公开(公告)号：US4486232A

公开(公告)日：1984-12-04

申请号：US523857

申请日：1983-08-17

申请人： Mitsuo Nakatani ,  Haruhiko Matsuyama ,  Masaaki Okunaka ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai ,  Tadashi Saitoh ,  Sumiyuki Midorikawa

发明人： Mitsuo Nakatani ,  Haruhiko Matsuyama ,  Masaaki Okunaka ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai ,  Tadashi Saitoh ,  Sumiyuki Midorikawa

IPC分类号： H01L31/04 ,  H01L21/28 ,  H01L21/283 ,  H01L21/288 ,  H01L29/43 ,  H01L31/0224 ,  H01B1/02

CPC分类号： H01L31/022408 ,  H01L31/022425 ,  Y02E10/50

摘要： An electrode material for semi-conductor device such as solar cells comprises Ag powders, at least one metal of zirconium, hafnium, vanadium, niobium, and tantalum, an organic binder, and an organic solvent, and, if necessary, glass, Pd powders and Pt powders.The electrodes are prepared from the electrode material by printing, drying and firing at a low temperature and have a low contact resistance without any junction breakage or increase in leak current.

摘要翻译： 用于半导体器件如太阳能电池的电极材料包括Ag粉末，至少一种锆，铪，钒，铌和钽金属，有机粘合剂和有机溶剂，并且如果需要，玻璃，Pd粉末 和Pt粉末。 电极由电极材料通过在低温下进行印刷，干燥和烧制而制备，并且具有低接触电阻而没有任何断裂或漏电流增加。

公开(公告)号：US4643913A

公开(公告)日：1987-02-17

申请号：US687162

申请日：1984-12-28

申请人： Masaaki Okunaka ,  Mitsuo Nakatani ,  Haruhiko Matsuyama ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai ,  Tadashi Saitoh ,  Kunihiro Matsukuma ,  Sumiyuki Midorikawa ,  Satoru Suzuki

发明人： Masaaki Okunaka ,  Mitsuo Nakatani ,  Haruhiko Matsuyama ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai ,  Tadashi Saitoh ,  Kunihiro Matsukuma ,  Sumiyuki Midorikawa ,  Satoru Suzuki

IPC分类号： H01L31/04 ,  C07F7/00 ,  H01L21/283 ,  H01L21/288 ,  H01L31/0216 ,  H01L31/0224 ,  H01L31/18

CPC分类号： C07F7/006 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/022425 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： A process for producing solar cells which comprises applying a composition for anti-reflection coating formation on one side of a silicon base plate having a p-n junction therein, printing an Ag paste for contact formation on predetermined areas of the coat, and heat-treating the resulting plate at a temperature of 400.degree. to 900.degree. C. to complete anti-reflection coating and a light-receiving side contact, the process being characterized in that the composition for anti-reflection coating formation contains as essential component, (a) at least one member selected from the metal-organic ligand complex compounds represented by the general formula M(OR.sub.1).sub.n (L).sub.a-n wherein M is a metal selected from Zn, Al, Ga, In, Ti, Zr, Sn, V, Nb, Ta, Mo, and W; R.sub.1 is a C.sub.1 -C.sub.18 alkyl group; L is an organic ligand which forms an non-hydrolyzable bond with the metal ion; a is the valency of the metal M; and n is an integer satisfying 1.ltoreq.n

摘要翻译： 一种太阳能电池的制造方法，其特征在于，在具有pn结的硅基板的一面上涂布抗反射涂层用组合物，在所述涂层的规定区域印刷用于接触形成的Ag浆料，并对所述涂料进行热处理 得到的板在400-900℃的温度下完成防反射涂层和光接收侧接触，其特征在于用于防反射涂层形成的组合物包含作为必要组分的（a）在 选自由通式M（OR1）n（L）a表示的金属 - 有机配体络合物中的至少一种成分其中M是选自Zn，Al，Ga，In，Ti，Zr，Sn，V，Nb ，Ta，Mo和W; R1是C1-C18烷基; L是与金属离子形成不可水解键的有机配体; a为金属M的化合价; n为1，n为1的整数，通式（OR 1）n-1M（L）anOM（OR 1）n-1（L）a表示的水解缩合物，（b） 化合物，和（c）溶剂。

公开(公告)号：US4369208A

公开(公告)日：1983-01-18

申请号：US215334

申请日：1980-12-11

申请人： Masaaki Okunaka ,  Ryoichi Sudo ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai ,  Mitsuo Yamazaki

发明人： Masaaki Okunaka ,  Ryoichi Sudo ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai ,  Mitsuo Yamazaki

IPC分类号： H01B13/00 ,  C03C17/27 ,  C23C18/12 ,  C23C18/14 ,  H05K1/09 ,  H05K3/02 ,  B05D3/06

CPC分类号： C23C18/14 ,  C03C17/27 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1245 ,  C03C2217/211 ,  C03C2217/215 ,  C03C2217/24 ,  C03C2218/11 ,  C03C2218/322 ,  H05K1/092 ,  H05K3/02

摘要： A transparent electroconductive film of lower resistance with a smaller content of remaining organic components and less pinholes than those of the conventional transparent electroconductive film is produced by applying a coating solution selected from (a) a coating solution comprising an inorganic indium compound free from a photosensitive group in the molecule or an inorganic tin compound free from a photosensitive group in the molecule, an organic ligand, and an organic solvent, (b) a coating solution comprising an organic indium compound free from a photosensitive group in the molecule, or an organic tin compound free from a photosensitive group in the molecule, and an organic solvent, and (c) the coating solution (a) or (b) further containing a dopant to the surface of a substrate, thereby forming a film thereon, and then irradiating the substrate with radiation capable of exciting organic groups, for example, ultraviolet rays in a state where the substrate is kept at a high temperature (100.degree.-600.degree. C.), and then baking the substrate at a high temperature.

摘要翻译： 通过涂布选自（a）包含无光感光体的无机铟化合物的涂布溶液的涂布溶液，制备具有较低电阻的透明导电膜，其具有较少的剩余有机组分含量和较少的针孔， 或分子中不含光敏基团的无机锡化合物，有机配体和有机溶剂，（b）包含在分子中不含感光性基团的有机铟化合物的涂布溶液或有机溶剂 分子内不含光敏基团的锡化合物和有机溶剂，和（c）在基材表面还含有掺杂剂的涂布液（a）或（b），从而在其上形成膜，然后照射 具有能够激发有机基团的辐射的基板，例如在基板保持高温的状态下的紫外线 （100°-600℃），然后在高温下烘烤该基材。

公开(公告)号：US4303554A

公开(公告)日：1981-12-01

申请号：US161028

申请日：1980-06-19

申请人： Ryoichi Sudo ,  Masaaki Okunaka ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai ,  Mitsuo Yamazaki

发明人： Ryoichi Sudo ,  Masaaki Okunaka ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai ,  Mitsuo Yamazaki

IPC分类号： H05B33/00 ,  C01G15/00 ,  C03C17/25 ,  C03C17/27 ,  C04B28/28 ,  C04B41/46 ,  C04B41/50 ,  C04B41/82 ,  C04B41/85 ,  C04B41/87 ,  C09D5/24 ,  C09D11/00 ,  C23C18/12 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1343 ,  H01B1/06

CPC分类号： C04B41/5007 ,  C03C17/27 ,  C04B28/28 ,  C04B41/009 ,  C04B41/46 ,  C04B41/82 ,  C04B41/85 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/1279 ,  C03C2217/215 ,  C03C2217/231 ,  C03C2218/11 ,  C03C2218/322

摘要： Transparent electroconductive film having no cracks and whitening is obtained by coating on a substrate a composition comprising an inorganic indium salt, a polybasic carboxylic acid or polybasic carboxylic acid anhydride and a solvent, and calcining the coated composition at a temperature of 300.degree. to 700.degree. C. under an atmosphere containing oxygen. When a tin compound is added to the composition, sheet resistance of the transparent electroconductive film can be adjusted favorably.

摘要翻译： 通过在基材上涂布含有无机铟盐，多元羧酸或多元羧酸酐和溶剂的组合物，得到无裂纹和增白的透明导电膜，并在300〜700℃的温度下煅烧涂布组合物 C.在含氧气氛下。 当向组合物中加入锡化合物时，可以有利地调节透明导电膜的薄层电阻。

公开(公告)号：US4495218A

公开(公告)日：1985-01-22

申请号：US534686

申请日：1983-09-22

申请人： Kazufumi Azuma ,  Mitsuo Nakatani ,  Kazuo Nate ,  Masaaki Okunaka ,  Hitoshi Yokono

发明人： Kazufumi Azuma ,  Mitsuo Nakatani ,  Kazuo Nate ,  Masaaki Okunaka ,  Hitoshi Yokono

IPC分类号： C23C16/48 ,  C23C16/24 ,  C23C16/34 ,  C23C16/40 ,  H01L21/205 ,  H01L21/268 ,  H01L21/31 ,  H01L21/314 ,  H01L21/316 ,  H01L21/318 ,  H01L31/04 ,  C23C17/00

CPC分类号： H01L21/02164 ,  C23C16/24 ,  C23C16/345 ,  C23C16/402 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02277 ,  H01L21/02381 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02425 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/268 ,  H01L21/2686 ,  H01L21/31612 ,  H01L21/3185 ,  Y10S148/093

摘要： A thin film of a-Si, SiO.sub.2 or Si.sub.3 N.sub.4 can be formed on a substrate using a starting material gas containing at least a polysilane of the formula Si.sub.n H.sub.2n+2 (n=2, 3 or 4) by a chemical vapor deposition method with irradiation with light with high film forming rate at lower temperatures.

摘要翻译： 可以通过化学气相沉积法使用至少含有式SinH2n + 2（n = 2,3或4）的聚硅烷的原料气体在基板上形成a-Si，SiO 2或Si 3 N 4的薄膜 具有在较低温度下具有高成膜速率的光。

公开(公告)号：US4347304A

公开(公告)日：1982-08-31

申请号：US277049

申请日：1981-06-24

申请人： Hideki Sakurai ,  Mitsuo Nakatani ,  Hitoshi Oka ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai

发明人： Hideki Sakurai ,  Mitsuo Nakatani ,  Hitoshi Oka ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai

IPC分类号： G03C5/58 ,  G03F7/004 ,  H05K3/18 ,  G03C5/00

CPC分类号： H05K3/185 ,  G03C5/58 ,  G03F7/0043 ,  Y10S430/143

摘要： Metallic images of uniform quality can be formed on substrates having through-holes by a process using a positive type resist characterized by using as a coating solution for the substrate a solution of a photosensitive material of (a) at least one organic compound having at least one linkage of --M--M--M ).sub.n (M=Si, Ge or Sn; n=0, 1 or more) in the molecule or (b) a mixture of at least one organic compound (a) mentioned above and at least one photosensitizer, dissolved in a solvent such as a halogenated hydrocarbon, an aromatic hydrocarbon, a heterocyclic compound, or a mixture thereof, followed by irradiation with an actinic light through a photomask and electroless plating.

摘要翻译： 可以通过使用正型抗蚀剂的方法在具有通孔的基板上形成具有均匀质量的金属图像，其特征在于使用作为基底的涂布溶液的（a）至少一种有机化合物的感光材料的溶液，所述有机化合物至少具有 分子中nMM（M = Si，Ge或Sn; n = 0,1或更多）的一个连接，或（b）上述至少一种有机化合物（a）和至少一种光敏剂的混合物， 溶解在溶剂如卤代烃，芳族烃，杂环化合物或其混合物中，然后通过光掩模和化学镀被光化的光照射。

公开(公告)号：US4420500A

公开(公告)日：1983-12-13

申请号：US344973

申请日：1982-02-02

申请人： Mitsuo Nakatani ,  Mitsuo Yamazaki ,  Masaaki Okunaka ,  Ryoichi Sudo ,  Kenji Tochigi ,  Hitoshi Yokono

发明人： Mitsuo Nakatani ,  Mitsuo Yamazaki ,  Masaaki Okunaka ,  Ryoichi Sudo ,  Kenji Tochigi ,  Hitoshi Yokono

IPC分类号： B01J19/12 ,  C03C17/25 ,  C07F5/00 ,  C07F7/22 ,  G02F1/1343 ,  H01B13/00 ,  H01L31/18 ,  B05D3/02 ,  B05D3/06 ,  H01B1/06

CPC分类号： G02F1/13439 ,  C03C17/253 ,  C07F5/003 ,  C07F7/2204 ,  H01L31/1884 ,  C03C2217/231 ,  C03C2218/11 ,  Y02E10/50

摘要： A transparent conducting film is prepared from a composition comprising an indium compound, a tin compound, and a solvent as essential components, the tin compound being a compound represented by the following general formula:(R).sub.a Sn(NO.sub.3).sub.b (X).sub.4-a-b (1)wherein R is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, X is a hydroxyl group, a halogen atom, or a carboxyl group, and a and b are integers of 1.about.3, and a+b.ltoreq.4 by coating a substrate with the said composition, subjecting the coated substrate to ultraviolet irradiation at a substrate temperature of 200.degree. C. or higher, and heating the substrate at 400.degree. C. or higher. The composition has a long pot life and the film has a low resistance and distinguished mechanical strength, chemical resistance and etching susceptibility.

摘要翻译： 由含有铟化合物，锡化合物和溶剂作为必要成分的组合物制备透明导电膜，该锡化合物是由以下通式表示的化合物：（R）aSn（NO 3）b（X）4 -ab（1）其中R是具有1至4个碳原子的烷基，X是羟基，卤素原子或羧基，a和b是1的整数3和a + b < = 4，通过用所述组合物涂布基材，在200℃或更高的基板温度下对涂覆的基材进行紫外线照射，并在400℃或更高温度下加热基材。 该组合物具有长的适用期，该膜具有低电阻和显着的机械强度，耐化学性和蚀刻敏感性。

公开(公告)号：US4513132A

公开(公告)日：1985-04-23

申请号：US480789

申请日：1983-03-31

申请人： Fusaji Shoji ,  Issei Takemoto ,  Fumio Kataoka ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai

发明人： Fusaji Shoji ,  Issei Takemoto ,  Fumio Kataoka ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai

IPC分类号： C08G77/00 ,  C08G77/42 ,  C08G77/44 ,  C08G77/52 ,  C08G77/06

CPC分类号： C08G77/52 ,  C08G77/44

摘要： Heat-resistant silicone block polymer with a good flexibility obtained by reaction of an organosilsesquioxane with a silicone compound or organosiloxane in the presence of a basic catalyst in an organic solvent.

摘要翻译： 通过有机倍半硅氧烷与有机硅化合物或有机硅氧烷在碱性催化剂存在下在有机溶剂中反应而获得的具有良好柔软性的耐热硅氧烷嵌段聚合物。

公开(公告)号：US4324629A

公开(公告)日：1982-04-13

申请号：US160201

申请日：1980-06-17

申请人： Hitoshi Oka ,  Hiroshi Kikuchi ,  Hitoshi Yokono ,  Haruo Suzuki ,  Toyofusa Yoshimura ,  Akira Matsuo ,  Osamu Miyazawa ,  Isamu Tanaka ,  Tokio Isogai

发明人： Hitoshi Oka ,  Hiroshi Kikuchi ,  Hitoshi Yokono ,  Haruo Suzuki ,  Toyofusa Yoshimura ,  Akira Matsuo ,  Osamu Miyazawa ,  Isamu Tanaka ,  Tokio Isogai

IPC分类号： C23C18/16 ,  C23C18/31 ,  C23G1/36 ,  C25D21/16 ,  B01D13/02

CPC分类号： B01D61/44 ,  C23C18/1617 ,  B01D2311/04 ,  Y10S204/13

摘要： During recyclic use of a chemical copper plating solution, counter anions to copper ions, anions formed by oxidation of a reducing agent, and carbon dioxide by absorption of carbon dioxide from air, which all have an inhibiting effect upon the plating, and also sodium ions having no inhibiting effect are accumulated in the plating solution.These accumulated ions can be removed by electrodialysis. Particularly, regeneration can be satisfactorily regenerated by adjusting the pH of used chemical plating solution to 2-11 before the electrodialysis, and using a selectively monovalent anion permeable membrane as an anion exchange membrane at the electrodialysis.

摘要翻译： 在循环使用化学镀铜溶液时，与铜离子相反的阴离子，通过还原剂的氧化形成的阴离子，以及二氧化碳从空气中吸收二氧化碳，这些都对电镀具有抑制作用，还有钠离子 在电镀溶液中没有积累抑制作用。 这些积聚的离子可以通过电渗析去除。 特别地，通过在电渗析之前将所使用的化学镀溶液的pH调节至2-11，并且在电渗析中使用选择性的单价阴离子可渗透膜作为阴离子交换膜，可以令人满意地再生。

公开(公告)号：US4565767A

公开(公告)日：1986-01-21

申请号：US603451

申请日：1984-04-24

申请人： Fumio Kataoka ,  Fusaji Shoji ,  Isao Obara ,  Issei Takemoto ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai ,  Mitsumasa Kojima

发明人： Fumio Kataoka ,  Fusaji Shoji ,  Isao Obara ,  Issei Takemoto ,  Hitoshi Yokono ,  Tokio Isogai ,  Mitsumasa Kojima

IPC分类号： C08F290/00 ,  C08F299/00 ,  C08G73/00 ,  C08G73/02 ,  C08G73/10 ,  C08L79/08 ,  G03F7/012 ,  G03F7/038 ,  G03F7/26 ,  H01L21/312 ,  H01L21/47 ,  G03C1/71

CPC分类号： C08L79/08 ,  G03F7/0125 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/128

摘要： A light-sensitive polymer composition comprising a poly(amic acid), a special bisazide compound and an amine compound can give a film which has high sensitivity and in which portions exposed to light are not easily released by a developing solution at the time of development.

摘要翻译： 包含聚（酰胺酸），特殊双叠氮化合物和胺化合物的光敏聚合物组合物可以产生具有高灵敏度的膜，并且其中暴露于光的部分在显影时不容易被显影溶液释放 。