半導體結構及其製造方法
    5.
    发明专利
    半導體結構及其製造方法 审中-公开
    半导体结构及其制造方法

    公开(公告)号:TW201830596A

    公开(公告)日:2018-08-16

    申请号:TW106126445

    申请日:2017-08-04

    IPC分类号: H01L23/28

    摘要: 一種半導體結構包含:一第一晶粒;一第一模塑物,其囊封該第一晶粒;一第二晶粒,其放置於該第一模塑物上方且包含一第一表面、與該第一表面對置之一第二表面及介於該第一表面與該第二表面之間的一側壁;及一第二模塑物,其放置於該第一模塑物上方且環繞該第二晶粒,其中該第二晶粒之該第一表面面向該第一模塑物,且該第二晶粒至少部分地由該第二模塑物覆蓋。

    简体摘要: 一种半导体结构包含:一第一晶粒;一第一模塑物,其囊封该第一晶粒;一第二晶粒,其放置于该第一模塑物上方且包含一第一表面、与该第一表面对置之一第二表面及介于该第一表面与该第二表面之间的一侧壁;及一第二模塑物,其放置于该第一模塑物上方且环绕该第二晶粒,其中该第二晶粒之该第一表面面向该第一模塑物,且该第二晶粒至少部分地由该第二模塑物覆盖。