公开(公告)号：CN106971938A

公开(公告)日：2017-07-21

申请号：CN201610945544.4

申请日：2016-10-26

申请人： 东京应化工业株式会社

发明人： 加藤茂 ,  山谷谦一 ,  升芳明

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67115 ,  H01L21/02 ,  H01L2221/67

摘要： 本发明涉及一种基板加热装置及基板加热方法，缩短基板的加热所需要的工作时间。实施方式的基板加热装置包含：减压部，能够将涂布有用来形成聚酰亚胺的溶液的基板减压；第一加热部，能够以第一温度加热所述基板；以及第二加热部，能够以比所述第一温度更高的第二温度加热所述基板；且所述第二加热部与所述第一加热部分别独立地设置。

公开(公告)号：CN105027268B

公开(公告)日：2017-07-11

申请号：CN201480010842.3

申请日：2014-02-28

申请人： 芝浦机械电子株式会社

发明人： 宫崎邦浩 ,  林航之介 ,  大田垣崇 ,  长岛裕次

IPC分类号： H01L21/304 ,  F26B3/28 ,  F26B5/16

CPC分类号： F26B3/30 ,  F26B3/28 ,  F26B5/005 ,  F26B7/00 ,  F26B11/18 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67115

摘要： 实施方式涉及的基板处理装置(1)具备：支撑基板W的工作台(4)；向该工作台(4)上的基板W的表面供给挥发性溶剂的溶剂供给部(8)；对供给有挥发性溶剂的基板W照射光，并作为对基板W进行加热以使在供给有该挥发性溶剂的基板W的表面产生气层并使挥发性溶剂成为液体珠的加热部而发挥作用的照射部(10)。由此，能够抑制图案的倒塌并且进行良好的基板干燥。

公开(公告)号：CN106881526A

公开(公告)日：2017-06-23

申请号：CN201610848428.0

申请日：2016-09-23

申请人： 株式会社迪思科

发明人： 尾上若奈 ,  泽边大树 ,  野村洋志 ,  藤泽尚俊 ,  万波秀年 ,  田中康平

IPC分类号： B23K26/046 ,  B23K26/067 ,  B23K26/06 ,  H01L21/78

CPC分类号： B23K26/50 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0853 ,  B23K26/351 ,  B23K2103/56 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67346 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/68 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68714 ,  H01L21/78 ,  B23K26/046 ,  B23K26/06 ,  B23K26/067

摘要： 提供一种激光加工装置，其包含：第一卡盘工作台，其对被加工物进行保持；第一X轴进给构件，其在X轴方向上对第一卡盘工作台进行加工进给；第一Y轴进给构件，其在垂直于X轴方向的Y轴方向上进行加工进给；第一聚光器，其将激光光线聚光到第一卡盘工作台上所保持的被加工物；第二卡盘工作台，其对被加工物进行保持；第二X轴进给构件，其在X轴方向上对第二卡盘工作台进行加工进给；第二Y轴进给构件，其在垂直于X轴方向的Y轴方向上进行加工进给；第二聚光器，其将激光光线聚光到第二卡盘工作台上所保持的被加工物；激光振荡器，其振荡出激光光线；以及光学系统，其将激光振荡器振荡出的激光光线分支到第一聚光器和第二聚光器。

公开(公告)号：CN104603924B

公开(公告)日：2017-06-20

申请号：CN201380047150.1

申请日：2013-10-05

申请人： 皇家飞利浦有限公司

发明人： A.J.W.范里伊维努根 ,  G.Z.安格里斯 ,  J.B.波斯特

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/687

CPC分类号： H02N15/00 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/68 ,  H01L21/68792 ,  H02K7/09 ,  H02K41/031 ,  H02K2201/18

摘要： 本发明涉及一种旋转定位设备（100，100’，100’’），包括：生成跨圆形空气间隙（113）的磁场的圆形磁轨（110）；至少三个动子（120,121,122），每一个包括至少部分地部署有圆形空气间隙（113）的多个线圈（1201,202,1203）并且每一个可操作用于生成在正交于圆形磁轨的悬浮方向上的悬浮力和在沿圆形磁轨的驱动方向上的驱动力，所述动子布置在沿所述圆形磁轨的不同角度位置处；以及用于向所述动子提供电流以用于单独控制通过所述动子的悬浮力和/或驱动力的生成以便影响所述圆形磁轨的旋转移动和/或倾斜移动和/或平移移动的控制器（140）。

公开(公告)号：CN106825916A

公开(公告)日：2017-06-13

申请号：CN201611155297.4

申请日：2012-09-26

申请人： 应用材料公司

发明人： 斯蒂芬·莫法特

IPC分类号： B23K26/064 ,  G02B27/48

CPC分类号： G02B27/48 ,  B23K26/0622 ,  B23K26/0624 ,  B23K26/0626 ,  B23K26/0648 ,  F21V5/002 ,  F21V5/004 ,  F21V5/007 ,  G02B3/0056 ,  G02B5/021 ,  G02B5/0278 ,  G02B5/04 ,  G02B27/10 ,  H01L21/67115 ,  H01S3/0057

摘要： 这里所描述的实施方式提供用于以均匀的激光能量处理半导体基板的设备和方法。激光脉冲或光束被导引至空间均化器，该空间均化器可为多个透镜，这些透镜沿着平面布置，该平面垂直于激光能量的光学路径，一个实例是微透镜阵列。该空间上均匀的能量由空间均化器产生，该空间上均匀的能量接着被导引至折射介质，该折射介质具有多个厚度。所述多个厚度的每一个厚度与其他厚度相差至少激光能量的相干长度。

公开(公告)号：CN106796867A

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201580045879.4

申请日：2015-08-14

申请人： 应用材料公司

发明人： 刘树坤 ,  穆罕默德·图格鲁利·萨米尔 ,  常安忠

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/20

CPC分类号： C23C16/4412 ,  C23C16/44 ,  C23C16/458 ,  C23C16/48 ,  C30B25/08 ,  C30B29/06 ,  C30B29/08 ,  C30B29/406 ,  C30B29/42 ,  F27D1/025 ,  F27D2003/0086 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6719

摘要： 本文描述的实施方式关于圆顶组件。圆顶组件包括上圆顶与上周边凸缘，所述上圆顶包含凸形弧中央窗，所述上周边凸缘在所述中央窗的周缘处啮合所述中央窗。

公开(公告)号：CN106783536A

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201611072259.2

申请日：2016-11-29

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

发明人： 王景帅

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L29/786 ,  H01L21/336

CPC分类号： H01L21/02678 ,  B23K26/0626 ,  B23K26/0665 ,  B23K26/0673 ,  B23K26/128 ,  G02B19/0019 ,  G02B19/0047 ,  G02B27/14 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02592 ,  H01L21/02595 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/67115 ,  H01L27/1285 ,  H01L29/66757 ,  H01L29/66765 ,  H01S3/225 ,  H01L21/02675 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L29/66742 ,  H01L29/78672

摘要： 本申请提供了一种激光退火设备、多晶硅薄膜的制备方法以及薄膜晶体管的制备方法。该激光退火设备包括激光发生器、光路元件和退火室，激光发生器配置为发射激光束，激光束经光路元件被引导至退火室，光路元件包括分束镜，分束镜将激光束分解成第一光束和第二光束且使得第一光束的能量密度大于第二光束的能量密度，第一光束和第二光束被引导至退火室中以用于激光退火。采用该激光退火设备对非晶硅薄膜进行退火处理可以减少多晶硅薄膜表面的非均匀性，从而可以提高电子和空穴的迁移率，进而解决薄膜晶体管的漏电流较大、迁移率及阈值电压不均匀的问题。

公开(公告)号：CN106716649A

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201580050435.X

申请日：2015-09-01

申请人： 应用材料公司

发明人： 布莱恩·H·伯罗斯 ,  尼力什·巴古拉 ,  苏迈德·阿查亚 ,  巴扈巴利·乌帕德亚 ,  兰斯·A·斯卡德尔 ,  罗杰·N·安德森

IPC分类号： H01L31/18 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67 ,  C23C16/54 ,  C23C16/48 ,  C23C16/458 ,  C23C16/455

CPC分类号： H01L31/1876 ,  C23C16/4408 ,  C23C16/45519 ,  C23C16/45523 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/4587 ,  C23C16/481 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67326 ,  H01L21/6773 ,  H01L31/18 ,  Y02E10/50 ,  Y02P70/521

摘要： 在一些实施方式中，一种串联基板处理工具可以包括：具有多个槽的基板载体，这些槽被构造为当彼此平行的多个基板设置在槽中时保持这些基板；设置成直线布置的第一基板处理模块和第二基板处理模块，其中每个基板处理模块包括外壳和轨道，所述轨道支撑基板载体并且为基板载体提供路径，所述路径用于使所述基板载体直线移动穿过第一基板处理模块和第二基板处理模块；以及设置在第一基板处理模块与第二基板处理模块之间的第一气顶，其中第一气顶包括：第一处理气体导管，用于向第一基板处理模块提供第一处理气体；以及第二处理气体导管，用于向第二基板处理模块提供第二处理气体。

公开(公告)号：CN105493235B

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201480046358.6

申请日：2014-09-09

申请人： 优志旺电机株式会社

发明人： 羽生智行

IPC分类号： H01L21/027 ,  B08B7/00 ,  G02F1/13 ,  H01L21/304 ,  H05K3/00

CPC分类号： B08B7/0057 ,  G03F7/42 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6719

摘要： 本发明的目的在于提供一种光照射装置，能够以高处理效率均匀地处理被处理物。本发明的光照射装置具备：被处理物支撑台，配置被处理物；紫外线灯，对被处理物的被处理面照射真空紫外线；以及光透射窗构件，配置在被处理物与紫外线灯之间，使来自紫外线灯的真空紫外线透射，光照射装置的特征在于，被处理物的被处理面与光透射窗构件之间所形成的间隙的距离被设为1mm以下，设置有向该间隙沿着该被处理面朝向一个方向供给处理气体的气体供给机构，在上述被处理物支撑台上的向上述处理气体的供给方向延伸、且不放置被处理物的区域，配设有遮风构件。

公开(公告)号：CN106663583A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201580035054.4

申请日：2015-06-12

申请人： 艾克塞利斯科技公司

发明人： 阿曼·候塞诺维奇 ,  约瑟夫·费拉拉 ,  布瑞·泰瑞

IPC分类号： H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01J37/317 ,  H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67201 ,  H01J37/185 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3171 ,  H01L21/265 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67712

摘要： 本发明公开了一种离子注入系统，所述离子注入系统具有连接到第一和第二双负载锁定组件(136)的离子注入设备，第一和第二双负载锁定组件每一个都具有被共用壁(146)分离的各自的第一室(138)和第二室(140)。每一个第一室都具有构造成将工件加热至第一温度的预热设备。每一个第二室都具有构造成将工件冷却至第二温度的后冷却设备。热卡盘将工件保留在处理室中以用于离子注入，并且热卡盘被构造为将工件加热到第三温度。泵和通风口与第一室和第二室选择性地流体连通。控制器被构造为在大气环境中通过预热设备将工件加热到第一温度，通过热卡盘将工件加热到第二温度，通过离子注入设备将离子注入工件中，并通过预热设备、后冷却设备、泵、通风口和热卡盘的控制在大气环境与真空环境之间传输工件。