電子裝置
    4.
    发明专利
    電子裝置 审中-公开
    电子设备

    公开(公告)号:TW201712845A

    公开(公告)日:2017-04-01

    申请号:TW105112492

    申请日:2016-04-21

    IPC分类号: H01L25/04 H01L25/18

    摘要: 本發明之電子裝置具有第1配線基板及搭載於第1配線基板上之半導體裝置。半導體裝置具備:第2配線基板,其具有複數個端子;複數個第1半導體晶片,其等搭載於第2配線基板上;及第2半導體晶片,其搭載於第2配線基板上。又,第1配線基板具有對第2半導體晶片供給種類不同之複數種電源電位之第1電源線及第2電源線。又,於俯視時,第2電源線係以跨越第2配線基板之第1基板邊及第2半導體晶片之第1晶片邊之方式配置。又,於俯視時,第1電源線係以通過第2電源線與複數個第1半導體晶片中之一部分之間並朝向與第2半導體晶片重合之區域延伸之方式配置。又,第1電源線中與第2電源線於厚度方向上重合之區域之面積小於第1電源線中不與第2電源線重合之區域之面積。

    简体摘要: 本发明之电子设备具有第1配线基板及搭载于第1配线基板上之半导体设备。半导体设备具备:第2配线基板,其具有复数个端子;复数个第1半导体芯片,其等搭载于第2配线基板上;及第2半导体芯片,其搭载于第2配线基板上。又,第1配线基板具有对第2半导体芯片供给种类不同之复数种电源电位之第1电源线及第2电源线。又,于俯视时,第2电源线系以跨越第2配线基板之第1基板边及第2半导体芯片之第1芯片边之方式配置。又,于俯视时,第1电源线系以通过第2电源线与复数个第1半导体芯片中之一部分之间并朝向与第2半导体芯片重合之区域延伸之方式配置。又,第1电源线中与第2电源线于厚度方向上重合之区域之面积小于第1电源线中不与第2电源线重合之区域之面积。

    半導體裝置
    9.
    发明专利
    半導體裝置 审中-公开
    半导体设备

    公开(公告)号:TW201709446A

    公开(公告)日:2017-03-01

    申请号:TW105117267

    申请日:2016-06-01

    IPC分类号: H01L23/48 H01L23/52

    摘要: 本發明之一實施形態之半導體裝置具有經由中介板而互相電性連接之第1半導體零件及第2半導體零件。上述中介板具有:複數個第1信號配線路徑;及複數個第2信號配線路徑,其等之路徑距離短於上述複數個第1信號配線路徑之各者。又,上述第1半導體零件具備第1電極、第2電極、及第3電極,其等沿著第1方向依序排列。又,上述第2半導體零件包含第4電極、第5電極、及第6電極,其等沿著上述第1方向依序排列。又,上述第1電極經由上述第1信號配線路徑而與上述第4電極連接,上述第2電極經由上述第1信號配線路徑而與上述第5電極連接,上述第3電極經由上述第1信號配線路徑而與上述第6電極連接。

    简体摘要: 本发明之一实施形态之半导体设备具有经由中介板而互相电性连接之第1半导体零件及第2半导体零件。上述中介板具有:复数个第1信号配线路径;及复数个第2信号配线路径,其等之路径距离短于上述复数个第1信号配线路径之各者。又,上述第1半导体零件具备第1电极、第2电极、及第3电极,其等沿着第1方向依序排列。又,上述第2半导体零件包含第4电极、第5电极、及第6电极,其等沿着上述第1方向依序排列。又,上述第1电极经由上述第1信号配线路径而与上述第4电极连接,上述第2电极经由上述第1信号配线路径而与上述第5电极连接,上述第3电极经由上述第1信号配线路径而与上述第6电极连接。

    半導體裝置之製造方法
    10.
    发明专利
    半導體裝置之製造方法 审中-公开
    半导体设备之制造方法

    公开(公告)号:TW201428863A

    公开(公告)日:2014-07-16

    申请号:TW102140690

    申请日:2013-11-08

    IPC分类号: H01L21/56

    摘要: 本發明提供一種半導體裝置之製造方法,其係包含以下步驟A至步驟D;步驟A:準備第3層合體,該第3層合體係將第1層合體、第2層合體及熱硬化性樹脂片予以層合而成者,該第1層合體係於第1台座上設置有第1接著劑層者,該第2層合體係於第2台座上設置有第2接著劑層者,該熱硬化性樹脂片係設置於第1層合體之第1接著劑層側之面與第2層合體之第2之接著劑層側之面之間且埋入有複數半導體晶片者;步驟B:使前述第3層合體之熱硬化性樹脂片熱硬化;步驟C:使熱硬化性樹脂片熱硬化後,以熱硬化性樹脂片與第1層合體之第1接著劑層之貼合面為界面,剝離第1層合體;步驟D:於剝離第1層合體後之熱硬化性樹脂片上形成配線。

    简体摘要: 本发明提供一种半导体设备之制造方法,其系包含以下步骤A至步骤D;步骤A:准备第3层合体,该第3层合体系将第1层合体、第2层合体及热硬化性树脂片予以层合而成者,该第1层合体系于第1台座上设置有第1接着剂层者,该第2层合体系于第2台座上设置有第2接着剂层者,该热硬化性树脂片系设置于第1层合体之第1接着剂层侧之面与第2层合体之第2之接着剂层侧之面之间且埋入有复数半导体芯片者;步骤B:使前述第3层合体之热硬化性树脂片热硬化;步骤C:使热硬化性树脂片热硬化后,以热硬化性树脂片与第1层合体之第1接着剂层之贴合面为界面,剥离第1层合体;步骤D:于剥离第1层合体后之热硬化性树脂片上形成配线。