具有多层接线结构的半导体晶片

    公开(公告)号:CN101447463B

    公开(公告)日:2011-06-22

    申请号:CN200810181940.X

    申请日:2008-11-28

    CPC classification number: H01L23/585 H01L2924/0002 H01L2924/00

    Abstract: 本发明公开一种具有多层接线结构的半导体晶片。晶片包括:位于晶片上且排置成一阵列的多个裸片区以及位于裸片区之间的多个切割道区。具有未掺杂硅玻璃(undoped silica glass,USG)顶层接线层位于超低介电常数(extremely-low dielectric constant,ELK)接线层上方的的半导体晶片的切割道具有至少一金属层结构大体覆盖由二切割道交界而成的角落区,以抑制晶片切割操作期间USG/ELK界面发生剥离。本发明能够解决现有技术中存在剥离缺陷问题,提高了IC装置的可靠度。

    内连线结构以及形成内连线结构的方法

    公开(公告)号:CN101110386B

    公开(公告)日:2011-06-08

    申请号:CN200710109623.2

    申请日:2007-06-07

    Abstract: 本发明提供一种高可靠度的集成电路内连线结构,以及形成此内连线结构的方法。此方法包括提供衬底;形成介电层于所述衬底之上,其中所述介电层的材料为具有缩小与弯曲能力的材料;执行第一缩小工艺,其中该第一缩小工艺使该介电层的孔隙不完全形成并使所述介电层缩小且具有第一缩小率;于执行第一缩小工艺之后,形成导电结构于所述介电层中;以及于形成导电结构之后,执行第二缩小工艺,其中所述介电层实质上缩小形成一弯曲部分且具有第二缩小率。本发明的优点包括当形成扩散阻障层时,具有较低的孔隙度而改善扩散阻障层,以及较长的电迁移路径而减少了电迁移。

    具有空气间隙的半导体元件的制造方法

    公开(公告)号:CN101399222B

    公开(公告)日:2010-09-15

    申请号:CN200810085229.4

    申请日:2008-03-10

    CPC classification number: H01L21/7682 H01L21/76831

    Abstract: 本发明提供一种具有空气间隙的半导体元件的制造方法,该方法包括以下步骤,提供一牺牲层于一介电层上,且于其中形成多个开口,牺牲层是一毯覆层,且其氧化成一可通过一蚀刻组成来蚀刻的材料,介电材料和后续形成的内连接层则对此蚀刻组成具有蚀刻阻挡的特性。在沉积内连接层后,提供一包括部分介电材料、转换材料的垂直部分和部分的内连接层的平坦化表面。以上述蚀刻组成将转换材料移除,形成多个孔洞,于上述的结构上形成一盖层,产生空气间隙。另外,可于内连接结构和牺牲材料间形成一侧壁保护层,在本发明的实施例中,可于介电材料上形成一抗反射层,且抗反射层形成部分的平坦表面。

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