公开(公告)号：US07664827B2

公开(公告)日：2010-02-16

申请号：US10504188

申请日：2003-02-18

申请人： Atsushi Kamata ,  Shintaro Sakurai

发明人： Atsushi Kamata ,  Shintaro Sakurai

IPC分类号： G06F15/16

CPC分类号： G06F17/30917 ,  G06F17/30014 ,  G06F17/30241 ,  G06F17/30882

摘要： A server for distributing information provided by an information provider as an information element group consisting of one or more information elements connected, to a user terminal. The server includes means for creating a hierarchical structure between the information elements via an image, means for receiving an access to an image related to the first information element, means for searching a second information element constituting a hierarchical structure with the first information element via the image, and means for arranging the second information element on the image and distributing it to the user terminal.

摘要翻译： 一种用于将由信息提供者提供的信息作为由连接的一个或多个信息元素组成的信息元素组分发给用户终端的服务器。 服务器包括用于通过图像在信息元素之间创建层次结构的装置，用于接收对与第一信息元素相关的图像的访问的装置，用于通过第一信息元素搜索构成分层结构的第二信息元素的装置 图像和用于将第二信息元素布置在图像上并将其分发给用户终端的装置。

公开(公告)号：US20100033755A1

公开(公告)日：2010-02-11

申请号：US12458983

申请日：2009-07-29

申请人： Atsushi Kamata

发明人： Atsushi Kamata

IPC分类号： G06F3/12

CPC分类号： G03G15/36 ,  G03G15/50 ,  G06F3/1219 ,  G06F3/125 ,  G06F3/1284

摘要： An image forming apparatus and an image processing apparatus form N copies of image data that fit a single physical page of print medium. A data receiving section receives print data from an external apparatus. An image reducing section produces a first item of image data based on the print data by reducing a size of an image that corresponds to the print data by a factor of N, N being an integer greater than 1. An image data producing section produces a second item of image data containing N copies of the first item of image data, the N copies of image data fitting a single physical page of print medium. An image printing section prints the second item of image data on the single physical page of print medium.

摘要翻译： 图像形成装置和图像处理装置形成适合打印介质的单个物理页面的N个副本的图像数据。 数据接收部分从外部设备接收打印数据。 图像缩小部分基于打印数据通过将与打印数据相对应的图像的尺寸减小N倍，N大于1的整数来产生第一项图像数据。图像数据产生部分产生 包含第一项图像数据的N个副本的图像数据的第二项，图像数据的N个副本适合打印介质的单个物理页面。 图像打印部分在打印介质的单个物理页面上打印第二项图像数据。

公开(公告)号：US5559225A

公开(公告)日：1996-09-24

申请号：US209484

申请日：1994-03-14

申请人： Shigeto Negi ,  Motosuke Yamanaka ,  Kanemasa Katsu ,  Isao Sugiyama ,  Yuuki Komatu ,  Atsushi Kamata ,  Akihiko Tsuruoka ,  Yoshimasa Machida

发明人： Shigeto Negi ,  Motosuke Yamanaka ,  Kanemasa Katsu ,  Isao Sugiyama ,  Yuuki Komatu ,  Atsushi Kamata ,  Akihiko Tsuruoka ,  Yoshimasa Machida

IPC分类号： A61K31/545 ,  A61K31/546 ,  A61P31/04 ,  C07D20060101 ,  C07D501/00 ,  C07D501/04 ,  C07D501/06 ,  C07D501/18 ,  C07D501/26 ,  C07D501/28 ,  C07D501/34 ,  C07D501/36

CPC分类号： C07D501/00

摘要： A 7-acyl-3-substituted carbamoyloxy cephem compound represented by the following formula (1): ##STR1## wherein A means a --CH.dbd. or --N.dbd. group; R.sup.1 denotes a hydroxyl, lower alkoxyl or protected hydroxyl group; R.sup.2 and R.sup.3 are the same or different and individually represent a lower alkyl, hydroxyl-substituted lower alkyl, a carbamoyl-substituted lower alkyl group or cyano-substituted lower alkyl group, R.sup.2 is a hydrogen atom and R.sup.3 is a lower alkoxyl or alkyl group optionally substituted by one or more halogen atoms, or the group ##STR2## means a 4-6 membered heterocyclic group, which contains one nitrogen atom, or a morpholino group, said heterocyclic group or morpholino group being optionally substituted by one or more lower alkyl, hydroxyl and/or hydroxyl-substituted lower alkyl groups; and R.sup.4 denotes a carboxyl or protected carboxyl group; or a pharmaceutically acceptable salt thereof; and a process for the preparation thereof; as well as an antibacterial composition containing the above cephem compound.

摘要翻译： 由下式（1）表示的7-酰基-3-取代氨基甲酰氧基头孢烯化合物：其中A表示-CH =或-N =基团; R1表示羟基，低级烷氧基或被保护的羟基; R2和R3相同或不同，分别表示低级烷基，羟基取代的低级烷基，氨基甲酰取代的低级烷基或氰基取代的低级烷基，R2是氢原子，R3是低级烷氧基或烷基 任选地被一个或多个卤素原子取代，或者“IMAGE”是指含有一个氮原子或吗啉基的4-6元杂环基，所述杂环基或吗啉基任选被一个或多个低级烷基 ，羟基和/或羟基取代的低级烷基; R4表示羧基或被保护的羧基; 或其药学上可接受的盐; 及其制备方法; 以及含有上述头孢烯化合物的抗菌组合物。

公开(公告)号：US6037341A

公开(公告)日：2000-03-14

申请号：US765387

申请日：1996-12-18

申请人： Nobuaki Sato ,  Manabu Sasho ,  Atsushi Kamata ,  Takaaki Suzuki ,  Isao Sugiyama ,  Kanemasa Katsu ,  Takeshi Suzuki

发明人： Nobuaki Sato ,  Manabu Sasho ,  Atsushi Kamata ,  Takaaki Suzuki ,  Isao Sugiyama ,  Kanemasa Katsu ,  Takeshi Suzuki

IPC分类号： C07D477/00 ,  A61K31/397 ,  A61K31/40 ,  A61K31/445 ,  A61P31/04 ,  C07D477/20 ,  C07D7/18

CPC分类号： C07D477/20 ,  Y02P20/55

摘要： Compounds having potent antimicrobial effects over Gram-positive bacteria and Gram-negative bacteria, a high stability to .beta.-lactamases and DHP-I and a high safety for the human body and a process for producing the same. Carbapenem compounds represented by the following general formula (I) or salts thereof: ##STR1## wherein the ring A represents a 3- to 7-membered non-aromatic ring containing at least one nitrogen atom and optionally having a substituent other than R.sup.6 ; R.sup.1 represents hydrogen or methyl; R.sup.2 and R.sup.5 are the same or different and each represents hydrogen or a protecting group of the hydroxyl group; R.sup.3 represents hydrogen or a protecting group of the carboxyl group; R.sup.4 represents hydrogen, lower alkyl or a protecting group of the amino group; R.sup.6 represents: (1) hydrogen, (2) lower alkyl, optionally substituted by an optionally protected hydroxy, carbamoyl, formimidoyl, acetimidoyl or ##STR2## wherein R.sup.7 and R.sup.8 are the same or different and each represents hydrogen, lower alkyl, or a protecting group of the amino group), or (3) a protecting group of the amino group or a protecting group of the imino group; and m is 0 or 1. These compounds have antimicrobial effects and are useful as a drug.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP95 / 01233 Sec。 371日期：1996年12月18日 102（e）日期1996年12月18日PCT提交1995年6月29日PCT公布。 出版物WO96 / 01261 日期1996年1月18日具有对革兰氏阳性菌和革兰氏阴性菌具有强效抗菌作用的化合物，对β-内酰胺酶和DHP-1的高稳定性和对人体的高安全性及其制备方法。 由以下通式（I）表示的碳青霉烯化合物或其盐：其中环A表示含有至少一个氮原子且任选具有除R6以外的取代基的3-至7-元非芳族环; R1代表氢或甲基; R2和R5相同或不同，各自表示氢或羟基的保护基; R3表示氢或羧基的保护基; R4表示氢，低级烷基或氨基的保护基; R 6表示：（1）氢，（2）任选被任选保护的羟基，氨基甲酰基，亚氨基，亚氨代乙酰基取代的低级烷基，或其中R 7和R 8相同或不同，各自表示氢，低级烷基或保护基 氨基），或（3）氨基的保护基或亚氨基的保护基; 并且m为0或1.这些化合物具有抗微生物作用并且可用作药物。

公开(公告)号：US5866471A

公开(公告)日：1999-02-02

申请号：US773127

申请日：1996-12-26

申请人： Tatsuro Beppu ,  Shuji Hayase ,  Atsushi Kamata ,  Kenji Sano ,  Toshiro Hiraoka

发明人： Tatsuro Beppu ,  Shuji Hayase ,  Atsushi Kamata ,  Kenji Sano ,  Toshiro Hiraoka

IPC分类号： H01L21/208 ,  H01L31/032 ,  H01L31/0336 ,  H01L31/18 ,  H01L31/20

CPC分类号： H01L31/0749 ,  H01L21/0237 ,  H01L21/02381 ,  H01L21/0242 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02425 ,  H01L21/02521 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02543 ,  H01L21/0256 ,  H01L21/02562 ,  H01L21/02568 ,  H01L21/02576 ,  H01L21/02579 ,  H01L21/02628 ,  H01L31/0322 ,  H01L31/1828 ,  H01L31/1836 ,  H01L31/202 ,  H01L31/206 ,  H01L27/1292 ,  Y02E10/541 ,  Y02E10/543 ,  Y02P70/521

摘要： A silicon thin film is formed by coating on a substrate a solution of polysilane represented by the general formula --(SiR.sup.1.sub.2).sub.n --, where R.sup.1 substituents are selected from the group consisting of hydrogen, an alkyl group having two or more carbon atoms and a .beta.-hydrogen, a phenyl group and a silyl group, and thermally decomposing the polysilane to deposit silicon.

摘要翻译： 通过在基底上涂布由通式 - （SiR 12）n - 表示的聚硅烷溶液形成硅薄膜，其中R 1取代基选自氢，具有两个或多个碳原子的烷基和 β-氢，苯基和甲硅烷基，并热分解聚硅烷以沉积硅。

公开(公告)号：US5696389A

公开(公告)日：1997-12-09

申请号：US402659

申请日：1995-03-13

申请人： Masayuki Ishikawa ,  Hideto Sugawara ,  Yukie Nishikawa ,  Masaaki Onomura ,  Shinji Saito ,  Peter James Parbrook ,  Genichi Hatakoshi ,  Koichi Nitta ,  John Rennie ,  Hiroaki Yoshida ,  Atsushi Kamata

发明人： Masayuki Ishikawa ,  Hideto Sugawara ,  Yukie Nishikawa ,  Masaaki Onomura ,  Shinji Saito ,  Peter James Parbrook ,  Genichi Hatakoshi ,  Koichi Nitta ,  John Rennie ,  Hiroaki Yoshida ,  Atsushi Kamata

IPC分类号： H01L27/15 ,  H01L33/06 ,  H01L33/08 ,  H01L33/10 ,  H01L33/16 ,  H01L33/20 ,  H01L33/28 ,  H01L33/32 ,  H01L33/38 ,  H01L33/40 ,  H01L33/56 ,  H01S5/042 ,  H01S5/183 ,  H01S5/40 ,  H01L29/41 ,  H01S3/19

CPC分类号： H01L33/38 ,  B82Y20/00 ,  H01L33/20 ,  H01S5/18341 ,  H01L27/153 ,  H01L33/0079 ,  H01L33/145 ,  H01L33/382 ,  H01S2301/203 ,  H01S5/0422 ,  H01S5/0425 ,  H01S5/1835 ,  H01S5/347 ,  H01S5/4087

摘要： A light-emitting semiconductor device comprising an n-type cladding layer provided on a surface of a substrate and having concentric first and second parts, a first electrode mounted on the first part of the n-type cladding layer, a p-type cladding layer provided above the surface of the substrate and surrounding the first electrode and the second part of the n-type cladding layer, and a second electrode provided on the p-type cladding layer.

摘要翻译： 一种发光半导体器件，包括设置在基板的表面上并具有同心的第一和第二部分的n型覆层，安装在n型覆层的第一部分上的第一电极，p型覆层 设置在基板的表面上并且包围n型包覆层的第一电极和第二部分，以及设置在p型覆层上的第二电极。

公开(公告)号：US6121540A

公开(公告)日：2000-09-19

申请号：US340038

申请日：1999-06-28

申请人： Hiromitsu Takeda ,  Atsushi Kamata ,  Hiroki Inagaki ,  Seiichi Suenaga

发明人： Hiromitsu Takeda ,  Atsushi Kamata ,  Hiroki Inagaki ,  Seiichi Suenaga

IPC分类号： H01L31/0392 ,  H01L25/00

CPC分类号： H01L31/03921 ,  Y02E10/50

摘要： A composite material substrate comprises a matrix material and a skeleton structure of a fibrous material. The matrix material exclusively participates in the thermal expansion of the substrate and the fibrous material in the mechanical strength thereof. The fibrous material constituting the skeleton structure has no influence on the thermal expansion profile of the matrix material, and the skeleton structure is loosely bonded to the matrix material at their interface. The substrate is used for solar cells. Photoelectric transfer layers of semiconductors are formed on the substrate to fabricate large-sized solar cells.

摘要翻译： 复合材料基材包括基体材料和纤维材料的骨架结构。 基体材料仅在其机械强度中参与基底和纤维材料的热膨胀。 构成骨架结构的纤维状材料对基体材料的热膨胀特性没有影响，骨架结构在其界面松散地结合到基体材料上。 该基板用于太阳能电池。 在基板上形成半导体的光电转移层以制造大型太阳能电池。

公开(公告)号：US6086945A

公开(公告)日：2000-07-11

申请号：US255873

申请日：1999-02-23

申请人： Atsushi Kamata ,  Hiroki Inagaki ,  Seiichi Suenaga ,  Hiromitsu Takeda

发明人： Atsushi Kamata ,  Hiroki Inagaki ,  Seiichi Suenaga ,  Hiromitsu Takeda

IPC分类号： H01L21/205 ,  C23C2/04 ,  C23C2/28 ,  C23C4/04 ,  C23C4/18 ,  C23C26/00 ,  C23C26/02 ,  C23C30/00 ,  H01L21/20 ,  H01L21/208 ,  H01L31/04 ,  H01L31/18 ,  B05D1/02 ,  B05D1/36 ,  B05D3/02

CPC分类号： C23C2/04 ,  C23C2/28 ,  C23C26/00 ,  C23C26/02 ,  C23C30/00 ,  C23C4/04 ,  C23C4/18 ,  H01L21/02376 ,  H01L21/02488 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02579 ,  H01L21/02595 ,  H01L21/02601 ,  H01L21/02625 ,  H01L21/02628 ,  H01L21/02667 ,  H01L31/182 ,  H01L31/186 ,  Y02E10/546 ,  Y02P70/521

摘要： A method of forming a polycrystalline silicon thin layer, which comprises the steps of forming a silicon thin film on a surface of a heat resistant substrate by making use of polycrystalline silicon fine particles as a raw material, and heating the silicon thin film thereby to recrystallize the silicon thin film and hence to enlarge an average particle diameter of the polycrystalline silicon fine particles. The silicon thin film is formed by depositing the polycrystalline silicon fine particles directly on the surface of the substrate, and meets a relationship represented by the following formula (1)W.sub.A /(V.sub.S .multidot.d.sub.S).gtoreq.0.95 (1)wherein W.sub.A is the weight of the polycrystalline silicon fine particles which is actually deposited on the surface of the substrate, V.sub.S is a volume of the silicon thin film which is deposited on the surface of the substrate, and d.sub.S is a density of silicon (Si).

摘要翻译： 一种形成多晶硅薄层的方法，其特征在于包括以下步骤：利用多晶硅微粒作为原料，在耐热基板的表面上形成硅薄膜，加热硅薄膜，使其再结晶 硅薄膜，从而增大多晶硅微粒的平均粒径。 通过将多晶硅微粒直接沉积在基板的表面上形成硅薄膜，满足由下式（1）WA /（VSxdS）> = 0.95（1）表示的关系，其中WA为重量 实际沉积在基板表面上的多晶硅细颗粒，VS是沉积在基板表面上的硅薄膜的体积，dS是硅（Si）的密度。

公开(公告)号：US5604217A

公开(公告)日：1997-02-18

申请号：US463353

申请日：1995-06-05

申请人： Shigeto Negi ,  Motosuke Yamanaka ,  Kanemasa Katsu ,  Isao Sugiyama ,  Yuuki Komatu ,  Atsushi Kamata ,  Akihiko Tsuruoka ,  Yoshimasa Machida

发明人： Shigeto Negi ,  Motosuke Yamanaka ,  Kanemasa Katsu ,  Isao Sugiyama ,  Yuuki Komatu ,  Atsushi Kamata ,  Akihiko Tsuruoka ,  Yoshimasa Machida

IPC分类号： A61K31/545 ,  A61K31/546 ,  A61P31/04 ,  C07D20060101 ,  C07D501/00 ,  C07D501/04 ,  C07D501/06 ,  C07D501/18 ,  C07D501/26 ,  C07D501/28 ,  C07D501/34 ,  C07D501/36

CPC分类号： C07D501/00

摘要： A 7-acyl-3-substituted carbamoyloxy cephem compound represented by the following formula (1): ##STR1## wherein A means a --CH.dbd. or --N.dbd. group; R.sup.1 denotes a hydroxyl, lower alkoxyl, fluorine-substituted lower alkoxyl or protected hydroxyl group; R.sup.2 and R.sup.3 are the same or different and individually represent a lower alkyl, hydroxyl-substituted lower alkyl, a carbamoyl-substituted lower alkyl group or cyano-substituted lower alkyl group, R.sup.2 is a hydrogen atom and R.sup.3 is a lower alkoxyl or alkyl group optionally substituted by one or more halogen atoms or the group ##STR2## means a 4-6 membered heterocyclic group, which contains one nitrogen atom, or a morpholino group, said heterocyclic group or morpholino group being optionally substituted by one or more lower alkyl, hydroxyl and/or hydroxyl-substituted lower alkyl groups; and R.sup.4 denotes a carboxyl or protected carboxyl group; or a pharmaceutically acceptable salt thereof; and a process for the preparation thereof; as well as an antibacterial composition containing the above cephem compound.

摘要翻译： 由下式（1）表示的7-酰基-3-取代氨基甲酰氧基头孢烯化合物：其中A表示-CH =或-N =基团; R1表示羟基，低级烷氧基，氟取代的低级烷氧基或被保护的羟基; R2和R3相同或不同，分别表示低级烷基，羟基取代的低级烷基，氨基甲酰取代的低级烷基或氰基取代的低级烷基，R2是氢原子，R3是低级烷氧基或烷基 任选地被一个或多个卤素原子取代，或者“IMAGE”是指含有一个氮原子或吗啉基的4-6元杂环基，所述杂环基或吗啉基任选被一个或多个低级烷基取代， 羟基和/或羟基取代的低级烷基; R4表示羧基或被保护的羧基; 或其药学上可接受的盐; 及其制备方法; 以及含有上述头孢烯化合物的抗菌组合物。

公开(公告)号：US5587473A

公开(公告)日：1996-12-24

申请号：US671342

申请日：1996-06-27

申请人： Shigeto Negi ,  Motosuke Yamanaka ,  Kanemasa Katsu ,  Isao Sugiyama ,  Yuuki Komatu ,  Atsushi Kamata ,  Akihiko Tsuruoka ,  Yoshimasa Machida

发明人： Shigeto Negi ,  Motosuke Yamanaka ,  Kanemasa Katsu ,  Isao Sugiyama ,  Yuuki Komatu ,  Atsushi Kamata ,  Akihiko Tsuruoka ,  Yoshimasa Machida

IPC分类号： A61K31/545 ,  A61K31/546 ,  A61P31/04 ,  C07D20060101 ,  C07D501/00 ,  C07D501/04 ,  C07D501/06 ,  C07D501/18 ,  C07D501/26 ,  C07D501/28 ,  C07D501/34 ,  C07D501/36 ,  C07D501/22

CPC分类号： C07D501/00

摘要： A 7-acyl-3-substituted carbamoyloxy cephem compound represented by the following formula (1): ##STR1## wherein A means a --CH.dbd. or --N.dbd. group; R.sup.1 denotes a hydroxyl, lower alkoxyl, fluorine-substituted lower alkoxyl or protected hydroxyl group; R.sup.2 and R.sup.3 are the same or different and individually represent a lower alkyl, hydroxyl-substituted lower alkyl, a carbamoyl-substituted lower alkyl group or cyano-substituted lower alkyl group, R.sup.2 is a hydrogen atom and R.sup.3 is a lower alkoxyl or alkyl group optionally substituted by one or more halogen atoms, or the group ##STR2## means a 4-6 membered heterocyclic group, which contains one nitrogen atom, or a morpholino group, said heterocyclic group or morpholino group being optionally substituted by one or more lower alkyl, hydroxyl and/or hydroxyl-substituted lower alkyl groups; and R.sup.4 denotes a carboxyl or protected carboxyl group; or a pharmaceutically acceptable salt thereof; and a process for the preparation thereof; as well as an antibacterial composition containing the above cephem compound.

摘要翻译： 由下式（1）表示的7-酰基-3-取代氨基甲酰氧基头孢烯化合物：其中A表示-CH =或-N =基团; R1表示羟基，低级烷氧基，氟取代的低级烷氧基或被保护的羟基; R2和R3相同或不同，分别表示低级烷基，羟基取代的低级烷基，氨基甲酰取代的低级烷基或氰基取代的低级烷基，R2是氢原子，R3是低级烷氧基或烷基 任选地被一个或多个卤素原子取代，或者“IMAGE”是指含有一个氮原子或吗啉基的4-6元杂环基，所述杂环基或吗啉基任选被一个或多个低级烷基 ，羟基和/或羟基取代的低级烷基; R4表示羧基或被保护的羧基; 或其药学上可接受的盐; 及其制备方法; 以及含有上述头孢烯化合物的抗菌组合物。