반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치 및 기록 매체
    2.
    发明公开
    반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치 및 기록 매체 审中-公开
    制造半导体器件衬底处理装置和非中间计算机可读记录介质的方法

    公开(公告)号:KR20180027308A

    公开(公告)日:2018-03-14

    申请号:KR20160169521

    申请日:2016-12-13

    Abstract: 3차원구조의플래시메모리에서도양호한특성의반도체장치를형성가능하게한다. 상기과제를해결하기위해서기판상에절연막을형성하는절연막형성공정; 상기절연막상에희생막을형성하는희생막형성공정; 및상기희생막과상기절연막의막 응력차이를저감하도록개질하는개질공정; 을하나의조합으로하여서상기조합을복수회 반복해서상기절연막과상기희생막을적층한적층구조를형성하는기술을제공한다.

    Abstract translation: 本文描述的技术可以形成具有3D结构的闪存上的有利特性的半导体器件。 提供了一种制造半导体器件的方法,所述方法包括:(a)通过进行多次组合来形成具有堆叠在其中的绝缘膜和牺牲膜的堆叠结构,所述组合包括:(a-1)形成绝缘膜 基片上的薄膜; (a-2)在绝缘膜上形成牺牲膜; 和(a-3)改变绝缘膜和牺牲膜中的至少一个以减小绝缘膜和牺牲膜的应力之间的差异。

    반도체 장치
    3.
    发明公开
    반도체 장치 审中-公开
    半导体器件

    公开(公告)号:KR20180018364A

    公开(公告)日:2018-02-21

    申请号:KR20170099546

    申请日:2017-08-07

    Abstract: 상대적으로넓은면적의배선혹은패드 (1) 에접속하는제 2 배선 (2) 와의접합지점 (6) 의근방에슬릿 (3) 을형성한다. 이로써, 포토리소그래피공정에서의베이크처리나 UV 큐어등에서발생하는레지스트의인장응력을분산시키고, 제 2 배선단의레지스트의수축, 변형을완화할수 있어에칭에의해형성되는배선의치수및 형상을안정화할수 있다.

    Abstract translation: 沿着第二互连连接到相对大面积的互连或焊盘的连接部分形成狭缝。 由于光刻中的烘烤,UV固化或其他处理引起的抗蚀剂的拉伸应力可以被分散,因此可以减轻第二互连的末端处的抗蚀剂的收缩和变形,并且互连的尺寸和形状, 通过蚀刻形成的凹陷可以被稳定。

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