公开(公告)号：US07847416B2

公开(公告)日：2010-12-07

申请号：US12498913

申请日：2009-07-07

申请人： Hyun-Soo Chung ,  In-Young Lee ,  Son-Kwan Hwang ,  Dong-Ho Lee ,  Seong-Deok Hwang

发明人： Hyun-Soo Chung ,  In-Young Lee ,  Son-Kwan Hwang ,  Dong-Ho Lee ,  Seong-Deok Hwang

IPC分类号： H01L23/48 ,  H01L23/52 ,  H01L29/40

CPC分类号： H01L25/50 ,  H01L21/76898 ,  H01L25/0657 ,  H01L29/0657 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05548 ,  H01L2224/05567 ,  H01L2224/0557 ,  H01L2224/06181 ,  H01L2224/13025 ,  H01L2224/94 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2225/06541 ,  H01L2225/06555 ,  H01L2225/06586 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01024 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01038 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01074 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01093 ,  H01L2224/11 ,  H01L2224/05552

摘要： Wafer level packages and methods of fabricating the same are provided. In one embodiment, one of the methods comprises forming semiconductor chips having a connection pad on a wafer, patterning a bottom surface of the wafer to form a trench under the connection pad, patterning a bottom surface of the trench to form a via hole exposing the bottom surface of the connection pad, and forming a connecting device connected to the connection pad through the via hole. The invention provides a wafer level package having reduced thickness, lower fabrication costs, and increased reliability compared to conventional packages.

摘要翻译： 提供了晶片级封装及其制造方法。 在一个实施例中，方法之一包括形成在晶片上具有连接焊盘的半导体芯片，图案化晶片的底表面以在连接焊盘下方形成沟槽，图案化沟槽的底表面以形成通孔， 并且通过通孔形成连接到连接垫的连接装置。 本发明提供了与传统封装相比，具有减小的厚度，较低的制造成本和增加的可靠性的晶片级封装。

公开(公告)号：US20070269931A1

公开(公告)日：2007-11-22

申请号：US11752219

申请日：2007-05-22

申请人： Hyun-Soo Chung ,  In-Young Lee ,  Son-Kwan Hwang ,  Dong-Ho Lee ,  Seong-Deok Hwang

发明人： Hyun-Soo Chung ,  In-Young Lee ,  Son-Kwan Hwang ,  Dong-Ho Lee ,  Seong-Deok Hwang

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： H01L25/50 ,  H01L21/76898 ,  H01L25/0657 ,  H01L29/0657 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05548 ,  H01L2224/05567 ,  H01L2224/0557 ,  H01L2224/06181 ,  H01L2224/13025 ,  H01L2224/94 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2225/06541 ,  H01L2225/06555 ,  H01L2225/06586 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01024 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01038 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01074 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01093 ,  H01L2224/11 ,  H01L2224/05552

摘要： Wafer level packages and methods of fabricating the same are provided. In one embodiment, one of the methods comprises forming semiconductor chips having a connection pad on a wafer, patterning a bottom surface of the wafer to form a trench under the connection pad, patterning a bottom surface of the trench to form a via hole exposing the bottom surface of the connection pad, and forming a connecting device connected to the connection pad through the via hole. The invention provides a wafer level package having reduced thickness, lower fabrication costs, and increased reliability compared to conventional packages.

摘要翻译： 提供了晶片级封装及其制造方法。 在一个实施例中，方法之一包括形成在晶片上具有连接焊盘的半导体芯片，图案化晶片的底表面以在连接焊盘下方形成沟槽，图案化沟槽的底表面以形成通孔， 并且通过通孔形成连接到连接垫的连接装置。 本发明提供了与传统封装相比，具有减小的厚度，较低的制造成本和增加的可靠性的晶片级封装。

公开(公告)号：US07897511B2

公开(公告)日：2011-03-01

申请号：US12053478

申请日：2008-03-21

申请人： In-Young Lee ,  Ho-Jin Lee ,  Hyun-Soo Chung ,  Ju-Il Choi ,  Son-Kwan Hwang

发明人： In-Young Lee ,  Ho-Jin Lee ,  Hyun-Soo Chung ,  Ju-Il Choi ,  Son-Kwan Hwang

IPC分类号： H01L21/44

CPC分类号： H01L21/76898 ,  H01L24/11 ,  H01L24/12 ,  H01L24/16 ,  H01L24/81 ,  H01L25/0657 ,  H01L25/50 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05009 ,  H01L2224/0557 ,  H01L2224/06181 ,  H01L2224/11462 ,  H01L2224/13009 ,  H01L2224/13022 ,  H01L2224/13025 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/16 ,  H01L2224/81801 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2225/06541 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01015 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01055 ,  H01L2924/0106 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/04941 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/19043 ,  H01L2224/05552

摘要： A method of manufacturing a semiconductor device includes forming an integrated circuit region on a semiconductor wafer. A first metal layer pattern is formed over the integrated circuit region. A via hole is formed to extend through the first metal layer pattern and the integrated circuit region. A final metal layer pattern is formed over the first metal layer pattern and within the via hole. A plug is formed within the via hole. Thereafter, a passivation layer is formed to overlie the final metal layer pattern.

摘要翻译： 一种制造半导体器件的方法包括在半导体晶片上形成集成电路区域。 在集成电路区域上形成第一金属层图案。 通孔形成为延伸穿过第一金属层图案和集成电路区域。 最终的金属层图案形成在第一金属层图案之上并且在通孔内。 在通孔内形成插头。 此后，形成钝化层以覆盖最终金属层图案。

公开(公告)号：US08482129B2

公开(公告)日：2013-07-09

申请号：US13027594

申请日：2011-02-15

申请人： In-Young Lee ,  Ho-Jin Lee ,  Hyun-Soo Chung ,  Ju-Il Choi ,  Son-Kwan Hwang

发明人： In-Young Lee ,  Ho-Jin Lee ,  Hyun-Soo Chung ,  Ju-Il Choi ,  Son-Kwan Hwang

IPC分类号： H01L23/48

CPC分类号： H01L21/76898 ,  H01L24/11 ,  H01L24/12 ,  H01L24/16 ,  H01L24/81 ,  H01L25/0657 ,  H01L25/50 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05009 ,  H01L2224/0557 ,  H01L2224/06181 ,  H01L2224/11462 ,  H01L2224/13009 ,  H01L2224/13022 ,  H01L2224/13025 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/16 ,  H01L2224/81801 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2225/06541 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01015 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01055 ,  H01L2924/0106 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/04941 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/19043 ,  H01L2224/05552

摘要： A method of manufacturing a semiconductor device includes forming an integrated circuit region on a semiconductor wafer. A first metal layer pattern is formed over the integrated circuit region. A via hole is formed to extend through the first metal layer pattern and the integrated circuit region. A final metal layer pattern is formed over the first metal layer pattern and within the via hole. A plug is formed within the via hole. Thereafter, a passivation layer is formed to overlie the final metal layer pattern.

摘要翻译： 一种制造半导体器件的方法包括在半导体晶片上形成集成电路区域。 在集成电路区域上形成第一金属层图案。 通孔形成为延伸穿过第一金属层图案和集成电路区域。 最终的金属层图案形成在第一金属层图案之上并且在通孔内。 在通孔内形成插头。 此后，形成钝化层以覆盖最终金属层图案。

公开(公告)号：US07777345B2

公开(公告)日：2010-08-17

申请号：US12132925

申请日：2008-06-04

申请人： Ho-Jin Lee ,  Nam-Seog Kim ,  Yong-Chai Kwon ,  Hyun-Soo Chung ,  In-Young Lee ,  Son-Kwan Hwang

发明人： Ho-Jin Lee ,  Nam-Seog Kim ,  Yong-Chai Kwon ,  Hyun-Soo Chung ,  In-Young Lee ,  Son-Kwan Hwang

IPC分类号： H01L23/48

CPC分类号： H01L24/05 ,  H01L23/481 ,  H01L24/03 ,  H01L24/06 ,  H01L24/13 ,  H01L24/32 ,  H01L25/0657 ,  H01L2224/02372 ,  H01L2224/034 ,  H01L2224/036 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05009 ,  H01L2224/05011 ,  H01L2224/05552 ,  H01L2224/05559 ,  H01L2224/05561 ,  H01L2224/05624 ,  H01L2224/05639 ,  H01L2224/05644 ,  H01L2224/05647 ,  H01L2224/06136 ,  H01L2224/06181 ,  H01L2224/08146 ,  H01L2224/32145 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2225/06517 ,  H01L2225/06541 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01014 ,  H01L2924/0102 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/0105 ,  H01L2924/01074 ,  H01L2924/01075 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/19041 ,  H01L2924/00014

摘要： A semiconductor device having a through electrode and a method of fabricating the same are disclosed. In one embodiment, a semiconductor device includes a first insulating layer formed on a semiconductor substrate. A wiring layer having a first aperture to expose a portion of the first insulating layer is formed on the first insulating layer. A second insulating layer is formed on an upper portion of the wiring layer and in the first aperture. A conductive pad having a second aperture to expose a portion of the second insulating layer is formed on the second insulating layer. A through hole with a width narrower than widths of the first and second apertures is formed through the first and second insulating layers and an upper portion of the semiconductor substrate. A through electrode is formed in the through hole.

摘要翻译： 公开了一种具有通孔的半导体器件及其制造方法。 在一个实施例中，半导体器件包括形成在半导体衬底上的第一绝缘层。 具有用于露出第一绝缘层的一部分的第一孔的布线层形成在第一绝缘层上。 第二绝缘层形成在布线层的上部和第一孔中。 具有第二孔径以暴露第二绝缘层的一部分的导电焊盘形成在第二绝缘层上。 通过第一和第二绝缘层和半导体衬底的上部形成宽度比第一和第二孔的宽度窄的通孔。 在通孔中形成贯通电极。

公开(公告)号：US20080230912A1

公开(公告)日：2008-09-25

申请号：US12053478

申请日：2008-03-21

申请人： In-Young Lee ,  Ho-Jin Lee ,  Hyun-Soo Chung ,  Ju-Il Choi ,  Son-Kwan Hwang

发明人： In-Young Lee ,  Ho-Jin Lee ,  Hyun-Soo Chung ,  Ju-Il Choi ,  Son-Kwan Hwang

IPC分类号： H01L23/48 ,  H01L21/4763

CPC分类号： H01L21/76898 ,  H01L24/11 ,  H01L24/12 ,  H01L24/16 ,  H01L24/81 ,  H01L25/0657 ,  H01L25/50 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05009 ,  H01L2224/0557 ,  H01L2224/06181 ,  H01L2224/11462 ,  H01L2224/13009 ,  H01L2224/13022 ,  H01L2224/13025 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/16 ,  H01L2224/81801 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2225/06541 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01015 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01055 ,  H01L2924/0106 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/04941 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/19043 ,  H01L2224/05552

摘要： A method of manufacturing a semiconductor device includes forming an integrated circuit region on a semiconductor wafer. A first metal layer pattern is formed over the integrated circuit region. A via hole is formed to extend through the first metal layer pattern and the integrated circuit region. A final metal layer pattern is formed over the first metal layer pattern and within the via hole. A plug is formed within the via hole. Thereafter, a passivation layer is formed to overlie the final metal layer pattern.

摘要翻译： 一种制造半导体器件的方法包括在半导体晶片上形成集成电路区域。 在集成电路区域上形成第一金属层图案。 通孔形成为延伸穿过第一金属层图案和集成电路区域。 最终的金属层图案形成在第一金属层图案之上并且在通孔内。 在通孔内形成插头。 此后，形成钝化层以覆盖最终金属层图案。

公开(公告)号：US20110147946A1

公开(公告)日：2011-06-23

申请号：US13027594

申请日：2011-02-15

申请人： In-Young Lee ,  Ho-Jin Lee ,  Hyun-Soo Chung ,  Ju-Il Choi ,  Son-Kwan Hwang

发明人： In-Young Lee ,  Ho-Jin Lee ,  Hyun-Soo Chung ,  Ju-Il Choi ,  Son-Kwan Hwang

IPC分类号： H01L23/48 ,  H01L21/768

CPC分类号： H01L21/76898 ,  H01L24/11 ,  H01L24/12 ,  H01L24/16 ,  H01L24/81 ,  H01L25/0657 ,  H01L25/50 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05009 ,  H01L2224/0557 ,  H01L2224/06181 ,  H01L2224/11462 ,  H01L2224/13009 ,  H01L2224/13022 ,  H01L2224/13025 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/16 ,  H01L2224/81801 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2225/06541 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01015 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01055 ,  H01L2924/0106 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/04941 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/19043 ,  H01L2224/05552

摘要： A method of manufacturing a semiconductor device includes forming an integrated circuit region on a semiconductor wafer. A first metal layer pattern is formed over the integrated circuit region. A via hole is formed to extend through the first metal layer pattern and the integrated circuit region. A final metal layer pattern is formed over the first metal layer pattern and within the via hole. A plug is formed within the via hole. Thereafter, a passivation layer is formed to overlie the final metal layer pattern.

摘要翻译： 一种制造半导体器件的方法包括在半导体晶片上形成集成电路区域。 在集成电路区域上形成第一金属层图案。 通孔形成为延伸穿过第一金属层图案和集成电路区域。 最终的金属层图案形成在第一金属层图案之上并且在通孔内。 在通孔内形成插头。 此后，形成钝化层以覆盖最终金属层图案。

公开(公告)号：US20070170556A1

公开(公告)日：2007-07-26

申请号：US11635011

申请日：2006-12-07

申请人： Hyun-Soo Chung ,  Dong-Hyeon Jang ,  In-Young Lee ,  Dong-Ho Lee

发明人： Hyun-Soo Chung ,  Dong-Hyeon Jang ,  In-Young Lee ,  Dong-Ho Lee

IPC分类号： H01L23/495

CPC分类号： H01L24/10 ,  H01L24/13 ,  H01L2224/05001 ,  H01L2224/05022 ,  H01L2224/05024 ,  H01L2224/05548 ,  H01L2224/05557 ,  H01L2224/13 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/14 ,  H05K1/111 ,  H05K3/062 ,  H05K3/3452 ,  H05K3/3457 ,  H05K2201/09745 ,  H05K2203/1184 ,  Y02P70/611 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/05599 ,  H01L2224/05099

摘要： A semiconductor device may include a semiconductor element. A layer of material may be provided on the semiconductor element which may have an opening through which a bond pad may be exposed. At least one flange structure may be provided on the first bond pad, the at least one flange structure made of at least two metal layers with different etch rates.

摘要翻译： 半导体器件可以包括半导体元件。 可以在半导体元件上提供一层材料，该层可以具有可以暴露接合焊盘的开口。 可以在第一接合焊盘上提供至少一个凸缘结构，所述至少一个凸缘结构由具有不同蚀刻速率的至少两个金属层制成。

公开(公告)号：US07830017B2

公开(公告)日：2010-11-09

申请号：US11950251

申请日：2007-12-04

申请人： In-Young Lee ,  Dong-Ho Lee ,  Nam-Seog Kim ,  Hyun-Soo Chung ,  Ho-Jin Lee ,  Myeong-Soo Park

发明人： In-Young Lee ,  Dong-Ho Lee ,  Nam-Seog Kim ,  Hyun-Soo Chung ,  Ho-Jin Lee ,  Myeong-Soo Park

IPC分类号： H01L23/48 ,  H01L23/52

CPC分类号： H01L23/525 ,  H01L23/3114 ,  H01L24/11 ,  H01L24/12 ,  H01L24/16 ,  H01L2224/05001 ,  H01L2224/05008 ,  H01L2224/05026 ,  H01L2224/05124 ,  H01L2224/05147 ,  H01L2224/05166 ,  H01L2224/05548 ,  H01L2224/05569 ,  H01L2224/056 ,  H01L2224/05647 ,  H01L2224/05666 ,  H01L2224/11334 ,  H01L2224/1147 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2224/13144 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/13155 ,  H01L2224/16 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/351 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/013

摘要： Provided are a wafer level chip scale package in which a redistribution process is applied at a wafer level, a manufacturing method thereof, and a semiconductor chip module including the wafer level chip scale package. The wafer level chip scale package includes a semiconductor chip having a bonding pad, a first insulating layer disposed on the semiconductor chip so as to expose the bonding pad, a redistribution line disposed on the exposed bonding pad and the first insulating layer, a sacrificial layer disposed below a redistribution pad of the redistribution line, a second insulating layer disposed on the redistribution line so as to expose the redistribution pad and including a crack inducement hole disposed beside the sacrificial layer, and an external connection terminal attached to the redistribution pad.

摘要翻译： 提供了其中在晶片级应用再分配处理的晶片级芯片级封装，其制造方法以及包括晶片级芯片级封装的半导体芯片模块。 晶片级芯片级封装包括具有接合焊盘的半导体芯片，设置在半导体芯片上以暴露焊盘的第一绝缘层，设置在暴露的焊盘和第一绝缘层上的再分配线，牺牲层 设置在所述再分配线的再分配衬垫的下方，设置在所述再分配线上的第二绝缘层，以暴露所述再分配衬垫并且包括设置在所述牺牲层旁边的裂纹诱导孔，以及附接到所述再分布衬垫的外部连接端子。

公开(公告)号：US07545027B2

公开(公告)日：2009-06-09

申请号：US11448772

申请日：2006-06-08

申请人： Hyun-Soo Chung ,  In-Young Lee ,  Dong-Hyeon Jang ,  Myeong-Soon Park ,  Dong-Ho Lee

发明人： Hyun-Soo Chung ,  In-Young Lee ,  Dong-Hyeon Jang ,  Myeong-Soon Park ,  Dong-Ho Lee

IPC分类号： H01L23/02

CPC分类号： H01L23/3114 ,  H01L23/525 ,  H01L24/02 ,  H01L24/11 ,  H01L24/12 ,  H01L2224/0231 ,  H01L2224/02311 ,  H01L2224/02313 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/10126 ,  H01L2224/1191 ,  H01L2224/13022 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2224/16 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2924/01024 ,  H01L2924/01028 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01046 ,  H01L2924/0105 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/3025

摘要： A wafer level package may include a semiconductor substrate supporting an electrode pad. A first insulating layer may be provided on the semiconductor substrate. The first insulating layer may include a first opening through which the electrode pad may be exposed. A seed metal layer may be provided on an entire surface of the first insulating layer. A redistribution interconnection metal layer may be provided on the seed metal layer. A second insulating layer may be provided on the redistribution interconnection metal layer. The second insulating layer may have a second opening spaced from the first opening to expose a portion of the redistribution interconnection metal layer. The second insulating layer may surround the redistribution interconnection metal layer. An unwanted portion of seed metal layer may be removed using the second insulating layer as an etch mask.

摘要翻译： 晶片级封装可以包括支撑电极焊盘的半导体衬底。 第一绝缘层可以设置在半导体衬底上。 第一绝缘层可以包括第一开口，电极焊盘可以暴露在第一开口中。 种子金属层可以设置在第一绝缘层的整个表面上。 再分布互连金属层可以设置在种子金属层上。 第二绝缘层可以设置在再分布互连金属层上。 第二绝缘层可以具有与第一开口间隔开的第二开口，以暴露再分布互连金属层的一部分。 第二绝缘层可以包围再分布互连金属层。 可以使用第二绝缘层作为蚀刻掩模去除种子金属层的不需要的部分。