β-Ga2O3系单晶衬底的制造方法

    公开(公告)号:CN109898135B

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN201910106987.8

    申请日:2015-07-01

    IPC分类号: C30B29/16 C30B15/34

    摘要: 一种β-Ga2O3系单晶衬底的制造方法,包含以下工序:在包含惰性气体、以及与所述惰性气体的流量比为0~2%的氧的环境中,通过EFG法培养线状凹坑的密度的平均值为1000个/cm2以下的β-Ga2O3系单晶的工序;以及从所述β-Ga2O3系单晶截出β-Ga2O3系单晶衬底的工序,在培养所述β-Ga2O3系单晶的工序中,根据所述β-Ga2O3系单晶中的有效载流子浓度将所述流量比在0~2%的范围内设定为规定的值。

    β-Ga2O3系单晶衬底
    47.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106471164A

    公开(公告)日:2017-03-01

    申请号:CN201580032689.9

    申请日:2015-06-29

    IPC分类号: C30B29/16

    摘要: 提供一种晶体构造偏差小的高品质的β-Ga2O3系单晶衬底。在一个实施方式中,提供一种由β-Ga2O3系单晶构成的β-Ga2O3系单晶衬底通过所述主面的中心的所述主面上的任意直线上的Δω的最大值为0.7264以下。在如下情形时,Δω是从测定位置的各位置的ωs减去ωa后而得到的值的最大值与最小值之差,该情形为:将所述直线上的、X射线摇摆曲线的峰值位置的X射线的入射方向与所述主面所成的角度设为所述ωs,将采用最小二乘法对表示所述ωs与其所述测定位置之间的关系的曲线进行线性近似所求出的近似直线上的角度设为所述ωa。(1),主面是平行于β-Ga2O3系单晶的b轴的面,

    β-Ga2O3系单晶的培养方法、以及β-Ga2O3系单晶基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN105189836A

    公开(公告)日:2015-12-23

    申请号:CN201480025539.0

    申请日:2014-05-02

    IPC分类号: C30B29/16 C30B15/34

    CPC分类号: C30B15/34 C30B15/36 C30B29/16

    摘要: 提供一种能得到宽度大的β-Ga2O3系晶种的β-Ga2O3系单晶的培养方法、以及利用该培养方法的β-Ga2O3系单晶基板及其制造方法,该β-Ga2O3系晶种用于在抑制向宽度方向扩肩的情况下培养平板状β-Ga2O3系单晶。在一实施方式中提供包含如下工序的β-Ga2O3系单晶的培养方法,其使用了EFG法,使坩埚(13)内的Ga2O3系熔体(12)通过模具(14)的狭缝(14a)上升到模具(14)的开口部(14b)为止,在晶种(20)的水平方向的位置从模具(14)的宽度方向(W)的中心向宽度方向(W)偏移的状态下,使晶种(20)与位于模具(14)的开口部(14b)的Ga2O3系熔体(12)接触;以及提拉与Ga2O3系熔体(12)接触了的晶种(20),使β-Ga2O3系单晶(25)生长。