公开(公告)号：US20160246394A1

公开(公告)日：2016-08-25

申请号：US15144850

申请日：2016-05-03

申请人： Hitachi Chemical Company, Ltd.

发明人： Hiroshi Yamazaki ,  Yoshimi Igarashi

IPC分类号： G06F3/041 ,  H05K1/09 ,  H05K1/02 ,  H05K1/03

CPC分类号： G06F3/041 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/027 ,  G03F7/09 ,  G03F7/092 ,  G03F7/095 ,  G03F7/0952 ,  G03F7/0955 ,  G03F7/2022 ,  G06F3/044 ,  G06F2203/04112 ,  H05K1/0274 ,  H05K1/0313 ,  H05K1/036 ,  H05K1/09 ,  H05K3/06 ,  H05K2201/0275 ,  Y10T428/24802

摘要： A conductive pattern formation method of the present invention includes a first exposure step of radiating active light in a patterned manner to a photosensitive layer including a photosensitive resin layer provided on a substrate and a conductive film provided on a surface of the photosensitive resin layer on a side opposite to the substrate; a second exposure step of radiating active light, in the presence of oxygen, to some or all of the portions of the photosensitive layer not exposed at least in the first exposure step; and a development step of developing the photosensitive layer to form a conductive pattern following the second exposure step.

摘要翻译： 本发明的导电图案形成方法包括：第一曝光步骤，以图案化方式将有源光照射到设置在基板上的感光性树脂层的感光层和设置在感光性树脂层的表面上的导电膜上 一侧与基板相对; 至少在第一曝光步骤中，在存在氧气的情况下将活性光辐射到感光层的部分或全部未暴露的第二曝光步骤; 以及在第二曝光步骤之后使感光层显影以形成导电图案的显影步骤。

公开(公告)号：US20160238929A1

公开(公告)日：2016-08-18

申请号：US15026411

申请日：2014-09-26

申请人： COVESTRO DEUTSCHLAND AG

发明人： Axel SCHMIDT ,  Susan Lu TIAN ,  Lily Liqi YANG ,  Shao Quiang TANG

IPC分类号： G03F7/035 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/16

CPC分类号： G03F7/035 ,  B82Y30/00 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  H01L51/0023 ,  H01L2251/308

摘要： The present invention relates to the substrates with UV-patternable hard-coating (UPHC) with, either on top or below the transparent conductive materials such as transparent conductive oxides (TCO), conductive polymers, carbon or metal based nanomaterials and nanocomposites, the process for its preparation and articles that comprise said substrates.

摘要翻译： 本发明涉及具有紫外线图案的硬涂层（UPHC）的基板，其上方或下方的透明导电材料如透明导电氧化物（TCO），导电聚合物，碳或金属基纳米材料和纳米复合材料，该方法 用于其制备和包含所述基底的制品。

公开(公告)号：US09412593B2

公开(公告)日：2016-08-09

申请号：US14662642

申请日：2015-03-19

申请人： JSR CORPORATION

发明人： Hayato Namai ,  Goji Wakamatsu

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L21/033 ,  C08L47/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02 ,  H01L21/311 ,  B05D3/02 ,  C08F12/32 ,  C08F12/34 ,  C09D125/16

CPC分类号： H01L21/0332 ,  B05D3/0254 ,  C08F12/32 ,  C08F12/34 ,  C08L47/00 ,  C09D125/16 ,  G03F7/09 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/31144

摘要： A composition for film formation includes a compound represented by formula (1), and a solvent. R1 represents a monovalent group including an aromatic ring. n is an integer of 3 to 6. At least one monovalent group represented by R1 further includes a group including an ethylenic double bond. a plurality of R1s are identical or different. A part or all of hydrogen atoms on the benzene ring in the formula (1) and on the aromatic ring are unsubstituted or substituted with a halogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

摘要翻译： 用于成膜的组合物包括由式（1）表示的化合物和溶剂。 R 1表示包含芳环的一价基团。 n为3〜6的整数。由R 1表示的至少一个一价基团还包括含有烯属双键的基团。 多个R1相同或不同。 式（1）中苯环上和芳香环上的一部分或全部氢原子是未取代的或被卤原子或具有1-10个碳原子的烷基取代。

公开(公告)号：US20160154308A1

公开(公告)日：2016-06-02

申请号：US14905527

申请日：2014-07-14

申请人： FLINT GROUP GERMANY GMBH

发明人： Peter FRONCZKIEWICZ ,  Armin BECKER

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  G03F7/36 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/202 ,  G03F7/09 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/32 ,  G03F7/36 ,  G03F7/40

摘要： Process of manufacturing flexagraphic printing firms using digital flexographic printing elements as starting material by imaging, main exposure in the presence of oxygen, development and finishing. The process comprises an additional embossing step in which the surface of the developed printing form is texturized thereby improving the print quality of the printing form.

摘要翻译： 使用数字柔版印刷元件作为起始材料制造柔版印刷公司的过程，通过成像，在氧气存在下主要曝光，开发和整理。 该方法包括额外的压花步骤，其中显影的印刷形式的表面被纹理化，从而提高印刷形式的打印质量。

公开(公告)号：US09310684B2

公开(公告)日：2016-04-12

申请号：US13973098

申请日：2013-08-22

申请人： Inpria Corporation

发明人： Stephen T. Meyers ,  Douglas A. Keszler ,  Kai Jiang ,  Jeremy Anderson ,  Andrew Grenville

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0042 ,  G03F7/0043 ,  G03F7/09 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

摘要： Organometallic solutions have been found to provide high resolution radiation based patterning using thin coatings. The patterning can involve irradiation of the coated surface with a selected pattern and developing the pattern with a developing agent to form the developed image. The patternable coatings may be susceptible to positive-tone patterning or negative-tone patterning based on the use of an organic developing agent or an aqueous acid or base developing agent. The radiation sensitive coatings can comprise a metal oxo/hydroxo network with organic ligands. A precursor solution can comprise an organic liquid and metal polynuclear oxo-hydroxo cations with organic ligands having metal carbon bonds and/or metal carboxylate bonds.

摘要翻译： 已经发现有机金属溶液使用薄涂层提供高分辨率的基于辐射的图案化。 图案化可以包括用选定图案照射涂覆表面，并用显影剂显影图案以形成显影图像。 基于使用有机显影剂或酸性或碱性显影剂水溶液，可图案化涂层可能对正色调图案化或负色调图案敏感。 辐射敏感性涂层可以包含具有有机配体的金属氧代/羟基网络。 前体溶液可以包含具有金属碳键和/或金属羧酸盐键的有机配体的有机液体和金属多核氧代 - 羟基阳离子。

公开(公告)号：US20160026081A1

公开(公告)日：2016-01-28

申请号：US14872373

申请日：2015-10-01

申请人： FUJIFILM Corporation

发明人： Atsushi MATSUURA ,  Hirokazu SAWADA ,  Akio UESUGI

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/32 ,  B41C1/10 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/09 ,  B41C1/10 ,  B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/04 ,  B41C2201/10 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/14 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  B41N1/083 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

摘要： A presensitized plate having a long press life and excellent resistance to scum and corrosive micro-stains and capable of on-press development is provided. The presensitized plate includes a photosensitive layer containing (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, and (D) a binder polymer; and a protective layer which are formed on a support in this order. The support is prepared from an aluminum alloy plate containing intermetallic compound particles with a circle equivalent diameter of 0.2 μm or more at a surface density of 35,000 pcs/mm2 or more and aluminum carbide particles with a maximum length of 1 μm or more in an amount of up to 30,000 pcs/g.

公开(公告)号：US09244351B2

公开(公告)日：2016-01-26

申请号：US14368858

申请日：2012-11-23

申请人： Sung-Jae Lee ,  Joon-Young Moon ,  Youn-Jin Cho ,  Young-Min Kim ,  Yong-Woon Yoon

发明人： Sung-Jae Lee ,  Joon-Young Moon ,  Youn-Jin Cho ,  Young-Min Kim ,  Yong-Woon Yoon

IPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  G03F7/075 ,  H01L21/033

CPC分类号： G03F7/094 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/09 ,  G03F7/091 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/0332

摘要： A composition for a hardmask including copolymer including repeating units represented by Chemical Formulae 1 and 2 and a solvent, a method of forming a pattern using the same, and a semiconductor integrated circuit device including a pattern formed using the method are provided.

摘要翻译： 提供包括由化学式1和2表示的重复单元的共聚物的硬掩模组合物和溶剂，使用其的形成图案的方法，以及包括使用该方法形成的图案的半导体集成电路器件。

公开(公告)号：US20160004155A1

公开(公告)日：2016-01-07

申请号：US14728620

申请日：2015-06-02

申请人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

发明人： Masaki OHASHI ,  Masahiro FUKUSHIMA ,  Kenichi OIKAWA ,  Koji HASEGAWA

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/32 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039 ,  G03F7/16

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F1/20 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/2059 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38

摘要： A photo acid generator represented (1a), wherein R01 and R02 each independently represent a linear monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a branched or cyclic monovalent hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms which may be substituted with or interposed by a heteroatom; R03 represents a linear divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms or a branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms which may be substituted with a heteroatom, or interposed by a heteroatom; and R01 and R02 may be mutually bonded to form a ring together with the sulfur atom in the formula. A photo acid generator can give a pattern excellent in resolution and LER and having a rectangular profile in the photolithography using a high energy beam like ArF excimer laser light, EUV, and electron beam as a light source.

摘要翻译： 代表（1a）的光酸反应器，其中R01和R02各自独立地表示碳原子数1〜20的直链一价烃基或碳原子数3〜20的支链或环状一价烃基，可以被 杂原子 R03表示碳原子数1〜30的直链状二价烃基或可以被杂原子取代或被杂原子置换的碳原子数3〜30的支链状或环状的二价烃基， R01和R02可以相互键合，与式中的硫原子一起形成环。 光致酸发生器可以使用高能束如ArF准分子激光，EUV和电子束作为光源，给出分辨率和LER优异的图案，并且在光刻中具有矩形轮廓。

公开(公告)号：US20150351249A1

公开(公告)日：2015-12-03

申请号：US14726602

申请日：2015-06-01

申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： Krishna BALANTRAPU ,  Brian D. AMOS ,  Stephen McCAMMON

IPC分类号： H05K3/00

CPC分类号： H05K3/0079 ,  G03F7/035 ,  G03F7/038 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2018 ,  H05K3/0076 ,  H05K3/0082 ,  H05K3/28 ,  H05K3/3452 ,  H05K2203/013 ,  H05K2203/0585

摘要： Substrates, such as printed circuit boards, are coated with an aqueous alkaline developable UV photosensitive material followed by applying an aqueous soluble UV transparent film to coat the UV photosensitive material. An aqueous alkaline soluble UV blocking composition is selectively applied to the surface of the UV blocking film to function as a mask. UV light is applied to portions of the UV photosensitive material not covered by the mask. The UV blocking composition, UV transparent film and selective sections of the UV photosensitive material are simultaneously removed with an aqueous alkaline developer solution to form an image on the substrate.

摘要翻译： 诸如印刷电路板的衬底涂覆有水性碱性可显影UV光敏材料，然后施加水溶性UV透明膜以涂覆UV感光材料。 选择性地将UV水溶性UV阻挡组合物施加到UV阻挡膜的表面上起到掩模的作用。 UV光被施加到未被掩模覆盖的UV感光材料的部分。 用碱性显影剂水溶液同时除去UV阻挡组合物，UV透明膜和UV光敏材料的选择性部分，以在基底上形成图像。

公开(公告)号：US09201301B2

公开(公告)日：2015-12-01

申请号：US14264599

申请日：2014-04-29

申请人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

发明人： Tsutomu Ogihara ,  Yusuke Biyajima ,  Motoaki Iwabuchi ,  Taku Morisawa

IPC分类号： G03F7/075 ,  G03F7/004 ,  C09D183/04 ,  C08L83/04 ,  C08G77/04 ,  B01D61/14 ,  G03F7/09 ,  G03F7/095 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/004 ,  B01D61/14 ,  B01D61/145 ,  C08G77/04 ,  C08L83/04 ,  C09D183/04 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/09 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/095 ,  G03F7/11

摘要： Provided by the present invention is a method for producing a resist composition, especially a silicon-containing resist underlayer film composition, with fewer film defects, the composition used in immersion exposure, double patterning, development by an organic solvent, and so forth. Specifically, provided is a method for producing a resist composition to be used for manufacturing a semiconductor device, wherein the resist composition is filtered using a filter which filters through 5 mg or less of an eluate per unit surface area (m2) in an extraction using an organic solvent.

摘要翻译： 本发明提供一种抗蚀剂组合物，特别是含硅抗蚀剂下层膜组合物的制备方法，其具有较少的膜缺陷，用于浸渍曝光的组合物，双重图案化，通过有机溶剂显影等。 具体地，提供了用于制造半导体器件的抗蚀剂组合物的方法，其中使用过滤器对抗蚀剂组合物进行过滤，所述过滤器在萃取中使用每单位表面积（m2）5毫克或更少的洗脱液过滤， 有机溶剂。