積體電路結構及密封環結構
    6.
    发明专利
    積體電路結構及密封環結構 审中-公开
    集成电路结构及密封环结构

    公开(公告)号:TW201740513A

    公开(公告)日:2017-11-16

    申请号:TW105139147

    申请日:2016-11-28

    IPC分类号: H01L23/16

    摘要: 本揭露實施例提供一種具有密封環結構之積體電路結構。該密封環結構包含一低k介電層、一第一密封環及一第二密封環。該第一密封環與該第二密封環彼此間隔開。該第一密封環及該第二密封環中之每一者包括一金屬層。該金屬層嵌入於該低k介電層中,且該金屬層包含具有複數個開口之一主體圖案。該主體圖案對該第一密封環及該第二密封環之該金屬層之面積比率大於或等於50%且小於100%。

    简体摘要: 本揭露实施例提供一种具有密封环结构之集成电路结构。该密封环结构包含一低k介电层、一第一密封环及一第二密封环。该第一密封环与该第二密封环彼此间隔开。该第一密封环及该第二密封环中之每一者包括一金属层。该金属层嵌入于该低k介电层中,且该金属层包含具有复数个开口之一主体图案。该主体图案对该第一密封环及该第二密封环之该金属层之面积比率大于或等于50%且小于100%。