厚膜电路形成图形的方法

    公开(公告)号:CN100350820C

    公开(公告)日:2007-11-21

    申请号:CN01811865.8

    申请日:2001-06-26

    IPC分类号: H05K3/04 G03F7/34

    摘要: 一种使用光敏聚合物层形成厚膜电功能图形的方法。将有粘性的光敏层施加到基材表面上。采用光化辐射对光敏层进行图形成像,光敏层的曝光区域硬化且变得无粘性。然后施加厚膜组合物,片材将使得厚膜粘合于残留的粘合性区域。剥离掉片材,就会产生厚膜印刷图形。这个步骤以后是由使用的厚膜组合物决定的处理过程,形成有电功能特性的图形。本发明也涉及从用过的片材上回收厚膜组合物的方法。

    厚膜电路形成图形的方法

    公开(公告)号:CN1439236A

    公开(公告)日:2003-08-27

    申请号:CN01811865.8

    申请日:2001-06-26

    IPC分类号: H05K3/04 G03F7/34

    摘要: 一种使用光敏聚合物层形成厚膜电功能图形的方法。将有粘性的光敏层施加到基材表面上。采用光化辐射对光敏层进行图形成像,光敏层的曝光区域硬化且变得无粘性。然后施加厚膜组合物,片材将使得厚膜粘合于残留的粘合性区域。剥离掉片材,就会产生厚膜印刷图形。这个步骤以后是由使用的厚膜组合物决定的处理过程,形成有电功能特性的图形。本发明也涉及从用过的片材上回收厚膜组合物的方法。