一种基于SOI-MEMS的温控隔振平台及系统

    公开(公告)号:CN107697880A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201710857319.X

    申请日:2017-09-21

    发明人: 刘炎

    IPC分类号: B81B7/00 B81B7/02

    CPC分类号: B81B7/0083 B81B7/02

    摘要: 本发明属于MEMS器件核心结构设计领域,并具体公开了一种基于SOI-MEMS的温控隔振平台,其从下至上依次设置有锚定结构层、隔振悬臂结构层、温控平台层和MEMS振荡器连接层,隔振悬臂结构层与温控平台层之间、温控平台层和MEMS振荡器连接层之间设置有绝缘层;温控平台层包括加热单元、温度传感单元、焊盘及互连导线,MEMS振荡器连接层包括MEMS振荡器结合焊盘、焊盘以及两者之间的输出互连导线。本发明适用于MEMS振荡器等器件的温度控制与隔振,具有整体体积小、频率输出稳定、功耗低、结构简单、适用性强等优点,特别适合小型化、高稳定频率基准的应用领域。

    一种中心支撑准悬浮式MEMS芯片封装结构的制作方法

    公开(公告)号:CN107512698A

    公开(公告)日:2017-12-26

    申请号:CN201710702647.2

    申请日:2017-08-16

    发明人: 凤瑞

    IPC分类号: B81B7/02 B81C1/00

    摘要: 本发明公开了中心支撑准悬浮式MEMS芯片封装结构的制作方法,采用高温氧化的方法在芯片硅结构表面上形成一层二氧化硅保护层,然后对芯片底部的二氧化硅保护层进行图形化,形成刻蚀掩膜。采用各向异性刻蚀工艺在MEMS芯片的衬底上刻蚀出一个面积较大的中心支撑结构和若干个面积较小的辅助支撑结构,然后将MEMS芯片粘胶或键合固定到陶瓷管壳腔体内进行金属引线键合,将含MEMS芯片的陶瓷管壳整体放入刻蚀腔体内,再采用各向同性刻蚀气体进行刻蚀,将辅助支撑结构完全刻蚀去除,保留一部分的中心支撑结构不被刻蚀去除。通过在硅衬底上加工出中心支撑结构,将MEMS芯片支撑近似悬浮于封装管壳内,大幅减小MEMS芯片上的封装应力,实现MEMS芯片的低应力封装。该方法具有封装工艺简单、不显著增加封装成本,易于实现的优点。

    微机电系统麦克风
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107484093A

    公开(公告)日:2017-12-15

    申请号:CN201710893397.5

    申请日:2017-09-26

    发明人: 汤小贾 陈小康

    IPC分类号: H04R19/04 H04R19/00 B81B7/02

    摘要: 本发明公开一种微机电系统麦克风,该微机电系统麦克风包括:上层板,上层板设有进音孔,进音孔的内侧壁设有第一金属层,第一金属层延伸至上层板的上表面;中层板,中层板具有贯穿其上、下表面的容纳空间,容纳空间的内侧壁设有第二金属层,上层板的下表面贴合中层板的上表面,并封堵容纳空间,第一金属层连通第二金属层;以及下层板,下层板贴合中层板的下表面,并封堵容纳空间,下层板设有接地电路,第二金属层连通接地电路。本发明技术方案的微机电系统麦克风能够将外界的静电放电由第一金属层导通至接地电路,而释放,从而减小外界静电干扰对该微机电系统麦克风造成的损坏,起到保护产品的作用,同时起到对射频抗干扰的能力。

    倒置装配可应力释放的MEMS芯片封装结构制作方法

    公开(公告)号:CN107416760A

    公开(公告)日:2017-12-01

    申请号:CN201710702619.0

    申请日:2017-08-16

    发明人: 凤瑞

    IPC分类号: B81B7/02 B81C3/00 G01D5/24

    摘要: 本发明公开了一种倒置装配可应力释放的MEMS芯片封装结构制作方法,在晶圆片A的硅衬底上加工出导电通孔,然后对晶圆片A进行氧化形成二氧化硅保护层;去除硅电极层表面的二氧化硅保护层,在硅电极层上加工出锚点结构和敏感结构腔体;在敏感结构腔体内加工出电极结构;采用键合工艺将另一片晶圆片B的硅电极层键合到晶圆片A的硅电极层上;去除晶圆片B的硅衬底和二氧化硅隔离层;在晶圆片B的硅电极层上加工出敏感结构;将硅帽键合到晶圆片B的硅电极层上;采用深槽刻蚀工艺在晶圆片A的硅衬底上加工出应力释放槽;芯片倒置,将硅帽表面粘胶或键合固定到陶瓷管壳腔体底面,使导电通孔通过键合金属引线与陶瓷管壳引脚之间电连接,最后采用可伐合金盖板密封陶瓷管壳。该方法封装工艺简单、不显著增加封装成本的优势,易于实现。