04-13

    申请人： ギガフォトン株式会社

    发明人： 石原 孝信 ,  堀 司 ,  斎藤 隆志 ,  白石 裕

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H05G2/00

    CPC分类号： H05G2/006 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2008 ,  H05G2/00 ,  H05G2/008

    摘要： 本開示の一態様によるチャンバ装置は、チャンバ(2)と、チャンバに組み付けられ、チャンバ内の所定領域へターゲット材料を供給するターゲット生成装置であって、ターゲット材料を貯蔵するタンク部(260)、タンク部内の前記ターゲット材料の温度を変化させる温度可変装置(141)、および、液体状のターゲット材料を出力するノズル孔を含むノズル部(262)を備えるターゲット生成装置と、ガスの導入口がノズル部へ向くように配置されたガスノズル(303)と、少なくともノズル部の周辺に水素を含むガスが供給されるようにガスノズルに水素を含むガスを供給するガス供給源(301)と、チャンバ内における少なくともノズル部周辺の水分を除去する水分除去装置と、を備えてもよい。