回路基板および半導体装置
    8.
    发明专利
    回路基板および半導体装置 审中-公开
    电路板和一种半导体器件

    公开(公告)号:JPWO2015019602A1

    公开(公告)日:2017-03-02

    申请号:JP2015530703

    申请日:2014-08-05

    Abstract: 高いTCT信頼性を有し、かつ回路設計において高い自由度を有する回路基板を提供する。セラミック基板と、セラミック基板の第1の面および第2の面の少なくとも一方の上に設けられ、0.7mm以上の厚さT(mm)と、85°以上95°以下の断面の内角の角度θと、表面に設けられた25mm2以上の半導体素子搭載部とを有する銅回路板と、セラミック基板と銅回路板とを接合する接合層と、を具備する。接合層は、銅回路板の外側にはみ出し、かつ銅回路板の側面に沿ってはい上がるように設けられ、0.1mm以上1.0mm以下のはみ出し量W1と、0.05T(mm)以上0.6T(mm)以下のはい上がり量W2とを有するはみ出し部を備える。

    Abstract translation: 它具有很高的可靠性TCT,并提供具有在电路设计中的高自由度的电路板。 设置在所述陶瓷基板的所述第一表面和第二表面中的至少一个,和0.7毫米或多个厚度T(mm),85角内角至95°的横截面超过°2θ位置的陶瓷基板 当包括具有25平方毫米或设置在表面上多个半导体元件安装部分,以及用于接合陶瓷基板和铜电路板,所述粘接层的铜电路板。 粘合层突出的铜电路板的外侧,并且设置成沿着所述铜电路板的侧表面攀爬,0.1毫米或1.0mm的或更小,0.05 T(毫米)或0.6 T的突出量W1(毫米 )包括突出部分和一个下面的爬行量W2。

    Silicon nitride substrate with improved positioning of, and a semiconductor device using the same

    公开(公告)号:JP5319463B2

    公开(公告)日:2013-10-16

    申请号:JP2009204107

    申请日:2009-09-03

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silicon nitride substrate allowing a semiconductor element to be easily aligned, high in strength, and improved in a positioning property; and to provide a semiconductor device using the silicon nitride substrate improved in the positioning property. SOLUTION: This silicon nitride substrate 1 includes a through-hole 3, and a recessed part 2 facing at least one side, and is improved in a positioning property. The through-hole and the recessed part are used for screwing. Thus, occurrence of displacement is prevented. Since the silicon nitride substrate is high in strength, substrate thickness can be reduced. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

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