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    MICROLATTICE STRUCTURES INCLUDING FLAME RETARDANT MATERIALS AND COMPOSITIONS AND METHODS FOR FORMING THE SAME
    1.
    发明申请
    MICROLATTICE STRUCTURES INCLUDING FLAME RETARDANT MATERIALS AND COMPOSITIONS AND METHODS FOR FORMING THE SAME 审中-公开
    包含阻燃材料和组合物的微结构及其形成方法

    公开(公告)号：US20160046769A1

    公开(公告)日：2016-02-18

    申请号：US14826182

    申请日：2015-08-13

    申请人： HRL Laboratories, LLC

    发明人： Sophia S. Yang ,  Eric C. Clough ,  Thomas I. Boundy ,  Andrew P. Nowak ,  Zak C. Eckel ,  Alan J. Jacobsen

    IPC分类号： C08G75/00 ,  B05D3/00 ,  C09D181/00

    CPC分类号： C08G75/00 ,  C08K5/10 ,  C09D181/00 ,  C09K21/00

    摘要： A composition for forming a microlattice structure includes a photopolymerizable compound and a flame retardant material. A microlattice structure includes a plurality of struts interconnected at a plurality of nodes, the struts including: a copolymer including a reaction product of a photopolymerizable compound and a flame retardant material. A microlattice structure includes a plurality of struts interconnected at a plurality of nodes, the struts including: a polymer including a reaction product of a photopolymerizable compound; and a flame retardant material.

    摘要翻译： 用于形成微晶格结构的组合物包括光聚合化合物和阻燃材料。 微晶格结构包括在多个节点处互连的多个支柱，所述支柱包括：包含可光聚合化合物与阻燃材料的反应产物的共聚物。 微晶格结构包括在多个节点处互连的多个支柱，所述支柱包括：包含可光聚合化合物的反应产物的聚合物; 和阻燃材料。

    COMPOSITION FOR USE AS AN ASSAY REAGENT
    7.
    发明申请
    COMPOSITION FOR USE AS AN ASSAY REAGENT 审中-公开
    用作测定试剂的组合物

    公开(公告)号：US20160376464A1

    公开(公告)日：2016-12-29

    申请号：US15259768

    申请日：2016-09-08

    申请人： Siemens Healthcare Diagnostics Inc.

    发明人： Bhalchandra Lele ,  Pratap Singh ,  Raphael Bartz ,  Jason A. Kellogg

    IPC分类号： C09D133/26 ,  G01N33/533 ,  C09D139/06 ,  C08F120/60 ,  C08F126/10

    CPC分类号： C09D133/26 ,  C08F120/60 ,  C08F126/10 ,  C08F220/06 ,  C08F220/26 ,  C08F220/38 ,  C08F220/58 ,  C08F2800/20 ,  C09D139/06 ,  C09D177/06 ,  C09D179/04 ,  C09D181/00 ,  G01N33/533 ,  G01N33/582

    摘要： A composition for use as an assay reagent comprises a solid support comprising a member of a signal producing system and a coating of a synthetic copolymer. The synthetic copolymer comprises a first polymerized monomer comprising a pendant moiety comprising a reactive functionality or a derivative of a reactive functionality and a second polymerized monomer comprising a pendant moiety comprising at least 1 carbon atoms and at least 2 heteroatoms. In some embodiments the copolymer comprises a polyethylenic backbone comprising the pendant moiety comprising a reactive functionality or a derivative of a reactive functionality and the pendant moiety comprising at least 1 carbon atom and at least 2 heteroatoms.

    摘要翻译： 用作测定试剂的组合物包括固体支持物，其包括信号产生系统的成员和合成共聚物的涂层。 合成共聚物包含第一聚合单体，其包括包含反应性官能团或反应性官能团的衍生物的侧基部分和包含至少包含1个碳原子和至少2个杂原子的侧链部分的第二聚合单体。 在一些实施方案中，共聚物包含包含侧链部分的聚乙烯主链，其包含反应性官能团或反应性官能团的衍生物，并且所述侧链部分包含至少1个碳原子和至少2个杂原子。

    Anti-reflective coating containing sulfur atom
    8.
    发明授权
    Anti-reflective coating containing sulfur atom 有权
    含有硫原子的防反射涂层

    公开(公告)号：US07501229B2

    公开(公告)日：2009-03-10

    申请号：US10592805

    申请日：2005-03-15

    申请人： Yoshiomi Hiroi ,  Takahiro Kishioka ,  Keisuke Nakayama ,  Rikimaru Sakamoto

    发明人： Yoshiomi Hiroi ,  Takahiro Kishioka ,  Keisuke Nakayama ,  Rikimaru Sakamoto

    IPC分类号： G03F7/11 ,  C08L101/00 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G75/00 ,  C09D181/00 ,  C09D181/02 ,  H01L21/0276

    摘要： There is provided an anti-reflective coating forming composition comprising a solid content and a solvent, wherein a proportion of sulfur atom in the solid content is 5 to 25 mass %. The anti-reflective coating obtained from the composition has a high preventive effect for reflected light, causes no intermixing with photoresists, and can use in lithography process by use of a light having a short wavelength such as F2 excimer laser beam (wavelength 157 nm) or ArF excimer laser beam (wavelength 193 nm), etc.

    摘要翻译： 提供了包含固体含量和溶剂的抗反射涂层形成组合物，其中固体含量中硫原子的比例为5〜25质量％。 由组合物获得的抗反射涂层对反射光具有很高的防止效果，不会与光致抗蚀剂混合，并且可以在光刻工艺中使用具有短波长的光，例如F2准分子激光束（波长157nm） 或ArF准分子激光束（波长193nm）等