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    Lithographic apparatus and stage apparatus
    3.
    发明授权
    Lithographic apparatus and stage apparatus 失效
    平版印刷设备和舞台设备

    公开(公告)号：US07667822B2

    公开(公告)日：2010-02-23

    申请号：US11353249

    申请日：2006-02-14

    申请人： Fransicus Mathijs Jacobs ,  Erik Roelof Loopstra ,  Harmen Klaas Van der Schoot ,  Arjan Franklin Bakker ,  Arjan Martin Van der Wel ,  Krijn Frederik Bustraan ,  Marcel Koenraad Marie Baggen

    发明人： Fransicus Mathijs Jacobs ,  Erik Roelof Loopstra ,  Harmen Klaas Van der Schoot ,  Arjan Franklin Bakker ,  Arjan Martin Van der Wel ,  Krijn Frederik Bustraan ,  Marcel Koenraad Marie Baggen

    IPC分类号： G03B27/62

    CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/707

    摘要： A lithographic apparatus includes a support constructed to support a patterning device. The patterning device is capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The support includes a force actuator device to exert a force onto the patterning device in a direction of movement of the support. The force actuator device includes a movable part which is pivotably about a pivot axis and thereby connected to the support. The movable part is in the direction of movement of the support substantially balanced with respect to the pivot axis. The force actuator device further includes an actuator to exert via the movable part the force onto the patterning device, to at least partly compensate for the information or a risk of slippage due to acceleration of the support in the direction of movement.

    摘要翻译： 光刻设备包括构造成支撑图案形成装置的支撑件。 图案形成装置能够在其横截面中赋予具有图案的辐射束以形成图案化的辐射束。 该支撑件包括一个力促动器装置，以在支撑件的移动方向上向图案形成装置施加力。 力致动器装置包括可枢转地围绕枢转轴线并由此连接到支撑件的可移动部件。 可移动部分在支撑件的运动方向上相对于枢转轴线基本平衡。 力致动器装置还包括致动器，其经由可移动部件施加力到图案形成装置上，以至少部分地补偿由于支撑件沿着移动方向的加速而导致的信息或滑动的风险。

    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    4.
    发明授权
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
    光刻设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US07884919B2

    公开(公告)日：2011-02-08

    申请号：US11350278

    申请日：2006-02-09

    申请人： Peter Hempenius ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Youssef Karel Maria De Vos

    发明人： Peter Hempenius ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Youssef Karel Maria De Vos

    IPC分类号： G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/707

    摘要： A device manufacturing method includes transferring a pattern from a patterning device onto a substrate. The method includes bringing the patterning device and the support together, and applying a substantially stationary force between the patterning device and the support to hold the patterning device. The patterning device is now excited by a substantially dynamic force to enable a micro slipping thereof. Then, the patterning device is aligned, and the pattern is transferred from the patterning device onto the substrate. The patterning device may be excited with an alternating acceleration. When the patterning device is excited, the patterning device is allowed to settle with respect to the support, thereby improving a friction therebetween to reduce a risk of slipping or local slipping of the patterning device.

    摘要翻译： 一种器件制造方法包括将图案从图案形成装置转移到衬底上。 该方法包括将图案形成装置和支撑件组合在一起，并且在图案形成装置和支撑件之间施加基本上静止的力以保持图案形成装置。 图案形成装置现在被基本上动态的力激发以使其能够滑动。 然后，图案形成装置对准，并且图案从图案形成装置转移到基板上。 图案形成装置可以用交替的加速度激发。 当图案形成装置被激发时，允许图案形成装置相对于支撑件沉降，从而改善它们之间的摩擦，以减少图案形成装置的滑动或局部滑动的风险。

    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    5.
    发明授权
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
    平版印刷设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US07733463B2

    公开(公告)日：2010-06-08

    申请号：US11418452

    申请日：2006-05-05

    申请人： Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Arjan Martin Van Der Wel

    发明人： Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Arjan Martin Van Der Wel

    IPC分类号： G03B27/62 ,  G03B27/64 ,  G03F1/00

    CPC分类号： G03F7/707

    摘要： A support constructed to support a patterning object, the patterning object being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, is disclosed, wherein the support comprises a plurality of structures having a plurality of local contact areas, respectively, on which the patterning object is disposed, in use, and a clamp configured to clamp the patterning object to the plurality of contact areas, wherein each structure is configured so that a local shear stiffness of each local contact area is substantially balanced with a local friction limit at each local contact area, respectively.

    摘要翻译： 公开了一种构造成支撑图案化物体的支撑件，所述图案形成物体能够将辐射束在其横截面中赋予图案以形成图案化的辐射束，其中所述支撑件包括多个具有多个局部 在使用中分别设置有图案形成对象的接触区域和被构造成将图案形成对象夹持到多个接触区域的夹具，其中每个结构被构造成使得每个局部接触区域的局部剪切刚度基本上 在每个局部接触区域分别与局部摩擦极限平衡。

    Lithographic apparatus and stage system
    10.
    发明授权
    Lithographic apparatus and stage system 有权
    平版印刷设备和舞台系统

    公开(公告)号：US09097990B2

    公开(公告)日：2015-08-04

    申请号：US13403706

    申请日：2012-02-23

    申请人： Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Stefan Geerte Kruijswijk ,  Jeroen Pieter Starreveld ,  Michael Johannes Vervoordeldonk ,  Mark Constant Johannes Baggen

    发明人： Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Stefan Geerte Kruijswijk ,  Jeroen Pieter Starreveld ,  Michael Johannes Vervoordeldonk ,  Mark Constant Johannes Baggen

    IPC分类号： G05B13/00 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/709

    摘要： A stage system includes an object table constructed to hold an object, a short stroke actuator element constructed to displace the object table over a first range of movement, and a long stroke actuator element constructed to displace the short stroke actuator element over a second range of movement which is larger than the first range of movement. The stage system further includes a pneumatic compensation device including: a sensor arranged to measure a quantity representative of a pneumatic disturbance force on the short stroke actuator element, an actuator arranged to provide a compensating force to at least partly compensate the pneumatic disturbance, and a controller. The sensor is connected to a controller input of the controller, the actuator is connected to a controller output of the controller, the controller being arranged to drive the actuator in response to a signal received from the sensor.

    摘要翻译： 舞台系统包括构造成保持物体的物体表，构造成在第一运动范围上移动物体台的短行程致动器元件，以及长行程致动器元件，构造成在短行程致动器元件的第二范围 大于第一运动范围的运动。 舞台系统还包括气动补偿装置，其包括：传感器，布置成测量代表短行程致动器元件上的气动扰动力的量;致动器，被布置成提供补偿力以至少部分地补偿气动扰动;以及 控制器。 传感器连接到控制器的控制器输入端，致动器连接到控制器的控制器输出端，该控制器被布置成响应于从传感器接收到的信号来驱动致动器。