半导体装置的制造方法
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103035582A

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN201210356985.2

    申请日:2012-09-21

    Abstract: 本发明提供能够提高生产效率和半导体装置的制造设计的自由度的半导体装置的制造方法。本发明为具备半导体芯片的半导体装置的制造方法,其包括:准备在第1主面形成有导通构件的半导体芯片的工序;准备在透射放射线的支撑体上依次层叠有放射线固化型粘合剂层和第1热固化型树脂层的支撑结构的工序;以所述第1热固化型树脂层和所述半导体芯片的第1主面对置的方式在所述第1热固化型树脂层上配置多个半导体芯片的工序,以覆盖所述多个半导体芯片的方式在所述第1热固化型树脂层上层叠第2热固化型树脂层的工序;以及从所述支撑体侧照射放射线而使所述放射线固化型粘合剂层固化,由此在所述放射线固化型粘合剂层和所述第1热固化型树脂层之间进行剥离的工序。

    密封剂片
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112334562A

    公开(公告)日:2021-02-05

    申请号:CN201980043245.3

    申请日:2019-06-26

    Inventor: 盛田浩介

    Abstract: 提供一种密封剂片,其成形为片形状。上述密封剂片包含以下成分:一分子中具有2个以上环氧基的含环氧基的多硫化物聚合物(AB)、一分子中具有2个以上硫醇基的硫醇化合物(C)及光产碱剂(D);或者,包含以下成分:一分子中具有2个以上硫醇基的含硫醇基的多硫化物聚合物(AC)、一分子中具有2个以上环氧基的环氧化合物(B)及光产碱剂(D)。

    密封剂片
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111417696A

    公开(公告)日:2020-07-14

    申请号:CN201880077128.4

    申请日:2018-11-29

    Abstract: 提供被成形为片状的形状的密封剂片。上述密封剂片含有含环氧基的多硫化物。上述含环氧基的多硫化物在分子内具有二硫化物结构和环氧基。

    半导体装置的制造方法
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103137501A

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN201210488287.8

    申请日:2012-11-26

    CPC classification number: H01L21/78 H01L21/563 H01L2924/0002 H01L2924/00

    Abstract: 本发明提供抑制半导体元件安装时的空隙且能够制造可靠性高的半导体装置的半导体装置的制造方法。本发明为一种半导体装置的制造方法,其是具备被粘体、与该被粘体电连接的半导体元件以及填充该被粘体与该半导体元件之间的空间的底填剂材料的半导体装置的制造方法,该方法包括:准备工序,准备密封片,所述密封片具备基材和层叠在该基材上的底填剂材料;贴合工序,在半导体晶片的形成有连接部件的面上贴合上述密封片;切割工序,切割上述半导体晶片而形成带有上述底填剂材料的半导体元件;保持工序,将上述带有底填剂材料的半导体元件在100~200℃下保持1秒以上;以及连接工序,用底填剂材料填充上述被粘体与上述半导体元件之间的空间并同时借助上述连接部件将上述半导体元件和上述被粘体电连接。

    密封方法
    20.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114867813B

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202080090230.5

    申请日:2020-12-24

    Inventor: 盛田浩介

    Abstract: 提供使用光固化性密封剂片的密封方法。提供的密封方法依次包括:准备光固化性密封剂片的工序;对上述密封剂片实施光照射处理的工序;和将上述密封剂片贴附于密封对象物的工序。

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