公开(公告)号：US08067147B2

公开(公告)日：2011-11-29

申请号：US10596647

申请日：2004-12-22

申请人： Peter Dirksen ,  Robert Duncan Morton ,  Peter Zandbergen ,  David Van Steenwinckel ,  Yuri Aksenov ,  Jeroen Herman Lammers ,  Johannes Van Wingerden ,  Laurent Marinier

发明人： Peter Dirksen ,  Robert Duncan Morton ,  Peter Zandbergen ,  David Van Steenwinckel ,  Yuri Aksenov ,  Jeroen Herman Lammers ,  Johannes Van Wingerden ,  Laurent Marinier

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70983

摘要： A method of irradiating to pattern a photosensitive layer such as a resist (L2) immersed in a fluid (L3), involves applying a removable transparent layer (L4, L5), projecting the radiation onto the resist through the immersion fluid and through the transparent layer, such that imperfections in the fluid are out of focus as projected on the surface, and subsequently removing the transparent layer. The transparent layer can help distance such imperfections from the focus of the radiation on the surface and so can reduce or eliminate shadowing. Hence the irradiation can be more complete, and defects reduced. It can be particularly effective for imperfections in the form of small bubbles or particles in the immersion fluid especially at the fluid/surface interface for example. The radiation can be for any purpose including inspection, processing, patterning and so on. The removal of the transparent layer can be combined with a step of developing the resist layer.

摘要翻译： 一种照射方法来照射浸没在流体（L3）中的抗蚀剂（L2）的感光层，包括施加可去除的透明层（L4，L5），通过浸没流体将辐射投射到抗蚀剂上，并通过透明 使得流体中的缺陷如投射在表面上而失焦，随后去除透明层。 透明层可以帮助将这种缺陷从辐射的焦点远离在表面上，因此可以减少或消除阴影。 因此，照射可以更完整，并且缺陷减少。 对于浸入液体中的小气泡或颗粒形式的缺陷，特别是在流体/表面界面处的缺陷可能特别有效。 辐射可以用于任何目的，包括检查，加工，图案化等。 可以将透明层的去除与显影抗蚀剂层的步骤组合。

公开(公告)号：US20110127625A1

公开(公告)日：2011-06-02

申请号：US12888185

申请日：2010-09-22

申请人： Casper van der AVOORT ,  Jozef Thomas Martinus van BEEK ,  Johannes van WINGERDEN ,  Joep BONTEMPS ,  Robert James Pascoe LANDER

发明人： Casper van der AVOORT ,  Jozef Thomas Martinus van BEEK ,  Johannes van WINGERDEN ,  Joep BONTEMPS ,  Robert James Pascoe LANDER

IPC分类号： H01L29/84 ,  H01L21/30

CPC分类号： H03H9/02448 ,  H03H3/0076 ,  H03H9/2447 ,  H03H9/2473 ,  H03H9/2489

摘要： A resonator comprising a beam formed from a first material having a first Young's modulus and a first temperature coefficient of the first Young's modulus, and a second material having a second Young's modulus and a second temperature coefficient of the second Young's modulus, a sign of the second temperature coefficient being opposite to a sign of the first temperature coefficient at least within operating conditions of the resonator, wherein the ratio of the cross sectional area of the first material to the cross sectional area of the second material varies along the length of the beam, the cross sectional areas being measured substantially perpendicularly to the beam.

摘要翻译： 一种谐振器，包括由具有第一杨氏模量和第一杨氏模量的第一温度系数的第一材料形成的梁，以及具有第二杨氏模量和第二杨氏模量的第二温度系数的第二材料， 所述第二温度系数至少在所述谐振器的操作条件下与所述第一温度系数的符号相反，其中所述第一材料的横截面积与所述第二材料的横截面面积的比率沿着所述梁的长度变化 横截面面积基本上垂直于梁测量。

公开(公告)号：US20050211375A1

公开(公告)日：2005-09-29

申请号：US11096125

申请日：2005-03-30

申请人： Dirk Knotter ,  Johannes Van Wingerden ,  Madelon Rovers

发明人： Dirk Knotter ,  Johannes Van Wingerden ,  Madelon Rovers

IPC分类号： C23F1/24 ,  C09K13/04 ,  C09K13/08 ,  G03F7/09 ,  H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/28 ,  H01L21/306 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  H01L29/423 ,  H01L29/49 ,  H01L29/78 ,  H01L21/8242

CPC分类号： C09K13/08 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/67075 ,  H01L21/67086

摘要： The invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device comprising the step of removing a silicon and nitrogen containing material by means of wet etching with an aqueous solution comprising hydrofluoric acid in a low concentration, the aqueous solution being applied under elevated pressure to reach a temperature above 100° C.

摘要翻译： 本发明涉及一种制造半导体器件的方法，包括通过用包含低浓度的氢氟酸的水溶液湿法蚀刻除去含硅和氮的材料的步骤，该水溶液在升高的压力下被施加到 温度高于100℃

公开(公告)号：US08409996B2

公开(公告)日：2013-04-02

申请号：US12968020

申请日：2010-12-14

申请人： Frederik Willem Maurits Vanhelmont ,  Rensinus Cornelis Strijbos ,  Andreas Bernardus Maria Jansman ,  Robertus Adrianus Maria Wolters ,  Johannes van Wingerden ,  Fredericus Christiaan van den Heuvel

发明人： Frederik Willem Maurits Vanhelmont ,  Rensinus Cornelis Strijbos ,  Andreas Bernardus Maria Jansman ,  Robertus Adrianus Maria Wolters ,  Johannes van Wingerden ,  Fredericus Christiaan van den Heuvel

IPC分类号： H01L21/302

CPC分类号： H03H9/564 ,  H03H3/04 ,  H03H9/02228

摘要： A method of manufacturing a Bulk Acoustic Wave device by providing an active layer formed of an electro-mechanical transducer material, providing a first electrode on the active layer, defining a first electrode portion of the device, whereby a remaining portion of the device is defined around the first electrode, providing a stop-layer on the first electrode, depositing a first dielectric layer on the resultant structure, and planarizing the first dielectric layer until the stop-layer on the first electrode is exposed.

摘要翻译： 通过提供由机电换能器材料形成的有源层来制造体声波器件的方法，在有源层上提供第一电极，限定器件的第一电极部分，从而定义器件的剩余部分 围绕第一电极，在第一电极上提供停止层，在所得结构上沉积第一电介质层，并平坦化第一电介质层，直到第一电极上的停止层露出。

公开(公告)号：US20120091546A1

公开(公告)日：2012-04-19

申请号：US13265535

申请日：2010-04-20

申请人： Geert Langereis ,  Twan Van Lippen ,  Freddy Roozeboom ,  Hilco Suy ,  Klaus Reimann ,  Jozef Thomas Martinus Van Beek ,  Casper Van Der Avoort ,  Johannes Van Wingerden ,  Kim Phan Le ,  Martijn Goosens ,  Peter Gerard Steeneken

发明人： Geert Langereis ,  Twan Van Lippen ,  Freddy Roozeboom ,  Hilco Suy ,  Klaus Reimann ,  Jozef Thomas Martinus Van Beek ,  Casper Van Der Avoort ,  Johannes Van Wingerden ,  Kim Phan Le ,  Martijn Goosens ,  Peter Gerard Steeneken

IPC分类号： H01L29/84 ,  H01L21/02

CPC分类号： H04R19/005 ,  B81B3/0072 ,  B81B2201/0257 ,  B81B2203/0127 ,  H04R7/18 ,  H04R19/04 ,  H04R31/006

摘要： A microphone comprises a substrate (20), a microphone membrane (10) defining an acoustic input surface and a backplate (11) supported with respect to the membrane with a fixed spacing between the backplate (11) and the membrane (10). A microphone periphery area comprises parallel corrugations (24) in the membrane (10) and backplate (11). By using the same corrugated suspension for both the membrane and the backplate, the sensitivity to body noise is optimally suppressed.

摘要翻译： 麦克风包括基板（20），限定声输入表面的麦克风膜（10）和相对于膜支撑的背板（11），所述背板（11）在背板（11）和膜（10）之间具有固定的间隔。 麦克风外围区域包括膜（10）和背板（11）中的平行波纹（24）。 通过对膜和背板使用相同的波纹悬挂，对身体噪声的敏感性被最佳地抑制。

公开(公告)号：US08143971B2

公开(公告)日：2012-03-27

申请号：US12501272

申请日：2009-07-10

申请人： Jozef Thomas Beek ,  Johannes van Wingerden ,  Wim van den Einden ,  Kim Phan Le ,  Gerhard Koops ,  Cas van der Avoort

发明人： Jozef Thomas Beek ,  Johannes van Wingerden ,  Wim van den Einden ,  Kim Phan Le ,  Gerhard Koops ,  Cas van der Avoort

IPC分类号： H03H9/02 ,  H01L21/00

CPC分类号： H01P7/00

摘要： A MEMS resonator, comprising a planar resonator body formed of two different materials with opposite sign temperature coefficient of Young's modulus. A first portion of one material extends across the full thickness of the resonator body. This provides a design which allows reduced temperature drift.

摘要翻译： 一种MEMS谐振器，包括由具有相反符号温度系数杨氏模量的两种不同材料形成的平面谐振器本体。 一种材料的第一部分延伸穿过谐振器本体的整个厚度。 这提供了允许降低温度漂移的设计。

公开(公告)号：US20110175178A1

公开(公告)日：2011-07-21

申请号：US12953092

申请日：2010-11-23

申请人： Johannes van WINGERDEN ,  Wim van den EINDEN ,  Harold H. ROOSEN ,  Greja Johanna Adriana Maria VERHEIJDEN ,  Gerhard KOOPS ,  Didem ERNUR ,  Jozef Thomas Martinus van BEEK

发明人： Johannes van WINGERDEN ,  Wim van den EINDEN ,  Harold H. ROOSEN ,  Greja Johanna Adriana Maria VERHEIJDEN ,  Gerhard KOOPS ,  Didem ERNUR ,  Jozef Thomas Martinus van BEEK

IPC分类号： H01L29/84 ,  H01L21/20

CPC分类号： B81C1/00476 ,  B81B2201/0271 ,  B81C2203/0136 ,  B81C2203/0145 ,  H03H3/0072

摘要： A method of packaging a micro electro-mechanical structure comprises forming said structure on a substrate; depositing a sacrificial layer over said structure; patterning the sacrificial layer; depositing a SIPOS (semi-insulating polycrystalline silicon) layer over the patterned sacrificial layer; treating the SIPOS layer with an etchant to convert the SIPOS layer into a porous SIPOS layer, removing the patterned sacrificial layer through the porous layer SIPOS to form a cavity including said structure; and sealing the porous SIPOS layer. A device including such a packaged micro electro-mechanical structure is also disclosed.

摘要翻译： 包装微电子机械结构的方法包括在基底上形成所述结构; 在所述结构上沉积牺牲层; 图案化牺牲层; 在图案化的牺牲层上沉积SIPOS（半绝缘多晶硅）层; 用蚀刻剂处理SIPOS层以将SIPOS层转换成多孔SIPOS层，通过多孔层SIPOS去除图案化的牺牲层以形成包括所述结构的空腔; 并密封多孔SIPOS层。 还公开了一种包括这种封装的微机电结构的装置。

公开(公告)号：US20060206851A1

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：US10540068

申请日：2003-12-18

申请人： Johannes Van Wingerden ,  Casparus Anthonius Juffermans ,  Peter Dirksen

发明人： Johannes Van Wingerden ,  Casparus Anthonius Juffermans ,  Peter Dirksen

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F7/705 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70641

摘要： For determining best process variables (E, F, W) setting that provide optimum process window for a lithographic process for printing features having critical dimensions (CD) use is made of an overall performance characterizing parameter (Cpk) and of an analytical model, which describes CD data as a function of process parameters, like exposure dose (E) and focus (F). This allows calculating of the average value (μCD) and the variance (σCD) of the statistical CD distribution (CDd) and to determine the highest Cpk value and the associated values of process parameters, which values provide the optimum process window.

摘要翻译： 为了确定为光刻工艺提供最佳工艺窗口的最佳工艺变量（E，F，W）设置，用于打印具有关键尺寸（CD）的特征，使用总体性能特性参数（C＆gt; pk＆lt; ）和分析模型，其描述作为过程参数的函数的CD数据，如曝光剂量（E）和焦点（F）。 这允许计算统计CD分布（CDd）的平均值（muCD）和方差（sigmaCD），并确定最高的C max值和过程参数的相关值，这些值提供 最佳过程窗口。

公开(公告)号：US20110186941A1

公开(公告)日：2011-08-04

申请号：US12916454

申请日：2010-10-29

申请人： Johannes van WINGERDEN ,  Greja Johanna Adriana Maria VERHEIJDEN ,  Gerhard KOOPS ,  Jozef Thomas Martinus van BEEK

发明人： Johannes van WINGERDEN ,  Greja Johanna Adriana Maria VERHEIJDEN ,  Gerhard KOOPS ,  Jozef Thomas Martinus van BEEK

IPC分类号： H01L29/66 ,  H01L21/02

CPC分类号： B81C1/00293 ,  B81C2203/0136 ,  B81C2203/0145

摘要： Disclosed is a device comprising a substrate carrying a microscopic structure in a cavity capped by a capping layer including a material of formula SiNxHy, wherein x>1.33 and y>0. A method of forming such a device is also disclosed.

摘要翻译： 公开了一种装置，其包括在由包含式SiN x H y的材料的覆盖层封盖的空腔中承载微观结构的基板，其中x> 1.33且y> 0。 还公开了一种形成这种装置的方法。

公开(公告)号：US07659041B2

公开(公告)日：2010-02-09

申请号：US11367810

申请日：2006-03-01

申请人： Peter Dirksen ,  Casparus Anthonius Henricus Juffermans ,  Johannes Van Wingerden

发明人： Peter Dirksen ,  Casparus Anthonius Henricus Juffermans ,  Johannes Van Wingerden

IPC分类号： G03F1/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： H01L21/32139 ,  G03F1/26 ,  G03F1/36 ,  G03F7/0035

摘要： For lithographically manufacturing a device with a very high density, a design mask pattern (120) is distributed on a number of sub-patterns (120a, 120b, 120c) by means of a new method. The sub-patterns do not comprise “forbidden” structures (135) and can be transferred by conventional apparatus to a substrate layer to be patterned. For the transfer, a new stack of layers is used, which comprise a pair of a processing layer (22; 26) and an inorganic anti-reflection layer (24; 28) for each sub-pattern. After a first processing layer (26) has been patterned with a first sub-pattern, it is coated with a new resist layer (30) which is exposed with a second sub-pattern, and a second processing layer (22) under the first processing layer is processed with the second sub-pattern.

摘要翻译： 为了光刻制造具有非常高密度的器件，通过新的方法将设计掩模图案（120）分布在多个子图案（120a，120b，120c）上。 子图案不包括“禁止”结构（135）并且可以通过常规设备传送到待图案化的基底层。 为了传送，使用新的层叠层，其包括用于每个子图案的一对处理层（22; 26）和无机抗反射层（24; 28）。 在第一处理层（26）已经被图案化为第一子图案之后，其被涂覆有用第二子图案曝光的新抗蚀剂层（30）和在第一子图案下方的第二处理层（22） 用第二子图案处理处理层。