利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

138 条记录 (耗时 0.059 秒)

    Layout aware calculations
    92.
    发明申请
    Layout aware calculations 审中-公开
    布局感知计算

    公开(公告)号：US20050038767A1

    公开(公告)日：2005-02-17

    申请号：US10639291

    申请日：2003-08-11

    申请人： Henry Verschell ,  Raghuram Venkatasubramanian ,  Steve Cave ,  Martin Roth

    发明人： Henry Verschell ,  Raghuram Venkatasubramanian ,  Steve Cave ,  Martin Roth

    IPC分类号： G06F7/00 ,  G06F17/30

    CPC分类号： G06F16/244

    摘要： A method for analyzing data from a database using an analytic database function includes receiving a selection of measured items from a user, receiving a placement item from the user, and determining a partitioning of the selection of measured items from the placement item. A placement item can be a column, a row, or an axis. A template associated with the analytic database function is adapted to define at least one partitioning relative to the placement item. The template is further adapted to define an ordering parameter for the analytic database function and optionally an aggregation level for the analytic database function. A database query is created with the partitioning. The database query can be an SQL statement.

    摘要翻译： 用于使用分析数据库功能从数据库分析数据的方法包括从用户接收测量项目的选择，从用户接收放置项目，以及从放置项目确定测量项目的选择的分区。 展示位置项可以是列，行或轴。 与分析数据库功能相关联的模板适于定义相对于放置项的至少一个划分。 该模板还适用于为分析数据库功能定义一个排序参数，并且可选地定义分析数据库功能的聚合级别。 使用分区创建数据库查询。 数据库查询可以是SQL语句。

    Temperature switch, particularly adjustable temperature regulator
    94.
    发明授权
    Temperature switch, particularly adjustable temperature regulator 失效
    温度开关，特别是温度调节器

    公开(公告)号：US6064294A

    公开(公告)日：2000-05-16

    申请号：US325218

    申请日：1999-06-03

    申请人： Manfred Schwarze ,  Martin Roth

    发明人： Manfred Schwarze ,  Martin Roth

    IPC分类号： H01H37/22 ,  H01H3/32 ,  H01H13/20 ,  H01H36/00 ,  H01H37/38 ,  H01H37/40 ,  H01H37/42

    CPC分类号： H01H37/38 ,  H01H13/20 ,  H01H3/32 ,  Y10T29/49105

    摘要： A temperature regulator operating with a hydraulic expansion capsule or diastat (5) has a lever mechanism (30) for force transmission between the diastat and the switch spring (21) of a snap switch (20). For protecting the switch spring against overloading, into the lever mechanism is integrated a buffer or shock absorber, which is elastically flexible above a limit force associated with the operating force of the switch spring in the switching point and below the limit force is substantially rigid. The standard unit formed by the shock absorber and the lever mechanism is formed by a rocker (31) in the form of a sheet metal bent part, which has a L-shaped pivot lever portion (40), with which is constructed in one piece a stop-limited opening clip spring (41) pretensioned in the opening direction.

    摘要翻译： 使用液压膨胀胶囊或舒张器（5）操作的温度调节器具有杠杆机构（30），用于在卡扣开关（20）的平滑和开关弹簧（21）之间传递力。 为了保护开关弹簧防止过载，进入杠杆机构的缓冲器或减震器被集成起来，该缓冲器或减震器在与开关点中的开关弹簧的操作力相关联的极限力之下弹性地弯曲并且在极限力以下并且基本上是刚性的。 由减震器和杠杆机构形成的标准单元由具有L形枢转杆部分（40）的以金属板弯曲部分形式的摇臂（31）形成，其构造成一体 止动限制的开启夹弹簧（41），其以打开方向预张紧。

    Tetra (hydroxphenyl) alkanes
    95.
    发明授权
    Tetra (hydroxphenyl) alkanes 失效
    四（羟基苯基）烷烃

    公开(公告)号：US5554797A

    公开(公告)日：1996-09-10

    申请号：US399686

    申请日：1995-03-07

    申请人： Reinhard Schulz ,  Norbert M unzel ,  Martin Roth ,  Wilhelm Knobloch

    发明人： Reinhard Schulz ,  Norbert M unzel ,  Martin Roth ,  Wilhelm Knobloch

    IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C39/15 ,  C07C309/71 ,  C07C309/76 ,  C08K5/42 ,  C08L101/00 ,  G03F7/022 ,  H01L21/027 ,  H05K3/00 ,  C07C43/30 ,  C07C43/32

    CPC分类号： C07C309/76 ,  C07C39/15 ,  G03F7/0226

    摘要： Positive photoresist compositions comprising, in an organic solvent, at leasta) one alkali-soluble resin,b) one photosensitive quinone diazide,c) one aromatic hydroxy compound of formula I ##STR1## wherein each R is --H, C.sub.1 -C.sub.4 alkyl, C.sub.1 -C.sub.4 alkoxy,--OCH.sub.2 C.sub.6 H.sub.5, --OC.sub.6 H.sub.5 or --COOC.sub.1 -C.sub.4 alkyl, and R.sub.1 and R.sub.2 are each independently of the other H, C.sub.1 -C.sub.4 alkyl,--C.sub.6 H.sub.5 or a cycloaliphatic 5- or 6-membered ring, a is an integer from 0 to 4, and m and n are each independently of the other 0, 1 or 2, which compound enhances the photosensitivity and/or the rate of development, and optionallyd) additional customary modifiers,are eminently suitable for making relief structures.

    摘要翻译： 正性光致抗蚀剂组合物，其在有机溶剂中包含至少一种碱溶性树脂，b）一种光敏醌二叠氮化物，c）一种式I的芳族羟基化合物，其中每个R是-H，C1 C 1-4烷基，C 1 -C 4烷氧基，-OCH 2 C 6 H 5，-OC 6 H 5或-COOC 1 -C 4烷基，R 1和R 2各自独立地为H，C 1 -C 4烷基，-C 6 H 5或脂环族五元或六元环，a为 0至4的整数，m和n各自独立地为0,1或2，该化合物增强了光敏性和/或显影速率，并且任选地d）另外的常规改性剂特别适用于制备浮雕结构 。

    Oligomeric cyanoguanidines
    96.
    发明授权
    Oligomeric cyanoguanidines 失效
    低聚氰胍

    公开(公告)号：US5352831A

    公开(公告)日：1994-10-04

    申请号：US914158

    申请日：1992-07-14

    申请人： Peter Flury ,  Martin Roth ,  Sameer H. Eldin

    发明人： Peter Flury ,  Martin Roth ,  Sameer H. Eldin

    IPC分类号： C07C279/28 ,  C08G18/02 ,  C08G59/40

    CPC分类号： C07C279/28 ,  C08G18/025 ,  C08G59/4021

    摘要： Oligomeric cyanoguanidines of formula I ##STR1## wherein, for example, R.sup.1 and R.sup.2 are each phenyl, R is 1,4-phenylene and n is an integer from 1 to 20, are suitable latent hardeners for epoxy resins. They are readily soluble in solvents suitable for the application of epoxy resins, and the cured products obtained therewith have a high glass transition temperature.

    摘要翻译： 式I的低聚氰基胍其中例如R1和R2各自为苯基，R为1,4-亚苯基，n为1至20的整数，为环氧树脂的合适的潜在硬化剂。 它们易溶于适用于环氧树脂的溶剂中，由此获得的固化产物具有较高的玻璃化转变温度。

    Process for the production of relief structures using a negative photoresist based on polyphenols and epoxy compounds or vinyl ethers
    98.
    发明授权
    Process for the production of relief structures using a negative photoresist based on polyphenols and epoxy compounds or vinyl ethers 失效
    使用基于多酚和环氧化合物或乙烯基醚的负性光致抗蚀剂生产浮雕结构的方法

    公开(公告)号：US5300380A

    公开(公告)日：1994-04-05

    申请号：US947899

    申请日：1992-09-17

    申请人： Martin Roth ,  Kurt Meier

    发明人： Martin Roth ,  Kurt Meier

    IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40

    CPC分类号： G03F7/0388

    摘要： The present invention relates to a negative photoresist consisting essentially of a process for the production of relief structures usinga) at least one solid film-forming polyphenol,b) at least one compound which contains at least two epoxide groups or at least two vinyl ether groups or at least one epoxide and vinyl ether group in the molecule,c) at least one cationic photoinitiator for component b) andd) if appropriate customary additives.The resist can be developed under aqueous-alkaline conditions.

    摘要翻译： 本发明涉及一种负光致抗蚀剂，其基本上由生产浮雕结构的方法组成，该方法使用a）至少一种固体成膜多酚，b）至少一种含有至少两个环氧基或至少两个乙烯基醚的化合物 基团或至少一个环氧化物和乙烯基醚基团，c）至少一种用于组分b）的阳离子光引发剂和d）如果合适的常规添加剂。 抗蚀剂可以在水 - 碱性条件下显影。

    Negative photoresist based on polyphenols and epoxy compounds or vinyl ethers
    99.
    发明授权
    Negative photoresist based on polyphenols and epoxy compounds or vinyl ethers 失效
    基于聚苯酚和环氧化合物或乙烯基的负离子光催化剂

    公开(公告)号：US5079129A

    公开(公告)日：1992-01-07

    申请号：US445134

    申请日：1989-11-30

    申请人： Martin Roth ,  Kurt Meier

    发明人： Martin Roth ,  Kurt Meier

    IPC分类号： C08L61/06 ,  A61K38/00 ,  C08L61/04 ,  G03F7/023 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  H04N5/232

    CPC分类号： G03F7/0388 ,  H04N5/23203 ,  A61K38/00 ,  Y10S430/106

    摘要： The present invention relates to a negative photoresist consisting essentially ofa) at least one solid film-forming polyphenol,b) at least one compound which contains at least two epoxide groups or at least two vinyl ether groups or at least one epoxide and vinyl ether group in the molecule,c) at least one cationic photoinitiator for component b) andd) if appropriate customary additives.The resist can be developed under aqueous-alkaline conditions.

    摘要翻译： 本发明涉及基本上由a）至少一种固体成膜多酚组成的负性光致抗蚀剂，b）至少一种含有至少两个环氧基团或至少两个乙烯基醚基团的化合物或至少一种环氧化物和乙烯基醚 c）至少一种用于组分b）的阳离子光引发剂和d）如果合适的常规添加剂。 抗蚀剂可以在水 - 碱性条件下显影。