半导体器件的制造方法

    公开(公告)号:CN102543893B

    公开(公告)日:2014-12-17

    申请号:CN201010625100.5

    申请日:2010-12-17

    CPC classification number: H01L24/81

    Abstract: 一种半导体器件的制造方法。在一个实施方式中,在暂时固定焊料凸点彼此而使具有第一焊料凸点的第一基板和具有第二焊料凸点的第二基板层叠之后配置到炉内。在对炉内排气以形成减压气氛之后,导入羧酸气体。使导入羧酸气体后的炉内温度上升,并且在由羧酸气体对氧化膜的还原温度以上、并且不到焊料凸点的熔融温度的温度区域内,对炉内排气以构成减压气氛。使炉内温度上升到焊料凸点的熔融温度以上的温度区域,并使第一焊料凸点和第二焊料凸点熔融而接合。

    半导体装置的制造方法及安装装置

    公开(公告)号:CN106531648A

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201610240001.2

    申请日:2016-04-18

    Abstract: 本发明的实施方式提供一种能够使积层所得的半导体芯片间的连接可靠性提升的半导体装置的制造方法及安装装置。根据实施方式,在间隙运算部(7D),基于接合头(2)的Z坐标(Z1、Z2)及半导体芯片(P2)的芯片厚度(T),运算半导体芯片(P1、P2)间的Z轴方向的间隙(G),且在间隙(G)为规格范围内的情形时,使安装装置持续运转,在间隙(G)为规格范围以外的情形时,使安装装置报警停止。

    半导体器件的制造方法

    公开(公告)号:CN102543893A

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN201010625100.5

    申请日:2010-12-17

    CPC classification number: H01L24/81

    Abstract: 一种半导体器件的制造方法。在一个实施方式中,在暂时固定焊料凸点彼此而使具有第一焊料凸点的第一基板和具有第二焊料凸点的第二基板层叠之后配置到炉内。在对炉内排气以形成减压气氛之后,导入羧酸气体。使导入羧酸气体后的炉内温度上升,并且在由羧酸气体对氧化膜的还原温度以上、并且不到焊料凸点的熔融温度的温度区域内,对炉内排气以构成减压气氛。使炉内温度上升到焊料凸点的熔融温度以上的温度区域,并使第一焊料凸点和第二焊料凸点熔融而接合。

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